[发明专利]半导体存储器装置在审

专利信息
申请号: 201911219053.1 申请日: 2019-12-03
公开(公告)号: CN112242396A 公开(公告)日: 2021-01-19
发明(设计)人: 金在泽;郑蕙英 申请(专利权)人: 爱思开海力士有限公司
主分类号: H01L27/11517 分类号: H01L27/11517;H01L27/11551;H01L27/11526;G11C11/34
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 刘久亮;黄纶伟
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 半导体存储器装置。本技术涉及一种半导体存储器装置。该半导体存储器装置包括:多个沟道插塞,其被设置在半导体基板的单元区中;第一虚设区和第二虚设区,该第一虚设区被设置在所述单元区的一个端部处,并且该第二虚设区被设置在所述单元区的另一端部处;第一虚设插塞和第二虚设插塞,所述第一虚设插塞被设置在所述第一虚设区中,并且所述第二虚设插塞被设置在所述第二虚设区中。所述第一虚设插塞的数量与所述第二虚设插塞的数量不同。
搜索关键词: 半导体 存储器 装置
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于爱思开海力士有限公司,未经爱思开海力士有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201911219053.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top