[发明专利]半导体器件及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200710161861.8 申请日: 2007-09-24
公开(公告)号: CN101295711A 公开(公告)日: 2008-10-29
发明(设计)人: 李相熙;曹甲焕 申请(专利权)人: 东部高科股份有限公司
主分类号: H01L27/00 分类号: H01L27/00;H01L23/00
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 郑小军
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种半导体器件及其制造方法,其中根据实施例的半导体器件包括第一组虚设图案和第二组虚设图案,该第二组虚设图案与第一组虚设图案以第二间距分隔开。第一组虚设图案包括多个第一虚设图案,该多个第一虚设图案以第一间距彼此分隔开而形成。第二组虚设图案包括多个第二虚设图案,该多个第二虚设图案以第一间距彼此分隔开而形成。第一虚设图案和第二虚设图案具有相同形状和大小。本发明的半导体器件及其制造方法可以确保图案一致性以及简化设计工艺和制造工艺。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
1、一种半导体器件,包括:第一组虚设图案,包括至少一个第一虚设图案,其中相邻的第一虚设图案以第一间距彼此分隔开;第二组虚设图案,包括至少两个第二虚设图案,其中相邻的第二虚设图案以所述第一间距彼此分隔开,其中,所述第二组虚设图案与所述第一组虚设图案以第二间距分隔开。
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