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[发明专利]研磨方法-CN202210440877.7在审
发明人：李松 -专利权人：华虹半导体（无锡）有限公司
申请日： 2022-04-25 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本发明提供一种研磨方法，包括：首先根据前值影响因素值、后值影响因素值和研磨垫的寿命，设置实际研磨量；然后根据所述实际研磨量获取对应的实际研磨时间，利用IAPC系统按照所述实际研磨时间对晶圆执行N次粗研磨工艺，其中，N为大于或者等于1的整数；最后利用所述IAPC系统对晶圆执行精研磨工艺。本申请根据前值影响因素值、后值影响因素值和研磨垫的寿命来优化IAPC系统的研磨量，在不同的lifetime周期实现研磨量的动态调整，优化现有的反馈逻辑从而实现研磨时间的优化，使随机到站的批量过货的成功率大大提升，避免了平台因为长期不过货造成再次工作时最前几批次的芯片的研磨厚度异常的情况。
研磨方法

[发明专利]研磨钨图案晶圆的化学机械研磨浆料组成物以及使用其研磨钨图案晶圆的方法-CN202080060553.X有效
发明人：李知虎;南沇希;辛奈律;李泳基;李永熙;李锺元 -专利权人：三星SDI株式会社
申请日： 2020-10-28 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：一种研磨钨图案晶圆的化学机械研磨(CMP)浆料组成物以及一种使用其研磨钨图案晶圆的方法。所述化学机械研磨浆料组成物包含：选自极性溶剂及非极性溶剂中的至少一者；磨蚀剂；由式1表示的化合物；及多羧酸，其中在化学机械研磨浆料组成物中，由式1表示的化合物以约0.001重量％至约2重量％的量存在，且多羧酸以约0.001重量％至约5重量％的量存在。
研磨图案化学机械浆料组成以及使用方法

[发明专利]玻璃基板研磨量测量方法及系统-CN201710204159.9在审
发明人：李青;支军令;穆美强;苏记华;杜跃武;段华磊;张云晓;李跃鑫 -专利权人：郑州旭飞光电科技有限公司;东旭光电科技股份有限公司
申请日： 2017-03-30 - 公布日： 2017-06-30 - 主分类号： B24B9/10 文献下载
摘要：本公开涉及一种玻璃基板研磨量测量方法及系统，玻璃基板的边缘进入沿研磨轮周向延伸的研磨槽内，该方法包括确定测量零点，获取研磨前所述研磨轮和所述玻璃基板相接触的研磨位置相对于所述测量零点的第一位置信息，获取研磨后所述研磨轮和所述玻璃基板相接触的研磨位置相对于所述测量零点的第二位置信息，根据所述第一位置信息和所述第二位置信息计算所述玻璃基板的研磨量。通过上述技术方案，该研磨量测量系统和方法能够快速、准确地获取玻璃基板和研磨轮相接触的研磨位置研磨前后的位置信息，工作人员能够准确地根据该位置信息判断研磨量是否合适并进行相应地调整，大大提高了工作效率。
玻璃研磨测量方法系统

[发明专利]载板玻璃研磨用进刀量自动调整装置及调整方法-CN202111588844.9有效
发明人：张云晓;王光祥;杨振邦;任亚辉;贺盼旬 -专利权人：青岛融合光电科技有限公司
申请日： 2021-12-23 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： B24B9/10 文献下载
摘要：本发明公开一种载板玻璃研磨用进刀量自动调整装置及调整方法，属于玻璃加工技术领域，包括载板玻璃、输送机构、定位推进机构、定位检测机构、研磨工作台、研磨机构和研磨控制系统，载板玻璃放置于输送机构上，定位推进机构位于载板玻璃的外侧，在输送的过程中对载板玻璃进行定位和推进，所述定位检测机构位于研磨工作台的外侧与载板玻璃接触实现载板玻璃的位置检测，所述输送机构、定位推进机构、定位检测机构和研磨机构电气连接研磨控制系统，能够在研磨的过程中对玻璃的偏移量进行检测，根据检测到的偏移量调整研磨机构的进刀量，可以让玻璃在发生一定范围偏移的情况下仍可以正常研磨，保持研磨量稳定，确保产品品质。
玻璃研磨进刀自动调整装置方法

[实用新型]一种新型修复高度游标卡尺量爪测量面的滚动研磨器-CN201220322003.3有效
发明人：胡文泉;刘英;丁洋;安立平 -专利权人：天津职业技术师范大学
申请日： 2012-11-30 - 公布日： 2013-04-03 - 主分类号： B24B37/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种修复高度游标卡尺量爪测量面的滚动研磨器。它是在通用研磨器的一个工作面上安装一套滚动组合体。研磨时，通过前后推拉并摆动研磨器，带动滚动组合体自由转动，并使其钢球在平行圆台表面上滚动，实现了对高度游标卡尺量爪测量面进行研磨。由于该装置采用了滚动接触研磨方式，且可在研磨平板上单独对量爪测量面进行研磨，使得研磨时的摩擦阻力明显减小，操作过程省时、省力，研磨质量稳定、可靠。
一种新型修复高度游标卡尺测量滚动研磨

[发明专利]一种自动上料的大豆研磨装置-CN201810960668.9在审
发明人：张海涛 -专利权人：阜阳欣荣食品有限公司
申请日： 2018-08-22 - 公布日： 2018-11-27 - 主分类号： B02C9/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种自动上料的大豆研磨装置，包括壳体和研磨传动机构，所述研磨传动机构贯穿壳体并设置在壳体上部，研磨传动机构下方连接有研磨机构，所述研磨机构设置于壳体内部中间位置，研磨机构下方还设置有下料承载机构，所述下料承载机构安装在壳体内部底面，下料承载机构右方活动连接有上料传动机构，所述上料传动机构与设置于壳体顶部的上料分流机构相配合，不仅节省了人力成本，提高了工作效率，同时实现根据研磨完成的量来决定加入的量，使得研磨缸内部的大豆保持在合适的量，不会出现量太少的情况，从而提升了研磨装置的利用率，达到节能的效果，同时也不会因为量太多造成研磨不充分，提高了研磨的品质。
研磨承载机构研磨机构研磨装置上料下料大豆壳体内部自动上料壳体活动连接有分流机构工作效率壳体顶部壳体上部人力成本研磨缸底面节能贯穿配合

[实用新型]一种自动上料的大豆研磨装置-CN201821359626.1有效
发明人：张海涛 -专利权人：阜阳欣荣食品有限公司
申请日： 2018-08-22 - 公布日： 2019-07-23 - 主分类号： B02C9/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种自动上料的大豆研磨装置，包括壳体和研磨传动机构，所述研磨传动机构贯穿壳体并设置在壳体上部，研磨传动机构下方连接有研磨机构，所述研磨机构设置于壳体内部中间位置，研磨机构下方还设置有下料承载机构，所述下料承载机构安装在壳体内部底面，下料承载机构右方活动连接有上料传动机构，所述上料传动机构与设置于壳体顶部的上料分流机构相配合，不仅节省了人力成本，提高了工作效率，同时实现根据研磨完成的量来决定加入的量，使得研磨缸内部的大豆保持在合适的量，不会出现量太少的情况，从而提升了研磨装置的利用率，达到节能的效果，同时也不会因为量太多造成研磨不充分，提高了研磨的品质。
研磨承载机构研磨机构研磨装置上料下料大豆壳体内部自动上料壳体本实用新型活动连接有分流机构工作效率壳体顶部壳体上部人力成本研磨缸底面节能贯穿配合

[实用新型]一种大豆研磨装置的自动上料机构-CN201821388142.X有效
发明人：张海涛 -专利权人：阜阳欣荣食品有限公司
申请日： 2018-08-22 - 公布日： 2019-07-23 - 主分类号： B02C19/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种大豆研磨装置的自动上料机构，包括壳体和研磨传动机构，所述研磨传动机构贯穿壳体并设置在壳体上部，研磨传动机构下方连接有研磨机构，所述研磨机构设置于壳体内部中间位置，研磨机构下方还设置有下料承载机构，所述下料承载机构安装在壳体内部，下料承载机构上方配合设置有手动上料机构，壳体顶部还设有上料分流机构，不仅节省了人力成本，提高了工作效率，同时实现根据研磨完成的量来决定加入的量，使得研磨缸内部的大豆保持在合适的量，不会出现量太少的情况，从而提升了研磨装置的利用率，达到节能的效果，同时也不会因为量太多造成研磨不充分，提高了研磨的品质。
研磨承载机构研磨机构研磨装置下料自动上料机构大豆壳体内部壳体本实用新型分流机构工作效率壳体顶部壳体上部配合设置人力成本手动上料研磨缸上料节能贯穿

[发明专利]一种咖啡机的研磨系数控制方法-CN201811029243.2在审
发明人：许海滨 -专利权人：苏州咖博士咖啡系统科技有限公司
申请日： 2018-09-05 - 公布日： 2019-01-04 - 主分类号： A47J42/38 文献下载
摘要：本发明公开了一种咖啡机的研磨系数控制方法，通过时间或者转动圈数控制研磨组件研磨咖啡豆，对研磨出的咖啡粉进行称重，按照系统提示进行多次研磨取平均值，提高研磨粉量数据采集精确度，用采集到的研磨量除以研磨机转动时间或转动圈数，即可算出单位出粉量;当用户需要出一定量的咖啡粉时，只需将此数据除以单位出粉量，计算出来的时间或者转动圈数用来控制研磨机转动，即可精准控制研磨机研磨咖啡豆，以保证咖啡机制作每一杯咖啡的品质；当用户喜欢较淡的咖啡，可以在设置项里将研磨系数调小，这样磨量出的粉量变少；当用户喜欢较浓的咖啡，可以在设置项里将研磨系数调大，这样研磨量出的粉量变多，适合每个人。
研磨转动圈数咖啡研磨机咖啡豆系数控制出粉量咖啡粉咖啡机设置项研磨量转动精准控制数据采集系统提示研磨组件用户需要研磨粉称重采集保证

[发明专利]一种硅片研磨去除量测量方法-CN202310271841.5在审
发明人：赵福见;王琪琳;杨志文 -专利权人：上海中欣晶圆半导体科技有限公司
申请日： 2023-03-20 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： H01L23/544 文献下载
摘要：本发明涉及晶圆制造领域，公开了一种硅片研磨去除量的测量方法。本发明中所提供硅片研磨去除量的测量方法，包括如下步骤：在硅片的上表面和下表面分别凹雕标识符号；使用显微镜测量硅片上表面和下表面标识符号的实际深度；对硅片进行双面研磨；研磨过程中抽查测量上表面和下表面的标识符号深度；根据研磨过程中硅片上表面和下表面标识符号的深度变化计算硅片上表面和下表面的研磨去除量，以便根据上表面和下表面研磨去除量的差异，调整研磨工艺参数，保证最终硅片上表面和下表面研磨去除量的一致性，有效地去除损伤层
一种硅片研磨去除测量方法

[实用新型]一种便于控制研磨去除量的游行轮-CN201921041961.1有效
发明人：潘相成;马畅 -专利权人：常州市好利莱光电科技有限公司
申请日： 2019-07-05 - 公布日： 2020-03-10 - 主分类号： B24B37/30 文献下载
摘要：本实用新型提供一种便于控制研磨去除量的游行轮，涉及晶片打磨领域。该便于控制研磨去除量的游行轮，包括研磨腔、主动旋转轴和主动齿轮，所述主动旋转轴转动连接在研磨腔的中心并延伸至研磨腔的下方，主动齿轮固定套接在主动旋转轴位于研磨腔内部的外表面，研磨腔的侧壁开设有环形齿牙，该便于控制研磨去除量的游行轮，将要打磨的晶片卡接在工作孔505内，通过旋转调节按钮5035来改变旋转齿轮5034与齿槽5036的不同啮合点进而调整了上游行片501和下游行片501之间的距离，从而控制了打磨去除量，解决了现有技术中无法控制研磨去除量的问题。
一种便于控制研磨去除游行

[发明专利]一种脱发再生液配方及制备方法-CN201810043438.6在审
发明人：刘文强 -专利权人：刘文强
申请日： 2018-01-17 - 公布日： 2018-06-01 - 主分类号： A61K36/14 文献下载
摘要：本发明公开一种脱发再生液配方及制备方法，包括蝎子、斑鳌、食用白酒、侧柏以及蚂蚁，所述蝎子包含活蝎和干燥蝎全体研磨粉，所述斑鳌包含干燥斑鳌全体和干燥斑鳌足研磨粉，所述蚂蚁为保留七成以上乙酸的蚂蚁全体研磨粉，具体重量份配比为：活蝎：10～14重量份；干燥蝎全体研磨粉：3～5重量份；干燥斑鳌全体：5～7重量份；干燥斑鳌足研磨粉：1～3重量份；蚂蚁全体研磨粉：12～17重量份；食用白酒：87～94重量份；侧柏：6～8重量份。
重量份研磨粉蚂蚁脱发再生液制备配方食用白酒侧柏活蝎乙酸重量份配比生发保留

[发明专利]化学机械研磨浆液组合物及其使用方法-CN01122791.5有效
发明人：李宗和;刘文政;简佑玲;陈书政;陈建清;陈彦良;霍登彦;杨博名 -专利权人：长兴化学工业股份有限公司
申请日： 2001-07-25 - 公布日： 2004-08-18 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明是提供一种用于半导体加工中的化学机械研磨浆液组合物，其包含70至99.5重量％的水性介质；0.1至25重量％的研磨颗粒；0.01至1重量％作为腐蚀抑制剂的三唑化物；及0.001至1重量％的水溶性氯子源本发明研磨浆液组合物中所含水溶液氯离子，可于研磨过程中，磨穿因回火处理而于铜薄膜表面所产生的致密层，以及降低研磨后的铜残留量。本发明的化学机械研磨浆液组合物可进一步包含氧化剂。本发明亦关于该组合物用于研磨半导体晶圆表面的方法。
化学机械研磨浆液组合及其使用方法

[发明专利]一种TFT-LCD玻璃面研磨装置及方法-CN201910327839.9在审
发明人：彭寿;张冲;刘文瑞;李艳 -专利权人：蚌埠中光电科技有限公司
申请日： 2019-04-23 - 公布日： 2019-06-21 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种TFT‑LCD玻璃面研磨装置及方法，其特征在于：增为三组研磨机，每组研磨机采用多头研磨盘，其中研磨机由研磨机台、吸附垫、研磨垫、研磨磨盘组成；研磨磨盘和磨盘轴承为不锈钢或铁材质，研磨垫采用PP发泡材质中加入氧化铈研磨粉，研磨垫的A硬度为20‑90，研磨粉的粒度为6μm以下。选用TFT‑LCD基板玻璃，依次进行粗磨，磨削量为20‑30μm、细磨，磨削量为10‑20μm、精磨磨削量为3‑5μm，使玻璃的粗造度控制在0.05μm以内。本发明的优点：（1）采用多组研磨机台，研磨深度大；（2）采用多头研磨磨盘，提高研磨效率；（3）根据玻璃的测量结果，单独对每个磨盘进行精准调整，保证研磨精度。
研磨磨盘磨削量研磨垫研磨机研磨机台研磨装置研磨粉玻璃多头精准调整研磨效率粗造度铁材质吸附垫研磨盘氧化铈粗磨发泡精磨细磨不锈钢轴承保证

[实用新型]一种咖啡研磨机-CN202320063325.9有效
发明人：章斌 -专利权人：广东顺德祥竣鼎海智能科技有限公司
申请日： 2023-01-07 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： A47J42/34 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种咖啡研磨机，包括研磨装置、盛装杯，所述盛装杯嵌套在研磨装置的输出端上，其特点在于所述盛装杯与研磨装置之间设置有调节盛装杯嵌套量的调节组件。本实用新型上有调节组件，这样能调节盛装杯在研磨装置上的嵌套量，这不仅能调节咖啡研磨机的整体体积，还能达到调节盛装杯盛装量的目的，该咖啡研磨机不仅能便于收纳、携带，还能便于满足研磨不同量的需求，尤其是便于研磨大体积的咖啡粉，其具有易于收纳与携带、便于研磨大体积咖啡粉、适用性强等优点。
一种咖啡研磨机