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[实用新型]一种中医科草药高效研磨装置-CN201620665870.5有效
发明人：张韬 -专利权人：林卓颖
申请日： 2016-06-29 - 公布日： 2016-11-30 - 主分类号： B02C15/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种中医科草药研磨装置，尤其涉及一种中医科草药高效研磨装置。本实用新型要解决的技术问题是提供一种工作量小、研磨快速、研磨彻底的中医科草药高效研磨装置。为了解决上述技术问题，本实用新型提供了这样一种中医科草药高效研磨装置，包括有滑块、滑轨、顶板、安装座、电机、连接杆、左架、连杆Ⅰ、移动块、连杆II、连杆Ⅲ、滑道、进料斗、电控阀、研磨齿、研磨筒、右架、支杆、弧形研磨盘、收集框、支撑杆、底板和转盘；底板顶部左侧设置有左架，左架顶端设置有顶板，顶板底部左侧设置有安装座，安装座底部安装有电机，电机前侧设置有转盘。本实用新型达到了工作量小、研磨快速、研磨彻底的效果。
一种医科草药高效研磨装置

[实用新型]一种偏心研磨装置-CN202222219610.3有效
发明人：熊辉;李佐明;冯战洪;董芳;汪爱芳 -专利权人：湖北华兴机械科技股份有限公司
申请日： 2022-08-23 - 公布日： 2022-11-29 - 主分类号： B24B41/04 文献下载
摘要：一种偏心研磨装置,包括研磨杆（1）、偏心套（2）、偏心磨头（3）和研磨板（4），偏心套（2）的两端分别可拆卸连接在研磨杆（1）和偏心磨头（3）上，偏心磨头（3）的一端设有拨杆（5），研磨板（4）的一侧设有与拨杆本实用新型优点是：通过增加偏心磨头，改变偏心磨头在偏心套上的相对位置，可将偏心磨头的偏心量在一定范围内任意、无极调节，以适应不同阀门的口径、材料对研磨偏心量的不同要求。
一种偏心研磨装置

[发明专利]一种CMP工艺中新品研磨数据的精确计算方法-CN201310455219.6有效
发明人：张礼丽;刘毅 -专利权人：无锡华润上华科技有限公司
申请日： 2013-09-30 - 公布日： 2018-03-30 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：一种CMP工艺中新品研磨数据的精确计算方法，应用于APC系统，按以下规则同步新品的定时程序中控制信息一，旧品TECH、Layer、PPID、Post Target clear ratio和新品相同，则复制旧品；二，clear ratio不同，clear ratio差异在5%以内的任意两笔旧品记录，按公式A的刻开比clear ratio /B和C刻开比clear ratio的平均值=B和C消除前值不同影响的研磨量Table’的平均值/A的研磨量Table；计算出新品A的研磨量Table；A的前值=B、C前值的平均值；三，将A的研磨量Table和前值写入控制信息controller，其它信息数据复制自任意一个选取的旧品
一种 cmp 工艺新品研磨数据精确计算方法

[实用新型]研磨机偏心量调节机构-CN201621306642.5有效
发明人：葛以波;赵陆军;高启;曹永兵 -专利权人：苏州维赛克阀门检测技术有限公司
申请日： 2016-12-01 - 公布日： 2017-06-20 - 主分类号： B24B37/34 文献下载
摘要：本实用新型提供研磨机偏心量调节机构，具体涉及研磨机设备技术领域，包括轮同心机构、偏心机构和研磨机主体，同心机构和偏心机构设置在研磨机主体内，同心机构包括第一主动齿轮，偏心机构包括第二主动齿轮、第一齿轮、、第四齿轮和第一转动套，第二齿轮与第二主动齿轮内啮合连接，第二齿轮与第四齿轮键连接，第一齿轮与第二齿轮内啮合连接，第三齿轮的一端与第二齿轮内啮合，第一转动套设置在第三齿轮外部，第三齿轮的另一端连接偏心量调节机构本实用新型具有提高偏心量研磨效果、且可对偏心量进行调节的优点。
研磨机偏心调节机构

[发明专利]用于立式研磨机的控制方法和控制器-CN200880003059.9有效
发明人：池田充;繁本康弘 -专利权人：宇部兴产机械株式会社
申请日： 2008-01-23 - 公布日： 2009-12-02 - 主分类号： B02C25/00 文献下载
摘要：当减少对立式研磨机(1)的材料供应量时，在实际改变材料供应量之前减少旋转台(2)的转数。换言之，当停止立式研磨机(1)时，在改变对立式研磨机(1)的新材料供应量之前，在控制面板(50)的控制器(50A)处接收到来自锅炉主控制器的改变供应量的信号时，通过逆变器控制将用于驱动旋转台(2)的马达由于可在抑制立式研磨机(1)的工作负荷的同时停止立式研磨机(1)，并且将旋转台(2)上的材料层厚度保持在预定高度，所以在停止操作期间可有效防止异常震动，并可抑制产生噪音。
用于立式研磨机控制方法控制器

[发明专利]感光体再生方法及其装置,感光体,图像形成装置-CN02106993.X有效
发明人：长纲伸儿;齐藤健;须田武男;穴户坚一;成田昌树 -专利权人：株式会社理光
申请日： 2002-03-13 - 公布日： 2002-10-30 - 主分类号： G03G5/00 文献下载
摘要：感光体再生装置用研磨部件110研磨感光体表面,使其再生,设有用于测定使用完的感光体2的表面状态的感光体计测部103以及研磨条件设定部104,上述研磨条件设定部104根据感光体计测部103的测定值设定研磨感光体2表面的研磨部件110的条件。能根据使用完的各感光体的表面状态(摩耗量,附着物的量),设定研磨条件,实施恰好的最合适研磨,当再利用感光体时,能得到无异常图像的良好图像。
感光再生方法及其装置图像形成

[发明专利]玻璃基板的制造方法-CN201280050824.9有效
发明人：西山荣 -专利权人：株式会社NSC
申请日： 2012-10-09 - 公布日： 2014-07-09 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本发明提供一种可以在单片方式的化学研磨装置中将1片薄片状的玻璃基材分割为多个玻璃基板的玻璃基板的制造方法。本发明是适用于以对连续地搬送的多个玻璃基板进行化学研磨处理的方式构成的化学研磨装置的玻璃基板的制造方法。化学研磨装置至少具备搬送部及研磨处理部。在该化学研磨装置中，通过分别调整从上侧向玻璃基材喷射的化学研磨液的量、和从下侧向玻璃基材喷射的化学研磨液的量，而使形成于第一主面的分区槽及形成于第二主面的分区槽在从玻璃基材的厚度方向的中心偏离规定量的位置贯通
玻璃制造方法

[发明专利]研磨液组合物-CN201780060770.7在审
发明人：土居阳彦 -专利权人：花王株式会社
申请日： 2017-09-28 - 公布日： 2019-06-07 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供一种能够确保研磨速度、且提升研磨选择性及抑制研磨不均的研磨液组合物。本发明涉及一种研磨液组合物，其含有氧化铈粒子A、重均分子量为800以上且2800以下的多糖B、以及水。
研磨液组合物研磨氧化铈粒子重均分子量

[发明专利]一种碳化硅晶圆双面研磨中双面去除量的测定方法及应用-CN202210995865.0在审
发明人：冯玉冰;马宁;王胜;顾仁军;汪世峰;胡俊锋;严芹 -专利权人：合肥露笑半导体材料有限公司
申请日： 2022-08-18 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明涉及一种碳化硅晶圆双面研磨中双面去除量的测定方法及应用。其中，测定方法，包括下述步骤：(1)待测碳化硅晶圆切割片，进行大角度倒边，所述的大角度大于40°；(2)测量倒边后的碳化硅晶圆片的双面倒边弧对应弦长度值；(3)倒边后的碳化硅晶圆片在双面研磨设备上，进行晶圆双面研磨加工；(4)双面研磨工艺完成后，取下研磨晶圆片，测量研磨后的双面倒边弧对应弦长度值；(5)根据双面研磨前后倒边弧对应弦长度值，准确计算晶圆双面去除量。
一种碳化硅双面研磨去除测定方法应用

[实用新型]高度卡尺划线量爪刃口修理装置-CN201020227851.7有效
发明人：周炎华;谢磊;张亚江;陈小俊;毛红 -专利权人：武汉钢铁(集团)公司
申请日： 2010-06-11 - 公布日： 2011-01-05 - 主分类号： B24B19/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种高度卡尺划线量爪刃口修理装置，它包括一个与研磨平板配合使用的基座，所述基座上开设有与高度卡尺划线量爪形状相匹配的倒梯形量爪限位槽，所述倒梯形量爪限位槽侧面的基座上设置有延伸至倒梯形量爪限位槽中的固定螺钉，所述倒梯形量爪限位槽梯形斜面一侧的基座上设置有延伸至倒梯形量爪限位槽中的角度微调螺杆。该装置结构简单，操作方便，使用本实用新装置修理高度卡尺划线量爪刃口时，研磨过程轻松，工具的稳定性容易掌握，研磨后产品表面精度质量也得到了保证，并且能节省修理时间，减轻检修人员的劳动强度。
高度卡尺划线刃口修理装置

[发明专利]化学机械研磨方法-CN202010719943.5在审
发明人：金昶圭;张月;杨涛;卢一泓;刘青 -专利权人：中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司
申请日： 2020-07-23 - 公布日： 2020-10-23 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明提供一种化学机械研磨方法，包括：将待研磨晶圆用羊毛毡研磨垫进行第一次研磨，以消除所述待研磨晶圆的高段差；将第一次研磨完毕的晶圆采用聚氨酯研磨垫进行第二次研磨，以完成所述晶圆的平坦化。本发明提供的化学机械研磨方法能够在较大的研磨量下保持半导体晶圆表面的均匀性。
化学机械研磨方法

[发明专利]研磨带-CN98115089.6无效
发明人：冈田今朝男;黑濑茂夫 -专利权人： TDK株式会社
申请日： 1998-04-25 - 公布日： 1999-01-27 - 主分类号： G11B5/40 文献下载
摘要：本发明的研磨带是在可挠曲性支撑体上具有含有以无机质粉末和结合剂为主成分的研磨层的研磨带,由于研磨层所含结合剂含有1)苯氧树脂,和2)数均分子量Mn为20000≤Mn≤100000的聚酯聚氨酯树脂,所以可极大地防止了被研磨物(研磨对象)表面产生研磨损伤,发现研磨带的研磨层剥离很少,而且研磨能力非常优良的效果。
研磨

[发明专利]一种光纤成端设备的研磨压力控制方法-CN202210382532.0在审
发明人：贾梦朝;张毅;周香怜;王俊;陶于翔;陶洋;陈智刚;王少志;徐晓文;高新政;赵志强 -专利权人：重庆邮电大学
申请日： 2022-04-13 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： G05B13/04 文献下载
摘要：本发明属于自动控制技术领域，具体涉及一种光纤成端设备的研磨压力控制方法；该方法包括：根据光纤成端设备的压力结构，得到实际研磨压力；根据设定研磨压力和实时研磨压力计算设定研磨压力和实际研磨压力的误差和误差变化率；将设定研磨压力和实际研磨压力的误差和误差变化率输出到模糊PID控制器中；采用模糊神经网络对模糊PID控制器的参数进行调整，得到精确控制参数；根据精确控制参数计算精确控制量；将精确控制量转变为PWM信号对步进电机进行调整从而对研磨压力进行控制；本发明可提高控制器的反应速度和控制精度，可更好的控制研磨压力，使得光纤成端效果更好，进而提高光信号的传输质量，实用性高。
一种光纤设备研磨压力控制方法

[实用新型]一种定位精准拉制模生产用超声研磨设备-CN201920511147.5有效
发明人：钱正兴 -专利权人：安徽振兴拉丝模有限公司
申请日： 2019-04-16 - 公布日： 2020-04-17 - 主分类号： B08B3/12 文献下载
摘要：本实用新型公开了拉制模研磨技术领域的一种定位精准拉制模生产用超声研磨设备，包括支撑台、电动滑台、超声波发生器和清洗槽，所述电动滑台固定安装于所述支撑台的顶部，所述超声波发生器安装于所述支撑台的顶部后侧，所述电动滑台位于所述支撑台的前侧，设有单片机控制器控制的电动滑台，使用时通过电动滑台来精确控制研磨时的进给量，避免了手工研磨时的误操作，减少产生过度研磨的现象，使用超声波马达驱动研磨轮进行研磨，研磨后的模具平整度好，安装有罩壳，并在罩壳内进行研磨，减少了研磨时粉尘的向外扩散量，集超声波研磨和清洗为一体，研磨完毕后可立即进行超声波清洗，便于使用者进行生产加工。
一种定位精准拉制生产超声研磨设备

[实用新型]一种丙烯酸地坪漆加工用原料研磨设备-CN202122015197.4有效
发明人：常豪;吴泽明;徐荣;闫蕾 -专利权人：上海景江化工有限公司
申请日： 2021-08-25 - 公布日： 2022-03-08 - 主分类号： B02C7/08 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种丙烯酸地坪漆加工用原料研磨设备，包括安装箱、研磨罐和研磨盘，安装箱的内部安装有延伸出的研磨罐，研磨罐内部的底部安装有底磨盘，底磨盘的顶部通过转轴安装有研磨盘，研磨盘的顶部两侧安装有卡槽架本实用新型通过在卡槽架的内部安装有刮板，通过旋转的刮板可将研磨罐内壁粘连的原料进行刮除，保证了研磨罐内壁的洁净性，使其不需要工作人员进行手动清理，不仅减少了工作人员的工作量，同时也便于对研磨罐内壁的原料进行清理收集研磨，避免原料残留造成原料浪费以及影响研磨质量，保证了原料加工的品质，降低了原料的耗损量。
一种丙烯酸地坪工用原料研磨设备