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[实用新型]研磨头运动轨迹控制装置-CN201821882004.7有效
发明人：陆从喜;辛君;吴龙江;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2018-11-15 - 公布日： 2020-03-20 - 主分类号： B24B37/005 文献下载
摘要：一种研磨头运动轨迹控制装置，其中所述研磨头运动轨迹控制装置包括：摆动臂、线性臂和研磨头，其中，所述摆动臂与线性臂连接，所述线性臂与研磨头连接，所述摆动臂用于驱动所述线性臂摆动，所述线性臂用于驱动所述研磨头线性移动本实用新型的研磨头运动轨迹控制装置使得研磨头的运动轨迹为摆动臂和线性臂运动轨迹的组合，使得研磨头的单次移动(或运动)距离可以更长，从而使得研磨过程中的重复移动(或运动)的次数可以减少，提高了研磨的效率。
研磨运动轨迹控制装置

[发明专利]一种大尺寸玻璃多研磨盘清洗装置-CN202010291346.7在审
发明人：高军鹏;谭祖俭 -专利权人：深圳市易天自动化设备股份有限公司
申请日： 2020-04-14 - 公布日： 2020-07-10 - 主分类号： B24B37/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种大尺寸玻璃多研磨盘清洗装置，包括沿玻璃运动方向交错设置的第一研磨机构及第二研磨机构，第一研磨机构及第二研磨机构包括至少二套研磨盘，研磨盘沿垂直于玻璃运动方向直线间隔设置，且第一研磨机构及第二研磨机构的研磨盘沿玻璃运动方向交错设置，第一研磨机构或第二研磨机构上相邻两研磨盘之间的研磨间隙沿玻璃运动方向对应第二研磨机构或第一研磨机构的研磨盘，且研磨间隙的宽度小于研磨盘的直径；玻璃直线运动依次经第二研磨机构及第一研磨机构的研磨盘对玻璃表面全覆盖的研磨清洗本发明通过直线对位交叉设置的多研磨盘体结构设计实现对运动中的玻璃基板自动研磨，且实现了单轴同步驱动旋转，有效保证了研磨同步性。
一种尺寸玻璃研磨清洗装置

[实用新型]一种大尺寸玻璃多研磨盘清洗装置-CN202020545759.9有效
发明人：高军鹏;谭祖俭 -专利权人：深圳市易天自动化设备股份有限公司
申请日： 2020-04-14 - 公布日： 2020-12-25 - 主分类号： B24B37/08 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种大尺寸玻璃多研磨盘清洗装置，包括沿玻璃运动方向交错设置的第一研磨机构及第二研磨机构，第一研磨机构及第二研磨机构包括至少二套研磨盘，研磨盘沿垂直于玻璃运动方向直线间隔设置，且第一研磨机构及第二研磨机构的研磨盘沿玻璃运动方向交错设置，第一研磨机构或第二研磨机构上相邻两研磨盘之间的研磨间隙沿玻璃运动方向对应第二研磨机构或第一研磨机构的研磨盘，且研磨间隙的宽度小于研磨盘的直径；玻璃直线运动依次经第二研磨机构及第一研磨机构的研磨盘对玻璃表面全覆盖的研磨清洗本实用新型通过直线对位交叉设置的多研磨盘体设计实现对运动中的玻璃基板自动研磨，且实现了单轴同步驱动旋转，有效保证了研磨同步性。
一种尺寸玻璃研磨清洗装置

[发明专利]化学机械研磨设备-CN201911308017.2在审
发明人：夏汇哲 -专利权人：华虹半导体（无锡）有限公司
申请日： 2019-12-18 - 公布日： 2020-04-28 - 主分类号： B24B37/005 文献下载
摘要：本申请公开了一种化学机械研磨设备，包括：研磨头、设置有研磨垫的研磨台和包括修整头、导轨和转动轴的研磨垫修整器，当化学机械研磨设备处于工作状态时，磨头在沿研磨垫的直径方向做往复直线运动，修整头在沿导轨的方向做往复直线运动的同时绕转动轴做往复摆动运动本申请通过将研磨头设置为在其工作状态中沿研磨垫的直径方向做往复直线运动，将研磨垫修整器的修整头在其工作状态中沿其导轨的方向做往复直线运动的同时绕其转动轴做往复摆动运动，扩大了研磨垫修整器对研磨垫的修整范围，从而在一定程度上提高了化学机械研磨设备的研磨效率。
化学机械研磨设备

[发明专利]研磨液供给装置-CN202310430555.9有效
发明人：孙婷婷 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2023-04-21 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： B24B57/02 文献下载
摘要：本公开涉及一种研磨液供给装置，应用于化学机械研磨设备，研磨液供给装置包括控制器、运动机构、研磨液供给臂及喷嘴，运动机构安装于化学机械研磨设备上；研磨液供给臂的一端活动安装于运动机构；喷嘴安装于研磨液供给臂的另一端，位于化学机械研磨设备的研磨垫的上方，喷嘴包括连通管部和连通连通管部的扇形出口部，其中，扇形出口部的开度可调节，研磨液经研磨液供给臂及喷嘴分散至研磨垫上；控制器与运动机构、研磨液供给臂及喷嘴均相连，用于控制运动机构、研磨液供给臂及喷嘴中至少一个动作，来改变分散至研磨垫上研磨液的轨迹，避免产生研磨液在研磨垫上堆积及分散不匀的技术问题。
研磨供给装置

[实用新型]化学机械研磨装置-CN201721886404.0有效
发明人：王海宽;林宗贤;吴龙江;郭松辉;吕新强 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2017-12-28 - 公布日： 2018-08-14 - 主分类号： B24B37/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种化学机械研磨装置。所述化学机械研磨装置，包括研磨垫、研磨头以及运动组件，所述运动组件用于驱动所述研磨头平移运动，所述运动组件上固定有一与所述研磨头同步平移运动的传感器，所述研磨头设置在所述传感器在研磨垫上的一闭合投影区域内，用于检测晶圆是否从所述研磨头脱落。本实用新型实现了实时并多角度检测晶圆是否从研磨头上脱落，提高了检测结果的可靠性，避免了在晶圆掉落后因研磨头和研磨盘的持续转动对晶圆造成的损伤。
研磨头晶圆化学机械研磨装置运动组件本实用新型研磨垫传感器半导体制造技术多角度检测持续转动检测结果平移运动同步平移投影区域闭合研磨研磨盘损伤驱动检测

[实用新型]一种卧式摇摆研磨装置及研磨机-CN202120393153.2有效
发明人：黄爱华 -专利权人：东莞市宝桢研磨机械有限公司
申请日： 2021-02-22 - 公布日： 2021-11-09 - 主分类号： B24B37/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种卧式摇摆研磨装置，包括定位座、研磨桶、支撑架及研磨笼和转动机构，研磨桶定位在定位座上，支撑架支撑研磨笼于研磨桶中，转动机构驱动研磨笼转动，定位座上设有支撑研磨桶作复合运动的复合运动机构，研磨桶可通过该复合运动机构相对支撑架作复合运动。本实用新型还公开一种研磨机，包括主机架和上述技术方案中任一项所述的卧式摇摆研磨装置，主机架上设有防护罩罩在所述卧式摇摆研磨装置的外周，所述升降驱动电机和摇摆驱动电机固定在主机架内部。通过上述方式，一种卧式摇摆研磨装置及研磨机，通过控制研磨桶的复合运动，使得研磨物在研磨桶内与研磨料摩擦研磨时可多方向多角度的进行研磨，提升研磨的质量。
一种卧式摇摆研磨装置研磨机

[发明专利]一种研磨仪-CN201110222892.6无效
发明人：盛司潼 -专利权人：盛司潼
申请日： 2011-08-04 - 公布日： 2011-12-21 - 主分类号： G01N1/28 文献下载
摘要：本发明涉及生物及化学设备领域，提供了一种研磨仪。该研磨仪包括：至少一研磨罐和轮式驱动装置。该研磨罐，用于盛放研磨样品的研磨罐；该轮式驱动装置与研磨罐连接，用于驱动研磨罐做圆周运动。轮式驱动装置实现了研磨罐的自转和绕轮式驱动装置公转的圆周运动，上述研磨仪的结构和运动方式达到了研磨仪的结构简单和研磨速度快的效果。
一种研磨

[实用新型]一种首饰加工可达到360度的研磨设备-CN202220344677.7有效
发明人：高雪峰;罗芳军 -专利权人：广州天忆福珠宝有限公司
申请日： 2022-02-18 - 公布日： 2022-09-02 - 主分类号： B24B19/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种首饰加工可达到360度的研磨设备，涉及首饰加工技术领域。本实用新型包括：研磨台，研磨台的顶部用于防止待研磨首饰；研磨机构，研磨机构用于研磨台顶部的待研磨首饰的研磨；第一运动机构，用于研磨机构的旋转以及横向的移动；第二运动机构，用于研磨机构的角度调节以及研磨机构的工作高度，研磨台的顶部还设置有用于限制首饰移动的限制夹具。本实用新型通过第一运动机构，使得研磨机构能够进行360的进行旋转，能够进行横向的运动，使得研磨机构能够更好的对首饰进行加工，通过第二运动机构，使得研磨机构能够进行纵向的升降，使得研磨机构能够调整作业角度
一种首饰加工达到 360 研磨设备

[实用新型]一种医疗用药物研磨装置-CN201620292992.4有效
发明人：杨世芹;赵梅;黄先丽 -专利权人：杨世芹
申请日： 2016-04-08 - 公布日： 2016-08-24 - 主分类号： B02C19/08 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种医疗用药物研磨装置，包括机械运动传导箱、箱体卡槽、卡槽卡扣、压缩弹簧、药物研磨箱、取药口、手持摇杆、运动曲轴、转动轴承、运动齿轮、运动曲轴支撑槽、传动齿轮、传动杆、扇形药物研磨器和药物研磨槽，所述机械运动传导箱右侧设有箱体卡槽，所述箱体卡槽右侧设有卡槽卡扣，所述卡槽卡扣外侧设有压缩弹簧，所述机械运动传导箱下侧设有药物研磨箱，所述药物研磨箱左侧设有取药口，所述机械运动传导箱上侧设有手持摇杆，所述手持摇杆下侧设有运动曲轴。该医疗药物研磨装置体积小巧，使用简单便于操作，可以大大增加工作效率，研磨过程中可以保证药物的充分研磨，可以根据实时的情况来调整研磨的力度、速度以及时间。
一种医疗用药研磨装置

[发明专利]化学机械研磨速率控制方法-CN201210577038.6在审
发明人：李儒兴;李志国;程君;陶仁峰;胡海天 -专利权人：上海宏力半导体制造有限公司
申请日： 2012-12-26 - 公布日： 2013-03-20 - 主分类号： B24B37/005 文献下载
摘要：一种化学机械研磨速率控制方法，其中，在将研磨速率从第一研磨速率调整为第二研磨速率时，不改变研磨垫的旋转速度，并且不改变对晶圆施加的压力，而是将研磨头的摆动的动作从第一运动状态调整为另一运动状态。在将研磨速率从第二研磨速率调整为第一研磨速率时，同样不改变研磨垫的旋转速度，并且不改变对晶圆施加的压力，而是将研磨头的摆动的动作从第二运动状态调整为第一运动状态。
化学机械研磨速率控制方法

[发明专利]基于氧化膜状态主动控制的轴承滚子ELID研磨方法-CN202010729369.1在审
发明人：吕冰海;周亚峰;邵琦;柯明峰;段世祥 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2020-07-27 - 公布日： 2020-12-11 - 主分类号： B24B37/005 文献下载
摘要：一种基于氧化膜状态主动控制的ELID研磨方法，轴承滚子上料完成后上研磨盘下移，对轴承滚子实现稳定加压，同时下研磨盘旋转；轴承滚子研磨切削运动的主运动为滚子与研磨盘工作面的接触线绕滚子轴线的回转运动，用于形成轴承滚子表面；轴承滚子研磨切削运动的进给运动为接触线沿直线沟槽的直线运动，接触线沿直线沟槽的直线进给运动及沿螺旋槽的螺旋运动用于维持研磨盘工作面的面形；在研磨过程中，同时对沟槽进行可控电解，电解电流流经下研磨盘直线沟槽、电解液、上研磨盘形成回路，从而能对连接电源正极的直线沟槽实现电解，使磨粒持续可控露出，实现研磨沟槽在线修锐。
基于氧化状态主动控制轴承滚子 elid 研磨方法

[发明专利]一种纳米材料研磨装置-CN202111391331.9在审
发明人：武春洋 -专利权人：上海格瑞芬纳米科技股份有限公司
申请日： 2021-11-23 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： B02C4/26 文献下载
摘要：本发明适用于纳米材料生产设备技术领域，尤其涉及一种纳米材料研磨装置，包括研磨箱主体、进料孔、下料孔、研磨辊和筛分板，且进料孔和下料孔均开设在研磨箱主体的表面，所述纳米材料研磨装置还包括：驱动组件，用于安装研磨辊，且还用于通过机械传动带动研磨辊沿水平方向移动；以及往复运动结构，设置在驱动组件和研磨箱主体上，用于安装筛分板，且还用于带动筛分板做水平往复运动。本发明通过设置驱动组件和往复运动结构，可以通过在研磨辊运动着研磨材料时，带动筛分板做水平往复运动，以使得筛分板上被研磨的材料快速筛分，且还可以使材料不断的变换位置，以使材料能够被研磨辊充分研磨到。
一种纳米材料研磨装置

[发明专利]基板的研磨装置和基板的处理系统-CN201810151773.8在审
发明人：安田穗积;小畠严贵;高桥信行;作川卓;高田畅行 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2018-02-14 - 公布日： 2018-08-28 - 主分类号： B24B37/07 文献下载
摘要：本发明提供基板的研磨装置和基板处理系统，能够降低单位加工痕迹形状相对于规定的形状的偏差。根据一个实施方式，提供对基板进行局部研磨的研磨装置，具有：与基板接触的加工面比基板小的研磨部件；将研磨部件向基板按压的按压机构；在与基板的表面平行的第一运动方向上对研磨部件施加运动的第一驱动机构；在与第一运动方向垂直且沿与基板的表面平行的方向具有成分的第二运动方向上对研磨部件施加运动的第二驱动机构；以及用于控制研磨装置的动作的控制装置，在研磨基板时，研磨部件构成为与基板接触的区域上的任意点在相同的第一运动方向上运动，控制装置构成为对第一驱动机构和第二驱动机构的动作进行控制以使用研磨部件对基板进行局部研磨
研磨部件基板研磨装置第一驱动机构表面平行基板接触局部研磨控制装置驱动机构对基板施加基板处理系统运动方向垂直按压机构处理系统基板按压加工痕迹研磨基板加工面任意点

[实用新型]一种高精细碳素骨料研磨装置-CN202121362605.7有效
发明人：贺茂兴 -专利权人：山西晋豫融合新材料科技有限公司
申请日： 2021-06-18 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： B02C4/08 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种高精细碳素骨料研磨装置，包括运动底座、运动台以及研磨盘，运动底座顶面滑动连接有两组运动台，每组运动台顶面上均固定连接有一组第一电机，每组运动台靠近其底部均螺纹连接有一组丝杆，两组丝杆固定连接，且两组丝杆的螺纹方向相反，通过第二电机可带动丝杆转动，从而调节两组运动台之间的距离，而运动底座顶面上位于两组运动台之间固定连接有两组研磨台，两组研磨台之间固定连接有研磨筒，研磨筒内部滑动连接有两组研磨盘，每组研磨盘均固定连接有一组动力轴，每组动力轴均与对应的第一电机动力连接，两组研磨台顶部之间对应料区固定连接有粉碎机构。本实用新型具有研磨效果优异，可调节研磨颗粒度的有益效果。
一种精细碳素骨料研磨装置

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