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[发明专利]用以实现高密度高SP3含量层的高功率脉冲磁控溅镀工艺-CN201580045005.9有效
发明人： M·W·斯托威尔;陈咏梅 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-08-14 - 公布日： 2020-04-03 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：该方法可以包括以下步骤：输送溅镀气体到基板，该基板被定位在第一处理腔室的处理区域中，该第一处理腔室具有含碳溅镀靶材；输送能量脉冲到该溅镀气体，以产生溅镀等离子体，该溅镀等离子体具有溅镀持续时间，该能量脉冲具有介于1W/cm2和10W/cm2之间的平均功率及小于100μs并且大于30μs的脉冲宽度，该溅镀等离子体被磁场控制，该磁场小于300高斯；以及输送该溅镀等离子体到该溅镀靶材以形成离子化物种，该离子化物种在该基板上形成结晶含碳层。
用以实现高密度 sp3 含量功率脉冲磁控溅镀工艺

[实用新型]一种镀膜装置-CN201822103567.8有效
发明人：李治蒙;万义兵 -专利权人：深圳汉和智造有限公司
申请日： 2018-12-14 - 公布日： 2019-08-27 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：它包括溅镀室、置物组件和溅镀组件，置物组件包括公转电机、第一辅助轴、第二辅助轴、公转轴、第一公转圆盘、第二公转圆盘、若干自转电机和若干自转轴，溅镀组件包括溅镀嘴和第一磁铁。通过出气口将溅镀室内的气体抽空，使电镀室内形成真空环境，之后再经进气口通入反应气体，溅镀组件作为溅射源，为提高镀膜的质量和减少镀膜的时间，在溅镀嘴的正下方设置一个固定在溅镀室顶部的第一磁铁，进一步控制等离子的行进方向，气体分子与等离子发生反应并沉积在待镀工件上，减少待镀工件的镀膜时间，同时通过自转机构和公转机构不停地轴转，使待镀工件镀膜均匀，提高待镀工件质量的镀膜质量，提高生产效率。
镀膜待镀工件溅镀组件溅镀镀膜装置置物组件辅助轴溅镀室磁铁进气口室内本实用新型等离子发生反应气体公转电机公转机构气体分子生产效率真空环境自转电机自转机构出气口等离子公转轴溅射源自转轴电镀沉积地轴抽空行进

[发明专利]一种应用于溅镀设备中的夹持装置和溅镀设备-CN201910534657.9有效
发明人：谭伟;李金川 -专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2019-06-20 - 公布日： 2021-06-01 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请公开了一种应用于溅镀设备中的夹持装置和溅镀设备，夹持装置包括：夹具，用于将基板和掩膜版对应夹紧；与夹具连接的驱动装置，用于驱动夹具夹紧或松开；其中，夹具上设有与掩膜版的开口的形状和大小相匹配的开口，以在夹具夹紧掩膜版和基板后，夹具靠近掩膜版的一侧在基板上的正投影完全覆盖掩膜版在基板上的正投影，且夹具的开口与掩膜版的开口对位连通，裸露出基板的溅镀区域，以供溅镀设备对基板的溅镀区域进行溅镀。本申请可以避免基板溅镀成膜过程中掩膜版上也被溅镀的膜层覆盖，从而避免了掩膜版翘曲变形、掩膜版上溅镀的膜层脱落污染溅镀腔室以及基板成膜出现阴影的问题。
一种应用于设备中的夹持装置

[发明专利]一种多功能真空镀膜机-CN201910308642.0有效
发明人：王孟良 -专利权人：深圳天成机器有限公司
申请日： 2019-04-17 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：它包括设置有排气口的溅镀室、设置于溅镀室内用于放置待镀工件的置物台和设置于置物台上方用于溅射电离子的溅镀组件。本发明可将该工件放置于溅镀室内的置物台上，再利用抽气装置通过排气口将溅镀室内的空气抽干，同时开启电机，使工件在转台上旋转，溅镀组件的溅镀机构和输气机构也同步启动，给电压棒导入高压电，使位于溅射座上的靶材溅射金属原子，往喷气座内输入溅镀所需的反应气体，使溅镀效率更高，降低电镀工件的时间，两块相吸的磁铁可使游离的金属原子围绕两块磁铁的磁场轨迹运动，提高工件表面镀层的均匀度，降低残次品，同时降低电镀时间成本。
一种多功能真空镀膜

[实用新型]真空溅镀中的遮镀辅助设备的结构-CN200520065207.3无效
发明人：杨雪娇;覃飞祥;吴政道 -专利权人：佛山市顺德区汉达精密电子科技有限公司
申请日： 2005-09-30 - 公布日： 2007-02-28 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型揭示了一种真空溅镀中的遮镀辅助设备的结构，其包括一遮盖部，其设置于基材的溅镀表面的一侧，且部分遮盖该基材的溅镀表面；且上述遮盖部与上述基材的溅镀表面的垂直距离，等于上述遮盖部遮盖延伸到上述基材的溅镀表面的长度由于本实用新型采用了设计辅助设备的方式来控制对基材的表面溅镀，克服了业界对遮镀位置不准确、难于控制等难题；且本实用新型结构简单，具有较佳的实用价值。
真空中的辅助设备结构

[发明专利]一种真空溅镀时防止尖端放电产生的加工工艺-CN202111464803.9在审
发明人：颜玮;王斌;李晓星 -专利权人：海珀（滁州）材料科技有限公司
申请日： 2021-12-03 - 公布日： 2022-03-04 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明涉及刀片真空溅镀领域，具体是一种真空溅镀时防止尖端放电产生的加工工艺，包括绝缘板、刀片表面处理、真空溅镀设备检测和刀片真空溅镀加工，绝缘板包括有粘贴板，粘贴板的顶部设置有橡胶层，橡胶层的顶部设置有聚四氟乙烯膜，聚四氟乙烯膜的顶部设置有丙烯酸胶粘剂，丙烯酸胶粘剂的顶部设置有防静电处理层，防静电处理层的顶部设置有聚乙烯膜，聚乙烯膜的顶部设置有PET隔离膜，刀片真空溅镀包括以下步骤：S1.放置；S2.启动真空泵；S3.启动真空溅镀设备。本发明的有益效果在刀片真空溅镀时防止尖端放电，不仅提高刀片在真空溅镀的质量，提高刀片在真空溅镀加工时的安全性，能避免刀片上出现毛刺现象在真空溅镀时发生尖端放电现象。
一种真空溅镀时防止尖端放电产生加工工艺

[发明专利]三维线路结构及其制造方法-CN201110261825.5无效
发明人：杨维钧;吴煜明;王耀斌;许志和;王新蘅 -专利权人：柏腾科技股份有限公司
申请日： 2011-09-06 - 公布日： 2013-03-20 - 主分类号： H05K3/14 文献下载
摘要：本发明揭露一种三维线路的制造方法，其步骤包括：(A)提供一基材，该基材具有一预定立体构型；(B)在该基材表面形成一溅镀线路基层，其中该溅镀线路基层的线径宽度完整且具有一预定三维图形；(C)在该溅镀线路基层上形成一金属增厚层，使该溅镀线路基层增厚至一预定厚度；其中该具有预定三维图形的溅镀线路基层可作为一天线结构。经上述方法所制造的三维线路结构包括：一基材，该基材具有一预定立体构型；一溅镀线路基层，形成于该基材的表面，其中该溅镀线路基层的线径宽度完整且具有一预定三维图形；一金属增厚层，形成于该溅镀线路基层上，使该溅镀线路基层增厚至一预定厚度；其中该具有预定三维图形的溅镀线路基层可作为一天线结构。
三维线路结构及其制造方法

[发明专利]镀膜装置-CN200910308028.0无效
发明人：裴绍凯 -专利权人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
申请日： 2009-09-30 - 公布日： 2011-04-27 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：一种镀膜装置，其包括镀膜室、承载装置、溅镀装置及蒸镀装置。承载装置包括固定板及用于承载镀膜工件的第一承载盘。固定板将镀膜室分隔成蒸镀腔和溅镀腔溅镀装置设置于溅镀腔内。蒸镀装置与所述蒸镀腔对应连通。所述固定板开设有连通蒸镀腔和溅镀腔的镀膜通孔。第一承载盘可转动地安装于镀膜室内并位于镀膜通孔附近，以使第一承载盘通过转动可选择性地遮蔽或者暴露所述镀膜通孔。从而当所述第一承载盘暴露所述镀膜通孔时，使得第一承载盘承载的镀膜工件暴露于蒸镀腔和溅镀腔中的一个，并且当使得第一承载盘遮蔽所述镀膜通孔时，所述第一承载盘承载的镀膜工件通过镀膜通孔暴露于蒸镀腔和溅镀腔中的另一个
镀膜装置

[发明专利]一种溅镀式透光饰件的制造工艺-CN202010201071.3在审
发明人：余泽民;庄吴钏;李叔明 -专利权人：东莞广华汽车饰件科技有限公司
申请日： 2020-03-20 - 公布日： 2020-06-16 - 主分类号： B29C45/14 文献下载
摘要：本发明涉及汽车装饰件技术领域，尤其公开了一种溅镀式透光饰件的制造工艺，提供透光胶膜及印刷设备，印刷设备在透光胶膜上印刷涂设印刷层；提供遮盖塑料层，将遮盖塑料层贴设在透光胶膜上，印刷层夹持在透光胶膜与遮盖塑料层之间；提供激光雕刻设备，激光雕刻设备对遮盖塑料层及印刷层进行镭射雕刻，雕刻出穿透遮盖塑料层及印刷层的装饰标记；提供溅镀设备，溅镀设备在装饰标记处溅镀出溅镀标记；撕掉溅镀设备溅镀处理后的遮盖塑料层形成饰件单元；简化透光饰件的制造工艺，降低制造成本，提升制造效率；利用镭射雕刻工艺及溅镀工艺的配合，提升透光饰件的装饰多样性。
一种溅镀式透光制造工艺

[发明专利]产品定位溅镀治具-CN201010167757.1无效
发明人：林柏州 -专利权人：赫得纳米科技(昆山)有限公司
申请日： 2010-05-10 - 公布日： 2010-08-25 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本发明公开了一种产品定位溅镀治具，其特征在于，包括一溅镀本体和一定位装置，其中，溅镀本体分为上盖和底座，上盖盖于底座的上部，其内部固定有被溅镀产品，而上述的定位装置则设置在底座的表面上，其同时位于被溅镀产品具有凹槽端的边缘，其与被溅镀产品的距离为0.8～1.2mm。本发明通过固定点来进行定位，通过凸起的点接触或者小面接触来替代较大面的接触，可将碰伤及磨伤区域缩小80％，可有效减少磨白、刮碰磨伤等被溅镀产品的外观问题，同时可将带定位装置的底座与被溅镀产品之间的距离控制在合适的范围内
产品定位溅镀治具

[发明专利]微晶硅薄膜太阳能电池的真空热退火处理背电极技术-CN201110287896.2无效
发明人：陈宏昌;刘幼海;刘吉人 -专利权人：吉富新能源科技(上海)有限公司
申请日： 2011-09-26 - 公布日： 2013-04-03 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明关于一种微晶硅薄膜太阳能电池的真空热退火处理背电极技术，此技术包括玻璃、真空溅镀沉积第一透明导电层薄膜、真空溅镀沉积第一金属层薄膜、真空溅镀沉积第二金属层薄膜、真空热退火处理、与真空溅镀沉积第二透明导电层薄膜先在玻璃上依序真空溅镀沉积第一透明导电层薄膜、真空溅镀沉积第一金属层薄膜、真空溅镀沉积第二金属层薄膜、以真空热退火处理第二金属层薄膜表面平整化后、最后真空溅镀沉积第二透明导电层薄膜。
微晶硅薄膜太阳能电池真空退火处理电极技术

[实用新型]一种溅镀治具-CN201720048051.0有效
发明人：霍凯;陈宥廷 -专利权人：苏州凡特真空溅镀科技有限公司
申请日： 2017-01-16 - 公布日： 2017-07-25 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种溅镀治具，包括溅镀本体，溅镀本体包括上盖和底板，底板上设有定位装置，上盖上设有与定位装置位置对应的定位套，上盖上设有用于溅镀的溅镀通孔，定位装置包括位于边侧的定位轴和和位于底板剩余位置周边的定位框本实用新型的优点是定位轴与定位框的设置，即可方便定位，便于放置被溅镀产品，还由于定位框的设置，还可以避免被溅镀产品的移位；而定位轴套以及定位框套的设置，便于上盖的定位，可快速安全的套结于底板上，节省了时间，也可避免被溅镀产品的刮伤、碰伤。
一种溅镀治具

[发明专利]溅镀系统、在基板上沉积材料的方法及判定溅镀靶材的生命周期的结束的方法-CN201810523374.X有效
发明人：朱玄之;潘建勋;陈彦羽;林群智 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2018-05-28 - 公布日： 2021-06-11 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：提供一种溅镀系统及其方法。在一实施例中，溅镀系统包含接收基板的腔室，位于腔室中的溅镀靶材，以及位于溅镀靶材上方的电磁铁阵列。电磁铁阵列包含多个电磁铁。
系统基板上沉积材料方法判定溅镀靶材生命周期结束

[发明专利]磁控式摇摆扫瞄型溅镀机-CN02132236.8有效
发明人：邓敦和;李正中 -专利权人：瀚宇彩晶股份有限公司
申请日： 2002-09-03 - 公布日： 2004-03-10 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种磁控式摇摆扫瞄型溅镀机，是由溅镀靶、基座以及长形磁铁所组成，溅镀靶的表面设有靶材并与基座相对应，靶材在经过溅镀之后是沉积于基座之上，而长形磁铁则是设置于溅镀靶的背面，并以来回摇摆方式控制靶材的沉积，其中长形磁铁在其二端是分别设有消磁装置，其可以避免长形磁铁二端的磁场强度过强而对溅镀的品质造成影响。
磁控式摇摆扫瞄型溅镀机

[发明专利]溅镀载具及包括该溅镀载具的溅镀装置-CN200910305618.8无效
发明人：王仲培 -专利权人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
申请日： 2009-08-14 - 公布日： 2011-03-30 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明涉及一种溅镀载具及包括该溅镀载具的溅镀装置。该溅镀装置还包括驱动装置。该溅镀载具包括顶盖、底盖、多个容置件及多个挡板。该底盖与顶盖相对。该多个容置件相互隔开，用于收容待镀工件。该驱动装置与该溅镀载具相连，用于驱动该溅镀载具围绕平行于顶盖和底盖中轴线的直线转动，并驱动各容置件还同时绕自身中轴线转动。本发明的溅镀装置可避免靶材之间毒化，提高镀膜品质。
溅镀载具包括装置