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[发明专利]气体反应连续腔及气体反应方法-CN201310249985.7在审
发明人：曾昭隆;廖科峰;邱文鼎;赵子铭;黄世壬;汪宇炎;黎胜;何文福 -专利权人：生阳新材料科技（宁波）有限公司
申请日： 2013-06-20 - 公布日： 2014-12-24 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明提供一种气体反应连续腔以及使用该气体反应连续腔的气体反应方法，该气体反应连续腔包含有依序排列的一预热腔室、一反应腔室及一冷却腔室，各个该腔室位于二隔离装置之间，该数个隔离装置使该数个腔室能呈气密状态，一输送装置位于该数个腔室及隔离装置内，用以带动一受反应物移动进而通过该数个腔室，该数个腔室分别设置用以朝向受反应物的顶面作用而调整其温度的上加热器，反应腔室及冷却腔室分别具有一反应气体输入口；藉此，本发明可使受反应物进行气体反应且具有良好之效率
气体反应连续方法

[发明专利]气体喷嘴、气体反应设备及气体水解反应方法-CN201910466940.2有效
发明人：段先健;王跃林;王成刚;吴春蕾 -专利权人：广州汇富研究院有限公司;湖北汇富纳米材料股份有限公司
申请日： 2019-05-31 - 公布日： 2020-11-20 - 主分类号： B01J19/26 文献下载
摘要：本发明涉及一种气体喷嘴、气体反应设备及气体水解反应方法，该气体喷嘴的喷嘴腔体的侧壁上设有多个燃料气体通道，多个燃料气体通道环绕喷嘴腔体的侧壁设置，从喷嘴进气口通入的混合气体被从多个燃料气体通道通入的燃料气体包围在其中各燃料气体通道朝向喷嘴出气口倾斜，并且，各燃料气体通道还朝向同一时钟方向倾斜。如此，从多个燃料气体通道通入的燃料气体形成向下的锥形螺旋火焰，将从喷嘴进气口的混合气体形成的火焰包裹在其中，从喷嘴出气口喷出。如此，一方面可以保证混合气体进入燃烧区域的温度足够高，使得反应能够进行，另一方面，也可以进一步使燃料气体和原料气体进行混合，保证反应充分。
气体喷嘴反应设备水解方法

[发明专利]气体反应装置-CN201911014278.3在审
发明人：李殷廷;李河圣;崔钟武;金成基 -专利权人：夏泰鑫半导体（青岛）有限公司
申请日： 2019-10-23 - 公布日： 2020-06-26 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明提供一种气体反应装置，包括：反应室；加热装置，用于加热所述反应室；承载台，设置在所述反应室内，所述承载台用于承载多个半导体晶片；气体喷嘴，用于导入反应气体于所述反应室；和管路托架。所述管路托架上设有连接部，所述管路托架为中空结构，所述气体喷嘴的一端通过所述连接部与所述管路托架连通，所述连接部与所述气体喷嘴之间设置缓冲件，所述缓冲件呈环形结构；所述气体喷嘴插接于所述连接部内，所述缓冲件包覆所述气体喷嘴的端面本申请的气体反应装置通过在气体喷嘴和管路托架的连接部之间设置缓冲件，防止气体从连接处泄露，并且能够减少气体喷嘴端部与管路托架摩擦，从而减少颗粒的产生。
气体反应装置

[实用新型]气体反应系统-CN201921310520.7有效
发明人：刘安利;施斌;潘爱庶;朱建忠;胡大才;姚海洋;万敏;高鑫源 -专利权人：国家能源集团宁夏煤业有限责任公司
申请日： 2019-08-09 - 公布日： 2020-06-02 - 主分类号： B01J12/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及气体反应领域，公开了一种气体反应系统，其中，所述气体反应系统包括储气容器(1)、反应容器(2)、输送管路(3)以及吹扫气体容器(4)，所述输送管路(3)上设置有流量计(5)以及主阀门(7)，所述吹扫气体容器(4)通过管线吹扫管路(6)在所述主阀门(7)的下游邻近所述主阀门(7)连接于所述输送管路(3)，并且所述吹扫气体容器(4)通过流量计吹扫管路(8)在所述流量计(5)的上游邻近所述流量计通过上述技术方案，吹扫气体通过两个管路可以分别对输送管路和流量计进行吹扫，提高输送管路中的洁净度，保护流量计不受污染物的影响，延长使用寿命，提高生产安全。
气体反应系统

[实用新型]气体反应装置-CN201821796118.X有效
发明人：李永强;冯长宏;田力;宋旭东;吴煜;陈晗炜;谭燕;刘振强;齐宇 -专利权人：杭州聚光环保科技有限公司
申请日： 2018-11-01 - 公布日： 2019-10-29 - 主分类号： B01J19/24 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种气体反应装置，所述气体反应装置包括钼丝：第一管一端开口一端封闭；第二管一端封闭一端开口，所述第二管的开口端从所述第一管的开口端进入第一管内，第二管的开口端和第一管的封闭端间的距离大于零所述第一管和第二管之间的空间被隔离为第一部分和第二部分，所述第二部分形成在二个密封件之间；进口设置在所述第一管上，且与所述第一部分连通；出口分别设置在所述第一管和第二管上，且与所述第二部分连通；约束件，所述约束件设置所述第二管内，形成正向和反向流动的气体通道；所述钼丝设置在所述第二管内，且处于所述气体通道上。本实用新型具有反应效率高、维护方便等优点。
第二管气体反应装置开口端本实用新型气体通道一端封闭一端开口密封件约束件钼丝连通反向流动反应效率维护方便封闭端管内正向隔离进口出口

[实用新型]气体反应装置-CN202022911811.0有效
发明人：吴铭钦;刘峰 -专利权人：苏州雨竹机电有限公司
申请日： 2020-12-07 - 公布日： 2021-11-16 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型为一种气体反应装置，其应用于面下型(Face Down)的化学气相沉积反应技术。气体反应装置包括一反应腔以及一基板承载装置，基板承载装置设置在反应腔内的上部。气体反应装置特征在于，基板承载装置与反应腔之间形成一快速气流通道，且快速气流通道的高度大于0毫米且小于或等于5毫米。本实用新型将快速气流通道的高度缩减至提供5毫米，以提升快速气流通道内气体流通的速率，减少基板上杂质沉降以及气体的消耗。
气体反应装置

[实用新型]气体反应系统-CN202320697319.9有效
发明人：王昊 -专利权人：北京大学
申请日： 2023-03-31 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： B01J8/02 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种气体反应系统，该气体反应系统包括反应部和分离部，分离部配置成接收反应产物和未反应的反应物，并通过冷凝方式分离反应产物和未反应的反应物，反应部通向分离部的气流路径上设置有隔热透气层，隔热透气层配置成允许气流通过然后并在分离部上冷凝析出，隔热层同时降低反应部向分离部扩散的未反应的反应物的对流、辐射和导热传热损失，从而在冷凝分离产物的同时有效维持反应物的温度。
气体反应系统

[发明专利]基板处理装置、半导体器件的制造方法及程序-CN201410044063.7有效
发明人：竹林雄二;岛田真一;守川敦史 -专利权人：株式会社日立国际电气
申请日： 2014-01-30 - 公布日： 2014-08-06 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：基板处理装置包括：收纳基板的处理室；向基板供给原料气体的原料气体供给系统；经第1反应气体供给管向基板供给反应气体的第1反应气体供给系统；经与第1反应气体供给管连接的第2反应气体供给管向基板供给反应气体的第2反应气体供给系统，在第2反应气体供给管设有储存反应气体的气体积存部，经该气体积存部向基板供给反应气体；控制部，控制原料气体供给系统、第1反应气体供给系统及第2反应气体供给系统，进行向基板供给原料气体的处理、和从第1反应气体供给管及第2反应气体供给管向基板供给反应气体的处理。
处理装置半导体器件制造方法程序

[实用新型]一种微量气体反应检测装置-CN202020969316.2有效
发明人：陈秋妮;周利民;朱广娇 -专利权人：昆明理工大学
申请日： 2020-06-01 - 公布日： 2020-12-01 - 主分类号： G01N33/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种微量气体反应检测装置，属于气固反应检测技术领域。该装置包括气体发生装置、气体流量控制装置、固气反应装置和尾气吸收装置，气体发生装置通过气体导管I与气体流量控制装置的气体入口连通，气体流量控制装置的气体出口通过气体导管II与固气反应装置的气体入口连通，固气反应装置的气体出口通过气体导管III与尾气吸收装置连通。气体发生装置产生的待反应目的气体通过气体流量控制装置调节流量，与固气反应装置中的固体反应物反应，未反应的目的气体进入尾气吸收装置中吸收，通过测定反应前气体中目的气体的含量以及反应后气体中目的气体的含量，经过差减法计算出目的气体反应量。
一种微量气体反应检测装置

[发明专利]用于半导体工艺件处理反应器的气体分布装置及其反应器-CN200610117260.2有效
发明人：陈爱华;王树林;何乃明;尹志尧;吕青;傅丽 -专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
申请日： 2006-10-18 - 公布日： 2007-10-24 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明公开一种气体分布装置，包括反应气体供应板、至少一反应气体分布板以及反应气体传送面板，其中反应气体供应板与至少第一种和第二种反应气体相连通；反应气体分布板与反应气体供应板相连接，并使第一种和第二种反应气体中的至少一种在反应气体分布板中获得均匀地分布扩散；反应气体传送面板与反应气体分布板相连接；在第一种和第二种反应气体分别经过反应气体供应板、反应气体分布板和反应气体传送面板的过程中，第一种和第二种反应气体一直保持隔离，最后以均匀的分布方式逸出反应气体传送面板本发明的气体分布装置可以有效改善沉积于半导体工艺件上的薄膜性能。本发明还公开了一种使用该气体分布装置的半导体工艺件处理反应器。
用于半导体工艺处理反应器气体分布装置及其

[发明专利]增加原子层沉积速率的方法-CN02149043.0有效
发明人：吴志远;林国楹;蔡嘉雄 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2002-11-20 - 公布日： 2004-06-09 - 主分类号： H01L21/20 文献下载
摘要：首先，提供一基底于一原子层沉积反应室中，通过第一反应气体入口导入第一反应气体，使第一反应气体化学吸附于基底上；然后，导入惰性气体来吹净原子层沉积反应室内部，但仍残留部分第一反应气体于原子层沉积反应室中；接着，通过第二反应气体入口导入第二反应气体，使第二反应气体与吸附于基底上的第一反应气体产生化学反应，并且同时地第二反应气体与残留的第一反应气体产生化学反应，因而形成一化合物层于基底上；之后，导入惰性气体来吹净原子层沉积反应室内部，但仍残留部分第二反应气体于原子层沉积反应室中。
增加原子沉积速率方法

[发明专利]气体反应腔室-CN202310222577.6在审
发明人：请求不公布姓名 -专利权人：芯视界（北京）科技有限公司
申请日： 2023-03-09 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： G01N21/03 文献下载
摘要：本发明提供一种气体反应腔室，采用本发明的气体反应腔室，能够改变反应部在流体中的相对位置，以此提高气体比色反应的反应程度，进而提高检测信号强度。所述气体反应腔室具有进气口、出气口以及反应室，所述反应室用于收纳测试膜，所述测试膜包括：基底面；以及多个凸起结构，所述多个凸起结构自所述基底面凸起，在所述多个凸起结构的顶面上设有用于与气体进行反应的反应部，其中，所述气体由所述进气口进入所述反应室，沿所述基底面的设有所述多个凸起结构的一侧流向所述出气口。
气体反应

[发明专利]反应气体除尘装置-CN201310380100.7无效
发明人：徐永安;罗逸之;罗名扬 -专利权人：宁波榕大环保装备有限公司
申请日： 2013-08-28 - 公布日： 2013-12-25 - 主分类号： B01D47/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种反应气体除尘装置，包括一筒体（1），所述的筒体（1）上设有进气口（2）、出气口（3）、液体入口（4）和液体出口（5），所述液体出口（5）的高度低于液体入口（4）的高度；所述的进气口（2）上述反应气体除尘装置能够过滤裂解气体中固体粉尘。
反应气体除尘装置

[实用新型]气体合成反应装置-CN201520167470.7有效
发明人：马高飞;刘华伟;陈伟建;钱胜涛;双建永;王先厚;张国建;孔渝华;王志峰;毛俊楠;高军;胡四斌;夏吴;黄建军 -专利权人：中国五环工程有限公司;华烁科技股份有限公司
申请日： 2015-03-24 - 公布日： 2015-08-19 - 主分类号： B01J8/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种气体合成反应装置，解决了现有气体合成反应装置存在的体积大、气体分布和接触不均，反应效率低、反应物收率低的问题。本实用新型结构简单、体积小、副反应少、气体分布均匀，反应效率高，反应物收率和选择性好。
气体合成反应装置

[实用新型]气体反应连续腔-CN201320360231.4有效
发明人：曾昭隆;廖科峰;邱文鼎;赵子铭;黄世壬;汪宇炎;黎胜;何文福 -专利权人：生阳新材料科技（宁波）有限公司
申请日： 2013-06-20 - 公布日： 2013-12-11 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：一种气体反应连续腔，包含有依序排列的一预热腔室、一反应腔室及一冷却腔室，各个该腔室位于二隔离装置之间，这些隔离装置使该数个腔室能呈气密状态，一输送装置位于该数个腔室及隔离装置内，用以带动一受反应物移动进而通过该数个腔室，该数个腔室分别设置用以朝向受反应物的顶面作用而调整其温度的上加热器，反应腔室及冷却腔室分别具有一反应气体输入口；藉此，本实用新型可使受反应物进行气体反应且具有良好的效率。
气体反应连续

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