专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种空间可调的-CN202120496896.2有效
  • 王光华 - 赫得纳米科技(昆山)有限公司
  • 2021-03-09 - 2022-01-18 - C23C14/34
  • 本实用新型公开了一种空间可调的机,仓,所述仓的一侧连接有气体入口,所述仓的另一侧连接有抽真空排气口,所述仓顶部的下端面上连接有阳极电极,所述仓底部的下端面上连接有阴极电极,所述阴极电极的底部连接有安装板,所述安装板的下端面连接有支撑杆,所述仓的底部设有与所述支撑杆匹配的通孔,所述支撑杆可滑动连接在所述通孔内,所述支撑杆的底端连接有驱动机构,所述驱动机构驱动所述支撑杆沿所述通孔滑动,所述支撑杆带动所述安装板和所述阴极电极进行升降,从而调节空间的大小,使所述机可适应不同大小和不同需求工件,增强适用性。
  • 一种空间可调溅镀机
  • [实用新型]片式电容器芯片真空组合模具-CN201220335629.8有效
  • 黎国强 - 黎国强
  • 2012-07-11 - 2013-02-20 - H01G13/00
  • 本实用新型涉及一种片式电容器芯片真空组合模具,包括上模板、中模板及下模板,中模板上设有数个直通孔用于放置需的片式电容器芯片,上模板上对应中模板的数个直通孔分别设有数个第一通孔,第一通孔包括靠近中模板的第一定位段及远离中模板的第一段,第一段的孔径小于第一定位段的孔径,下模板上对应中模板的数个直通孔分别设有数个第二通孔,第二通孔包括靠近中模板的第二定位段及远离中模板的第二段,第二段的孔径小于第二定位段的孔径。该片式电容器芯片真空组合模具结构简单,组合多变,适用于对多规格片式电容器芯片进行真空镀金属电极,使用方便、制作精度高、制作效率高且成本低。
  • 电容器芯片真空组合模具
  • [发明专利]基材固持装置-CN200710201260.5无效
  • 骆世平 - 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
  • 2007-08-02 - 2009-02-04 - C23C14/50
  • 本发明涉及一种基材固持装置,其用于在过程中对基材进行固持,所述基材具有一表面及一与所述表面相邻的侧面,所述基材固持装置包括一个用于承载所述基材的基板;多个夹持单元,其环绕所述基材分布在基板上所述基材固持装置通过设置多个夹持单元以分别从所述基材的侧面抵持住该基材,从而可于过程中对所述基材起固持作用,并可避免基材的表面在时被遮盖住,进而可使所述基材获得较佳的效果。
  • 基材装置
  • [实用新型]导通贯孔的薄膜结构-CN201020194196.X有效
  • 游敬峰 - 柏腾科技股份有限公司
  • 2010-05-11 - 2011-02-02 - H05K9/00
  • 本实用新型提供一种导通贯孔的薄膜结构,包括:一基材,具有一第一表面及一第二表面,以及具有一预定厚度;至少一贯孔,开设于该基材的预定位置以贯通该基材的第一表面及第二表面,且该贯孔具有一预定孔径;一第一薄膜,经由形成于该基材的第一表面;一第二薄膜,经由形成于该基材的第二表面;该基材的预定厚度与该贯孔的预定孔径成一预定比例,使其进行制程时,可使第一薄膜与/或第二薄膜可延伸包覆至该贯孔的孔壁达到一预定深度,使第一薄膜与第二薄膜彼此接触。
  • 导通贯孔薄膜结构
  • [发明专利]清洁机的方法-CN200610081716.4有效
  • 蔡吉雄;王国庭;陈伯威 - 友达光电股份有限公司
  • 2006-05-10 - 2006-10-11 - C23C14/34
  • 一种清洁机的方法。机包含反应室、阴极、基座与载具。阴极设置于反应室内,且其具有靶。基座置于反应室内并相对应于靶,用以承载基板。载具用于将基板传送进入反应室。本方法包含提供玻璃以外材质的监控基板,其具有粗糙面,接着利用载具将此监控基板传送进反应室,并置于基座上,进行工艺,然后用载具将监控基板移出反应室,回收处理监控基板。
  • 清洁溅镀机方法
  • [发明专利]一种BGA产品的磁控溅射方法-CN201910809187.2有效
  • 邢发军;许伟;马国海;张明俊;李全兵 - 江苏长电科技股份有限公司
  • 2019-08-29 - 2021-07-27 - C23C14/35
  • 本发明涉及一种BGA产品的磁控溅射方法,所述方法包括以下步骤:步骤一、取一BGA产品,在BGA产品的基板的锡球外围靠近边缘位置开设有一圈凹槽;步骤二、取一治具,在治具表面设计一圈连续的支撑坝,支撑坝的位置和大小与基板的凹槽相配合;步骤三、将BGA产品放置于治具上进行,产品底面凹槽搁置于治具的支撑坝上,在锡球区域形成一个内部密闭空间,同时锡球不与治具接触。本发明通过对BGA基板和治具的结构设计,可以实现过程中产品锡球不被,工艺简单,不需使用胶带耗材,作业性强,节约成本。
  • 一种bga产品磁控溅射方法
  • [发明专利]磁控阴极-CN200910006545.2无效
  • 朱冠宇 - 胜华科技股份有限公司
  • 2009-02-17 - 2010-08-18 - C23C14/35
  • 一种磁控阴极,该磁控阴极包含一金属管,该金属管为一中空圆管,于该金属管内设有复数磁铁组件,该复数磁铁组件用以于该金属管表面形成复数区,每一区对应于一基板,该复数区分别具有一磁通道,且各区的磁通道相互连通形成一封闭回路,利用该磁通道导引电子于此封闭回路循环移动,可透过单一磁控阴极同时针对多个基板进行镀膜,避免二次电浆浪费,减少功率及靶材损失,同时可减少被出的靶材原子分子沉积于磁控阴极后方腔体壁的机率,提高靶材使用率
  • 磁控溅镀阴极
  • [发明专利]再生靶材及其制作方法-CN200910008926.4无效
  • 王子文;詹智尧;廖浩嘉 - 光洋应用材料科技股份有限公司
  • 2009-02-12 - 2010-08-18 - C23C14/34
  • 本发明是一种再生靶材及其制作方法。该方法包括提供一回靶材,其含有一背面、一蚀面及一周缘,该蚀面包含至少一蚀面沟槽;在该回靶材的背面进行机械加工前处理;在该回靶材的蚀面上及其蚀面沟槽内以及回靶材的周缘覆盖与该回靶材的组成成分相同的原料粉末,并进行预压及烧结的处理,以获得该再生靶材。本发明能控制该再生靶材内的回靶材比重,使得第一次回靶成分的比重逐渐下降,达到汰旧换新,并保持该再生靶材的质量。
  • 再生溅镀靶材及其制作方法

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