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[发明专利]一种光掩模制备方法-CN201410113716.2在审
发明人：田明静 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2014-03-25 - 公布日： 2015-09-30 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种光掩模制备方法，所述光掩模制备方法至少包括曝光步骤，所述曝光步骤包括：提供表面依次沉积有遮光层和光刻胶层的透明基板，采用曝光设备对所述光刻胶层进行第一次曝光，在所述光刻胶层上形成阵列排列的方型或线型曝光区；在所述方型曝光区的四个拐角处或线型曝光区的两侧边缘进行第二次曝光；其中，所述第一次曝光的曝光量低于正常曝光量，所述第二次曝光的曝光量与第一次曝光的曝光量之和高于正常曝光量。本发明通过对边缘或拐角进行两次不同剂量的曝光，避免制备的方型光掩模图案拐角圆化，并且使线型曝光区的边缘具有高的保真度。
一种光掩模制备方法

[发明专利]分区对位模式的拼版曝光装置及其曝光方法-CN201811125799.1在审
发明人：蔡志国;徐乡;王志 -专利权人：苏州微影激光技术有限公司
申请日： 2018-09-26 - 公布日： 2019-01-25 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明涉及光学设备领域，解决现有技术的PCB板曝光设备曝光效率低的问题。包括有底座，设置在底座上曝光平台，用于PCB板Mark点识别的摄像头，以及PCB板曝光的曝光装置，曝光平台上分别设有两组用于放置PCB板的左PCB板定位条和右PCB板定位条，摄像头支架上对应左曝光区和右曝光区分别设有一个摄像头，摄像头滑动设置在摄像头支架上；曝光装置支架上对应左曝光区和右曝光区分别设有一个以上的曝光装置，底座上设有驱动曝光平台垂直摄像头支架和曝光装置支架移动的曝光平台驱动机构。可以同时对两块PCB板进行mark取点，同时对两块PCB板曝光，增加曝光平台利用率，同时提高了曝光效率，提升了制板产能。
曝光平台曝光装置曝光区摄像头支架摄像头底座曝光效率定位条曝光光学设备滑动设置曝光设备驱动机构支架移动右PCB板左PCB板产能对位两组拼版取点支架制板垂直分区驱动

[发明专利]一种乳腺机及乳腺机自动曝光控制方法-CN201710279048.4在审
发明人：邹鲁民 -专利权人：北京友通上昊科技有限公司
申请日： 2017-04-25 - 公布日： 2017-07-28 - 主分类号： A61B6/00 文献下载
摘要：本发明实施例提供了一种乳腺机及乳腺机自动曝光控制方法，乳腺机包括高压发生器、DIOS自动曝光控制装置、DIOS控制装置、压力控制装置及终端等部件；压力控制装置使目标物压迫至最佳压迫强度，并将目标物的厚度传输至终端，终端根据目标物的厚度计算出最佳的曝光参数，通过DIOS控制装置，传输曝光参数中的曝光时间长度至DIOS自动曝光控制装置，传输曝光参数中的电流值和电压值至高压发生器；高压发生器按所获得的曝光参数产生X射线进行曝光，当曝光时间到达DIOS自动曝光控制装置所获得的曝光时间长度后，DIOS自动曝光控制装置控制高压发生器结束曝光，本发明实施例，实现了自动曝光控制，避免了人为设定曝光参数所造成的过曝光或欠曝光的问题。
一种乳腺自动曝光控制方法

[发明专利]一种监控曝光机曝光能量的装置-CN202011348478.5在审
发明人：韩少华;王健;杨洁;孙彬;沈洪;李晓华 -专利权人：江苏上达电子有限公司
申请日： 2020-11-26 - 公布日： 2021-01-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种监控曝光机曝光能量的装置，属于线路板制造技术领域。包括曝光灯、干板平台区域、曝光后传输装置、承载产品平台、曝光测量仪器平台和处理控制传输器，所述的曝光灯设置在干板平台区域的上方，曝光后传输装置设置在干板平台区域下方，承载产品平台设置在曝光后传输装置的下方，曝光后传输装置和承载产品平台的中间设置曝光测量仪器平台，曝光测量仪器平台连接处理控制传输器，曝光测量仪器平台对曝光灯的曝光量进行收集。本发明的有益效果是：曝光检测仪器可以通过对曝光能量的监控，控制曝光能量的问题，造成批量的线路不良问题。减少人为的去检测曝光能量，实现检测自动化。
一种监控曝光能量装置

[发明专利]一种曝光距离调整方法及装置-CN201710596794.6有效
发明人：王辉;王志强;郭光龙;唐星;廖务义 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
申请日： 2017-07-20 - 公布日： 2018-09-07 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提出一种曝光距离调整方法及装置，其中，曝光距离调整方法包括：根据玻璃基板厚度，设定探测器的探测范围，若所需的目标曝光间距处于探测范围外，设定处于探测范围内的中介曝光间距。并在控制探测器依据探测范围探测曝光距离的过程中，控制曝光机调整曝光距离，直至探测器探测到的曝光距离达到中介曝光间距。再根据目标曝光间距与中介曝光间距的差值，继续控制曝光机调整曝光距离，以使调整后的曝光距离达到目标曝光间距。因此，可以通过设定排除玻璃厚度干扰波的探测范围，避免了探测器宕机情况的出现，从而实现了薄玻璃基板情况下的曝光距离调整。解决了现有技术中接近式曝光机难以完成薄玻璃基板的曝光工艺的技术问题。
曝光距离探测曝光探测器薄玻璃基板曝光机中介接近式曝光控制探测器玻璃基板曝光工艺干扰波宕机玻璃

[发明专利]一种快速测算感光胶基准曝光能量的工艺方法-CN202010163548.3有效
发明人：成建文;鄢晓姣;刘成武;李逢磊 -专利权人：田菱精密制版(深圳)有限公司
申请日： 2020-03-10 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种快速测算感光胶基准曝光能量的工艺方法，即将感光胶均匀地涂布在曝光网版上；然后选择曝光机和能量计并设定曝光参数后将曝光网版放入曝光机进行曝光；在曝光过程中同时记录光照数据然后针对记录的数据计算感光胶的基准曝光能量采用曝光机对新型感光胶直接曝光，并记录曝光能量或曝光时间来进行计算基准曝光能量的工艺方法，在进行测试的过程中减少了曝光测试的次数，减少曝光时长，又能够更快地找到一种新型感光胶的基准曝光能量。且在计算感光胶基准曝光能量的同时节省了在检测过程中所消耗的材料和时间，节约了生产成本，还提高了检测基准能量的精确度。
一种快速测算感光基准曝光能量工艺方法

[发明专利]效果广告的反作弊的计费方法、装置及存储介质-CN202110590235.0有效
发明人：张沛然 -专利权人：北京奇艺世纪科技有限公司
申请日： 2021-05-28 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G06Q30/0273 文献下载
摘要：本发明实施例提供了一种效果广告的反作弊的计费方法、装置及存储介质，所述方法包括：接收目标广告的广告曝光跟踪请求，广告曝光跟踪请求中携带有所述目标广告的第一曝光区域；根据所述第一曝光区域确定所述目标广告的曝光面积，并判断所述曝光面积是否满足面积约束；若所述曝光面积满足面积约束，确定所述目标广告的曝光为非作弊曝光，并将所述目标广告的曝光量加1。如此通过广告曝光跟踪请求中携带的目标广告的第一曝光区域，可以确定目标广告的曝光为非作弊曝光，避免媒体应用广告曝光的作弊行为，且在目标广告的曝光面积满足面积约束的情况下，将目标广告的曝光量加1，可以提升目标广告的曝光量统计的准确性
效果广告作弊计费方法装置存储介质

[实用新型]一种监控曝光机曝光能量的装置-CN202022777021.8有效
发明人：韩少华;王健;杨洁;孙彬;沈洪;李晓华 -专利权人：上达电子（深圳）股份有限公司
申请日： 2020-11-26 - 公布日： 2021-06-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种监控曝光机曝光能量的装置，属于线路板制造技术领域。包括曝光灯、干板平台区域、曝光后传输装置、承载产品平台、曝光测量仪器平台和处理控制传输器，所述的曝光灯设置在干板平台区域的上方，曝光后传输装置设置在干板平台区域下方，承载产品平台设置在曝光后传输装置的下方，曝光后传输装置和承载产品平台的中间设置曝光测量仪器平台，曝光测量仪器平台连接处理控制传输器，曝光测量仪器平台对曝光灯的曝光量进行收集。本实用新型的有益效果是：曝光检测仪器可以通过对曝光能量的监控，控制曝光能量的问题，造成批量的线路不良问题。减少人为的去检测曝光能量，实现检测自动化。
一种监控曝光能量装置

[发明专利]一种视频流水线的处理方法及装置-CN201911248424.9有效
发明人：董书莉;郭进一;董方;刘冰洁;张润鑫;李阳;杨翊东;张斐然;常淞泓;武文波;李春梅 -专利权人：北京空间机电研究所
申请日： 2019-12-09 - 公布日： 2021-07-13 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：所述方法包括：获取空间飞行器对应的长曝光图像和短曝光图像；获取所述长曝光图像对应的第一曝光时间，及所述短曝光图像对应的第二曝光时间；根据所述第一曝光时间和所述第二曝光时间，计算得到过曝光区域、欠曝光区域、曝光良好区域和曝光盲区；根据所述过曝光区域、所述欠曝光区域、所述曝光良好区域和所述曝光盲区，生成合成图像；根据所述合成图像的图像参数，确定所述空间飞行器对应的高动态范围图像。
一种视频流水线处理方法装置

[发明专利]光刻曝光方法-CN202011414133.5有效
发明人：周曙亮;赵潞明;吴长明;姚振海;金乐群;李玉华 -专利权人：华虹半导体（无锡）有限公司
申请日： 2020-12-07 - 公布日： 2022-10-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请涉及半导体制造技术领域，具体涉及一种光刻曝光方法。所述光刻曝光方法包括：将晶片的目标面划分为曝光阵列，所述曝光阵列包括若干个曝光区域；确定曝光区域中的目标量测曝光区域和其他曝光区域；依次对所述其他曝光区域分别进行多次光刻曝光，在所述其他曝光区域处的晶片目标面上形成光刻图形；对所述目标量测曝光区域进行单次光刻曝光，在所述目标量测曝光区域处的晶片目标面上形成光刻图形。本申请提供的光刻曝光方法，可以解决相关技术中在开始进行光刻曝光的前期，因光学系统温度不稳定，导致机台对光刻表现的判断的问题。
光刻曝光方法

[发明专利]胶卷盒有曝光状态指示器的照相机-CN90107585.X在审
发明人：戴维·克林顿·斯马特;丹尼斯·尤金·巴克斯特 -专利权人：伊斯曼柯达公司
申请日： 1990-08-08 - 公布日： 1991-03-13 - 主分类号： G03B17/26 文献下载
摘要：一种使用带有胶卷曝光状态指示器的胶卷盒的照相机。状态指示器，可从未曝光位置移到部分曝光位置或已曝光位置，以给出胶卷盒内胶卷的曝光状态的可见指示。照像机可提早将仅部分曝光的胶卷卷回胶卷盒，其后再将胶卷推出完成其全部曝光。照像机具有驱动控制装置，当返回胶卷盒内的胶卷是部分曝光时，可使状态指示器从其未曝光位置移动到部分曝光位置；当已全部曝光时，可使状态指示器从其未曝光位置或部分曝光位置移动到已曝光位置。
胶卷曝光状态指示器照相机

[发明专利]拍摄曝光方法及装置-CN201710764410.7有效
发明人：过一;熊达蔚 -专利权人：北京小米移动软件有限公司
申请日： 2017-08-30 - 公布日： 2020-08-11 - 主分类号： G03B7/08 文献下载
摘要：本公开是关于一种拍摄曝光方法及装置。该方法包括：根据检测方式获取当前拍摄环境的亮度特征；基于该亮度特征进行分析，确定曝光方式；获取与该曝光方式相对应的拍摄曝光值；以该拍摄曝光值进行拍摄曝光。本公开的实施例通过检测方式获取当前拍摄环境的亮度特征，基于该亮度特征确定曝光方式，获取与该曝光方式相对应的拍摄曝光值，并以该拍摄曝光值进行拍摄曝光，实现在不同拍摄环境的亮度特征下，自动确定与亮度特征相对应的曝光方式，并获取相对应的拍摄曝光值，从而提升拍摄曝光效果。
拍摄曝光方法装置

[发明专利]曝光图案、用于其形成的曝光掩模和利用其的曝光图案形成方法-CN202180035745.X在审
发明人：李俊九;金浚河;孙同镇;张民锡 -专利权人：东友精细化工有限公司
申请日： 2021-04-06 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明涉及曝光图案、曝光掩模和利用其的曝光图案形成方法，曝光图案是通过分割曝光而形成的曝光图案，其特征在于，在由第一次曝光形成的第一曝光区域与由第二次曝光形成的第二曝光区域所重叠的区域中，构成上述第一曝光区域的第一单位图案区域的面积与构成上述第二曝光区域的第二单位图案区域的面积不同
曝光图案用于形成利用方法

[发明专利]曝光控制装置与曝光控制方法-CN02104730.8有效
发明人：高桥贤司 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2002-02-09 - 公布日： 2002-09-18 - 主分类号： G03B7/091 文献下载
摘要：根据本发明的一种曝光控制装置包括一个感像单元,该单元传感目标图像;以及一个曝光控制器,通过选用第一曝光控制模式和第二曝光控制模式来进行照相曝光控制,在第一曝光控制模式下,照相曝光值被确定,而根据感像单元反复传感的目标图像的亮度进行曝光控制,在第二曝光控制模式下,照相曝光值通过采用多个预置曝光值进行曝光控制来确定。
曝光控制装置方法

[发明专利]带电粒子束曝光方法和在晶片上形成图形的方法-CN98100909.3无效
发明人：依马贵弘 -专利权人：日本电气株式会社
申请日： 1998-03-13 - 公布日： 2003-04-23 - 主分类号： H01L21/30 文献下载
摘要：带电粒子束曝光方法中，用局部全场曝光的孔掩模，进行图形曝光，以便没有重叠，从而形成大量传递图形。如此做时，曝光量为能够形成图形的曝光量的1/2。然后，改变镜头位置，以便曝光位置与先前的曝光位置重叠，进行曝光形成下一传递图形。如此做时，曝光量也为形成图形所需量的1/2。以此方式，随着曝光位置的移动，每每进行两次曝光，每次的曝光量皆为1/2。
带电粒子束曝光方法晶片形成图形