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- [发明专利]曝光机-CN202010051349.3在审
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张磊
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TCL华星光电技术有限公司
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2020-01-17
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2020-05-08
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G03F7/20
- 本发明提供一种曝光机。曝光机包括承载平台以及负压装置；所述承载平台用于承载待曝光基板；所述负压装置设于所述承载平台的边缘，用于排出所述待曝光基板挥发的有机物。本发明通过增加负压装置吸附挥发的有机物，将有机挥发物及时排出曝光机，避免了在曝光机内存在挥发有机物导致影响光路、污染掩模板造成曝光不均，从而保证曝光机内部洁净度，大大减少有机物对曝光机镜组及掩模板的污染，并保证了曝光的均一性，提高了良品率。
- 曝光
- [发明专利]曝光机-CN202310889583.7在审
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程强;项宗齐;汪涛
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合肥芯碁微电子装备股份有限公司
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2023-07-19
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2023-10-17
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G03F7/20
- 本发明公开了一种曝光机，包括：壳体、驱动系统、吸附系统、曝光系统和数据处理系统，壳体上设有容纳空间；驱动系统设于容纳空间内；吸附系统用于吸附基板，吸附系统设于驱动系统的自由端；曝光系统与基板相对设置，曝光系统设于驱动系统上；数据处理系统与驱动系统连接，数据处理系统用于控制驱动系统上吸附系统和曝光系统的相对位置以实现对于基板的曝光处理。这样，在曝光机的工作过程中，能够直接通过数据处理系统控制驱动系统的使用以实现对于基板曝光处理，能够在曝光机的结构中节省掩膜板的设置，从而简化曝光机的结构，降低曝光机的生产成本。
- 曝光
- [实用新型]曝光机-CN201020524201.9无效
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朱庆中
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芜湖市富达技术有限公司
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2010-09-07
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2011-07-20
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G03F7/20
- 本实用新型公开了一种曝光机，包括机架、曝光机箱、曝光箱盖，在所述曝光机箱内有曝光灯管，所述曝光机箱与曝光箱盖之间设密封橡胶圈，所述曝光箱上表面为透明玻璃面，在所述玻璃面上开设小孔，从小孔中穿一根细软的橡胶管，所述橡胶管一端连接曝光箱内部的抽真空机，另一端放置在玻璃面上，当机箱盖与机箱贴合时，抽真空机开始工作，将箱盖与箱体之间抽成真空，使得曝光箱盖与曝光箱贴合的更紧密，进一步提高曝光精度。
- 曝光
- [实用新型]曝光机-CN201922435548.X有效
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张雷
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苏州源卓光电科技有限公司
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2019-12-30
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2020-08-14
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G03F7/20
- 本实用新型提供一种曝光机，其包括：曝光台，其具有一工作台面、大跨度行走机构，其包括：沿X方向布置且位于曝光台上方的大跨度行走架、驱动大跨度行走架沿Y方向行走的至少一个第一驱动机构；曝光组件，其设置于大跨度行走架上，并由第二驱动机构带动沿X方向行走；大跨度行走架沿X方向的跨距覆盖曝光机的宽度尺寸，大跨度行走架沿Y方向的运动行程覆盖曝光机的长度尺寸。本实用新型的曝光机通过大跨度行走机构，能够适于大尺寸网版的曝光，增大了曝光的范围。同时，通过采用双驱的方式驱动大跨度行走架的运动，有利于提高运动的稳定性，保证曝光的精度。
- 曝光
- [实用新型]曝光机-CN202320267594.7有效
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李辉
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合肥芯碁微电子装备股份有限公司
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2023-02-14
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2023-08-15
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G03F7/20
- 本实用新型公开了一种曝光机，包括底座、多个扫描平台、曝光装置和冷却管。每个扫描平台可滑动地设在底座上，多个扫描平台沿底座的宽度方向间隔开。曝光装置可滑动地设在底座上，曝光装置位于扫描平台的上方，曝光装置包括固定板和多个曝光件，多个曝光件间隔设在固定板上；冷却管设在固定板的邻近扫描平台的一侧表面，冷却管包围多个曝光件，且冷却管的形状为蛇形，根据本实用新型的曝光机，及时对曝光件工作过程中产生的热量进行热交换，达到对固定板和曝光件的降温，防止曝光件的热量传递至固定板，避免固定板因热膨胀而使曝光件的位置发生偏差，进而提高了曝光机的对准精度和光刻精度
- 曝光
- [发明专利]曝光机-CN202011125345.1有效
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王虎
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TCL华星光电技术有限公司
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2020-10-20
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2022-11-08
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G03F7/20
- 本申请提出了一种曝光机，其包括用于承载待曝光的目标基板的载台，位于该载台上的光源组件、位于该载台与该光源组件之间的挡板组件；该挡板组件包括至少一层叠设置的挡板构件，任一该挡板构件至少包括沿第一方向设置的两个挡板，任一该挡板包括至少两个滑动连接的挡条，该挡板上的挡条形成该曝光机的目标曝光图案。本申请通过将曝光机中的至少一个挡板设置成由多个可移动的挡条构成，使得该挡条能够形成非规则的曝光图案，满足现有曝光工艺中对曝光图案的个性化需求。
- 曝光
- [发明专利]曝光机-CN202011136784.2在审
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刘巍巍
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TCL华星光电技术有限公司
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2020-10-22
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2021-01-08
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G03F7/20
- 本申请提出了一种曝光机。该曝光机包括：反射组件，反射组件包括靠近光源一侧和/或靠近待曝光产品一侧的多个第一构件；其中，第一构件包括第一反射单元，第一反射单元活动性设置于反射组件靠近待曝光产品的第一侧面上和/或反射组件靠近光源的第二侧面上本申请通过第一反射单元的活动性设置，当照射至待曝光产品的光线需要调整时，可以根据实际情况调整对应的一个或多个第一反射单元，实现了曝光机对照射至待曝光产品的光线的非线性调整，有利于提高待曝光产品的膜层间的重合精度
- 曝光
- [发明专利]曝光机-CN201710051084.5有效
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王轩
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武汉华星光电技术有限公司
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2017-01-23
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2018-11-09
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G03F7/20
- 本发明提供一种曝光机，包括用于承载基板的曝光平台、设于曝光平台两侧的平台导轨、及设于所述平台导轨上的偶数个过滤装置；所述偶数个过滤装置通过在曝光平台两侧形成负压而产生向曝光平台外的气流以将废物排出，与现有技术在曝光室顶棚设置过滤装置而产生向上的气流将废物排出的方式相比，本发明的曝光机，通过在平台导轨上设置过滤装置，产生接近水平的气流而将废物排出，能够有效避免光刻胶产生的挥发物在向上流动过程中凝结在基板上方的光学器件上而降低曝光精度的问题，且过滤效果良好，能够为曝光制程提供良好的曝光环境
- 曝光
- [实用新型]曝光机-CN202122018278.X有效
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倪沁心;陈铁玉;陈建明;梁添贵
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广东华恒智能科技有限公司
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2021-08-24
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2022-02-01
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G03F7/20
- 本申请公开了一种曝光机。本申请的曝光机能够能够通过对产品分区的方式，分散产品与菲林片之间的尺寸偏差，从而提高产品的通过率。在该曝光机使用时，曝光平台上放置有产品。遮光组件能够遮盖于部分产品，具体来说，驱动机构能够驱动遮光部沿导轨滑动，使遮光部遮盖部分产品，使产品仅部分暴露于光源组件下，从而分散产品以及菲林片之间的尺寸偏差，然后，光源组件对产品漏出部分进行曝光，接着，遮光组件遮盖产品已曝光的部分，对产品未曝光的部分进行依次曝光，实现对产品的分区曝光，提高产品通过率，从而提高产品生产效率。
- 曝光
- [发明专利]曝光机-CN202211716371.0在审
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段淼;李林霜;朱钦富;陈黎暄
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深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
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2022-12-29
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2023-03-28
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G03F7/40
- 本发明公开了一种曝光机，所述曝光机具有承载台、光源以及投射系统，所述曝光机中还设置有能量转换件，所述能量转换件用于在所述光源发出的光波进入所述投射系统之前，接收所述光源发出的光波并转换为第一电磁波，所述第一电磁波的波长大于760nm且小于1000nm；和/或所述曝光机中还设置有烘烤模块，所述烘烤模块用于朝所述承载台发射第二电磁波，所述第二电磁波的波长大于760nm且小于1000nm，或所述第二电磁波的波长大于1mm且小于本发明通过在曝光机中设置能量转换件或烘烤模块，使曝光机具有了对玻璃基板的烘烤功能，能够使玻璃基板能够在曝光机中进行后烘工序。
- 曝光
- [实用新型]曝光机-CN201320760954.3有效
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陈志林
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深圳市诺林电子科技有限公司
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2013-11-27
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2014-07-02
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G03F7/20
- 本实用新型公开了一种曝光机，包括壳体和设置于壳体内的曝光室，曝光室设置有曝光框，曝光室内安装有两组传动机构，该两组传动机构对称的设置于曝光框的上下两侧，每组传动机构相对于曝光框安装光源；每组传动机构分别采用独立传动机构本实用新型所述的曝光机，将设置在曝光框两侧的传动机构采用独立的传动机构，可以实现独立调速，并且每组传动机构可以通过独立的汽缸和马达做上下运动，也能实现独立的平行往返运动，且速度可调整。采用这样的一种设计，使得光源到曝光框的距离能够实现灵活调整，针对不同的材料采用不同的曝光距离和曝光速度。
- 曝光
- [发明专利]曝光机-CN202010466255.2在审
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袁夏梁
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TCL华星光电技术有限公司
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2020-05-28
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2020-08-14
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G03F7/20
- 本申请提供一种曝光机，包括光罩载台和驱动装置，光罩载台包括承载面，承载面上设有固定装置，承载面用于承载光罩，固定装置用于固定光罩载台上承载的光罩；光罩载台内部形成一个露光区域，以使光线透过光罩从露光区域照射到曝光件本申请实施例通过移动光罩载台或者改变光罩载台的结构、以调整露光区域的范围，从而使曝光机可以兼容不同尺寸的光罩，提高了曝光机的适用范围。
- 曝光
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