“曝光阶段”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果200150个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]一种非标规格半导体基片的曝光方法及装置-CN202210221959.2在审
发明人：付纯鹤;张叶;高荣荣;卢金剑;杜旭 -专利权人：北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）
申请日： 2022-03-09 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请提供了一种非标规格半导体基片的曝光方法及装置，首次曝光时，基于待曝光基片的轮廓信息，确定待曝光表面中的最大内接矩形；基于最大内接矩形的尺寸和曝光单元的尺寸，确定有效曝光区域和曝光单元的布局数据；选择有效曝光区域的指定方位上的顶点作为起始曝光标记点，基于起始曝光标记点和有效曝光区域的其余方位上的顶点构建标记点数据；根据曝光单元的布局数据、标记点数据和预设曝光方向，采用S型路径算法，确定待曝光基片的曝光路径；按照曝光路径，从起始曝光标记点开始在有效曝光区域内对待曝光基片进行曝光本申请根据基片实际的轮廓动态确定有效曝光区域，从而进行曝光路径的动态规划，进而提高基片的利用率和芯片的生产效率。
一种非标规格半导体曝光方法装置

[发明专利]基于高动态范围摄像装置的曝光控制方法和装置-CN201611237265.9有效
发明人：阮文哲 -专利权人：上海兴芯微电子科技有限公司
申请日： 2016-12-28 - 公布日： 2019-08-16 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：本发明技术方案公开了一种基于高动态范围摄像装置的曝光控制方法和装置，所述曝光控制方法包括：基于高动态范围摄像装置获取短曝光图像和长曝光图像；分别统计短曝光图像和长曝光图像的直方图信息和分区域亮度信息；分别获取短曝光的调整影响值和长曝光的调整影响值，短曝光的调整影响值与短曝光图像的直方图信息和分区域亮度信息相关，长曝光的调整影响值与长曝光图像的直方图信息、分区域亮度信息和短曝光图像的分区域亮度信息相关；基于短曝光的调整影响值进行短曝光调整，基于长曝光的调整影响值进行长曝光调整；当短曝光达到稳定后，基于短曝光的亮度评估值与长曝光的亮度评估值的比值进行长曝光调整，直至长曝光达到稳定。
基于动态范围摄像装置曝光控制方法

[实用新型]一种曝光装置和曝光系统-CN201420207363.8有效
发明人：马群;张琨鹏;章兵 -专利权人：鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2014-04-25 - 公布日： 2014-11-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提供一种曝光装置和曝光系统。该曝光装置包括光源，还包括曝光管，曝光管设置在光源的发光侧，光源发出的光线能从曝光管的入口射入曝光管内，并从曝光管的出口射出，照射到待曝光膜上，以使待曝光膜经曝光后形成线条状图案和/或点状图案。该曝光装置通过设置曝光管，使待曝光膜经曝光后形成线条状图案和/或点状图案，从而解决了采用掩模板几乎无法实现的细小线条状图案和细小点状图案的曝光，同时还提高了曝光精度。
一种曝光装置系统

[发明专利]基于单帧双次曝光模式的宽动态融合方法-CN201310566951.0在审
发明人：周艇 -专利权人：上海微锐智能科技有限公司
申请日： 2013-11-13 - 公布日： 2015-05-20 - 主分类号： H04N9/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于单帧双次曝光模式的宽动态融合方法，该方法包括：根据曝光格式获得长曝光像素与短曝光像素；根据长短曝光比例与每个像素所处亮暗区域计算并获得映射曲线；根据长曝光像素与短曝光像素和映射曲线，以完成长曝光与短曝光像素映射；判断长曝光像素和/或短曝光像素边缘方向并获得长曝光像素和/或短曝光像素边缘方向的插值；根据长曝光与短曝光像素映射和长曝光像素和/或短曝光像素边缘方向的插值，融合长曝光和短曝光本发明的基于单帧双次曝光模式的宽动态融合方法，具有提升动态范围大,对图像细节保护的更好,色彩更真实。
基于单帧双次曝光模式动态融合方法

[实用新型]柔性基板双面曝光机-CN201821429108.2有效
发明人：余燕青;陶伟荣 -专利权人：东莞市友辉光电科技有限公司
申请日： 2018-09-03 - 公布日： 2019-06-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及柔性基板双面曝光机，机座上设有用于柔性基板第一面曝光的第一曝光平台及用于柔性基板第二面曝光的第二曝光平台，第一曝光平台的曝光位上配备可对位调整的第一曝光铬版，第二曝光平台的曝光位上配备可对位调整的第二曝光铬版；第一曝光平台和第二曝光平台各自往返于曝光位和上料位；机座上设有上料平台和下料平台；机座上还设有衔接第一曝光平台出料和第二曝光平台上料的翻面组件。本实用新型可实现第一曝光平台和第二曝光平台连续性作业，达到柔性基板双面自动转换曝光，提高产能，结构简单，双面对位准确，操作简便，提升曝光机的功效。
曝光平台柔性基板曝光机座本实用新型双面曝光机对位调整铬版连续性作业翻面组件上料平台下料平台自动转换配备第二面曝光机上料位产能出料上料往返衔接

[实用新型]一种调整光刻胶侧边角度的曝光装置-CN202122094513.1有效
发明人：区炜锋 -专利权人：深圳市墨提斯科技有限公司
申请日： 2021-08-31 - 公布日： 2022-03-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种调整光刻胶侧边角度的曝光装置，至少包括底座、曝光壳体、曝光腔和曝光架，所述曝光壳体设置于所述底座上，所述曝光壳体呈中空状以限定出所述曝光腔，所述曝光架滑动设置于所述曝光腔中，所述曝光腔中设置有曝光罩，所述曝光罩位于所述曝光架的上方，其中，所述曝光罩具有第一区域和第二区域，所述第一区域上设置有若干个第一曝光区，所述第二区域上设置有若干个第二个曝光区，在第一曝光区和第二曝光区的各自的形状均由圆形限定的情况下，第一曝光区的直径小于第二曝光区的直径。
一种调整光刻侧边角度曝光装置

[发明专利]一种指纹模组的曝光时间校准方法、装置和产品-CN202211735437.0在审
发明人：丁岩;黄怡菲 -专利权人：北京极豪科技有限公司
申请日： 2022-12-30 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： G06V40/13 文献下载
摘要：本发明提供了一种指纹模组的曝光时间校准方法、装置和产品，该方法包括：获取曝光时间序列，曝光时间序列包括多个录入曝光时间，一个录入曝光时间是：指纹模组在自动曝光模式完成一次指纹录入所使用的曝光时间；根据曝光时间序列中的多个录入曝光时间，确定本次校准后的曝光时间；将指纹模组在固定曝光模式下进行指纹采集所使用的固定曝光时间，更新为本次校准后的曝光时间。本发明根据在自动曝光模式下完成指纹录入得到的录入曝光时间，得到校准后的曝光时间，将其作为固定曝光时间，使得后续可以按照该校准后的曝光时间完成指纹采集，提高了曝光时间的准确性。
一种指纹模组曝光时间校准方法装置产品

[发明专利]针对曝光对象的曝光检测方法、装置、介质及电子设备-CN202110047225.2在审
发明人：林毅雄 -专利权人：腾讯科技（深圳）有限公司
申请日： 2021-01-14 - 公布日： 2022-07-19 - 主分类号： G06F9/451 文献下载
摘要：本申请提供一种针对曝光对象的曝光检测方法、装置、介质及电子设备，涉及计算机技术领域，包括：当检测到用于触发滚动事件的交互操作时，获取当前页面的偏移量；根据偏移量和曝光区域的区域尺寸确定曝光范围；根据与目标曝光对象相关的曝光对象的对象尺寸确定目标曝光对象的曝光位置；若曝光位置属于曝光范围，则判定目标曝光对象曝光显示于当前页面中。可见，实施上述方法无需从底层获取曝光事件并以及依赖曝光事件的记录来进行曝光判定，降低对于曝光事件的依赖性，可以提升曝光检测效率以及曝光检测即时性。
针对曝光对象检测方法装置介质电子设备

[发明专利]一种曝光介质的曝光方法及装置-CN202110818961.3在审
发明人：陈国军;吴景舟;马迪 -专利权人：江苏迪盛智能科技有限公司
申请日： 2021-07-20 - 公布日： 2023-01-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明揭示了一种曝光介质的曝光方法及装置，曝光方法包括将光斑的1/N区域置于待曝光区域内，光斑的其余区域置于待曝光区域外，并使光斑沿曝光方向对曝光介质进行曝光，待曝光区域为光斑沿曝光方向所能曝光的区域；将光斑沿步进方向步进，步进的距离为光斑在步进方向上的长度的1/N，并使光斑沿曝光方向对曝光介质进行曝光；重复执行上述过程，直至曝光介质全部完成曝光。本发明不仅能够避免相邻两次曝光之间的拼接处出现能量塌陷的问题，而且还能够对厚度超过150um的光刻胶进行彻底曝光。
一种曝光介质方法装置

[发明专利]数据曝光方法、装置、设备及存储介质-CN202210158389.7在审
发明人：吕大龙;邹昆伦 -专利权人：平安科技（深圳）有限公司
申请日： 2022-02-21 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： G06F16/34 文献下载
摘要：本发明涉及人工智能技术，揭露了一种数据曝光方法，包括：从获取的曝光数据请求中解析得到曝光目标以及每个曝光目标对应的曝光数据内容；根据曝光数据内容生成每个曝光目标的唯一标识；根据唯一标识筛除曝光目标中不存在于预设的曝光容器内的曝光目标，得到第一筛选目标；获取每个第一筛选目标的曝光面积，筛除曝光面积大于预设面积的第一筛选目标，得到第二筛选目标；获取预设的曝光记录队列，根据曝光记录队列筛除第二筛选目标中已进行曝光的目标，得到待曝光目标；对待曝光目标进行视图曝光。此外，本发明还涉及区块链技术，曝光数据请求可存储于区块链的节点。本发明还提出一种数据曝光装置、设备及介质。本发明可以提高数据曝光精确度。
数据曝光方法装置设备存储介质

[发明专利]一种体全息光波导光栅的曝光方法及曝光光路、曝光系统-CN202310479001.8在审
发明人：李惠达;史瑞;肖根音;李晓军 -专利权人：广纳四维（广东）光电科技有限公司
申请日： 2023-04-27 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种体全息光波导光栅的曝光方法及曝光光路、曝光系统，采用体全息光波导光栅的曝光系统进行曝光，曝光方法对液晶盒上的至少两个间隔的待曝光区域进行曝光，曝光方法包括：获取液晶盒上待曝光区域的位置信息以以及光栅方向信息；基于位置信息以及光栅方向信息，调整液晶盒与遮光板的相对位置，以使待曝光区域位于遮光板的通光孔内，且使得液晶盒的参考方向与曝光模板上的光栅方向满足预设角度关系；根据液晶盒内的材料特性以及待曝光区域内的光栅参数信息，控制曝光光束的曝光参数，对待曝光区域进行曝光，在待曝光区域内形成光栅。仅使用一条光路对多个光栅区域进行曝光，曝光光路具有搭建方便，校准精确，曝光快速的特点。
一种全息波导光栅曝光方法系统

[发明专利]曝光控制方法、曝光控制装置及电子装置-CN201710137930.5有效
发明人：孙剑波 -专利权人： OPPO广东移动通信有限公司
申请日： 2017-03-09 - 公布日： 2020-12-22 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于深度的曝光控制方法。曝光控制方法包括：处理场景数据以获得缓存主图像的前景部分；根据前景部分的亮度信息确定参考曝光量；根据参考曝光量确定暗帧曝光量和亮帧曝光量；和根据参考曝光量、暗帧曝光量和亮帧曝光量控制成像装置曝光。此外，本发明还公开了一种曝光控制装置及电子装置。本发明的曝光控制方法、曝光控制装置及电子装置利用深度信息确定前景部分作为图像的主体，根据主体部分的亮度信息确定参考曝光量并且根据参考曝光量确定暗帧曝光量和亮帧曝光量，根据参考曝光量、暗帧曝光量和亮帧曝光量控制成像装置曝光以获得多个图像
曝光控制方法装置电子

[发明专利]通过可光聚合材料的立体光刻固化分层构造成形体的方法-CN201910763556.9有效
发明人： J·艾伯特;S·盖斯布勒 -专利权人：义获嘉伟瓦登特公司
申请日： 2019-08-19 - 公布日： 2021-08-10 - 主分类号： B29C64/20 文献下载
摘要：一种通过曝光以连续层立体光刻分层构造成形体的方法，曝光单元被配置为用于曝光预定曝光场中的多个图像元素并选择性曝光图像元素进行曝光，并且可由控制单元控制以产生具有可调节曝光强度的曝光光，在控制曝光单元时，使用预定均匀化因子，使得当产生曝光光时，使用通过均匀基本强度乘以均匀化因子而确定的曝光强度，实际上实现的强度对于每个图像元素是相同的，而与曝光场中的位置无关，其中，在将曝光区域曝光之前，控制单元确定增亮因子作为曝光单元的最大强度与当前曝光区域中存在的最大曝光强度之间的比率，并且使用被用于曝光相应曝光区域的增亮因子相乘的曝光强度，以控制曝光单元。
通过聚合材料立体光刻固化分层构造成形方法

[实用新型]一种卷对卷曝光装置-CN202023111173.0有效
发明人：朱夏彦;陈国军;吴景舟;马迪 -专利权人：江苏迪盛智能科技有限公司
申请日： 2020-12-22 - 公布日： 2021-12-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型揭示了一种卷对卷曝光装置，包括曝光部分，曝光部分包括曝光吸附件、对位镜头和曝光镜头，曝光吸附件位于卷料的下方，用于在卷料曝光时吸附固定住卷料，对位镜头和曝光镜头均位于卷料的上方，且对位镜头位于曝光镜头的一侧本实用新型曝光部分采用数字曝光，提高了曝光精度，且用吸盘吸附并固定卷料，避免曝光时产生曝光偏差。
一种曝光装置

[发明专利]具有硅片刻号读取及硅片存储装置的双曝光平台之曝光机-CN201410162785.2在审
发明人：童立峰;戴韫青;王剑 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2014-04-22 - 公布日： 2014-10-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种具有硅片刻号读取及硅片存储装置的双曝光平台之曝光机，包括：硅片刻号读取装置，设置在硅片入端和具有硅片刻号读取及硅片存储装置的双曝光平台之曝光机的第一曝光平台和第二曝光平台之间；硅片存储装置，用于存储前层曝光机台与当前闲置机台不一致之硅片；第一曝光平台和第二曝光平台，第一曝光平台用于曝光前层曝光机台为第一曝光平台的硅片，第二曝光平台用于曝光前层曝光机台为第二曝光平台的硅片。本发明通过在硅片入端和第一曝光平台和第二曝光平台之间设置硅片刻号读取装置，并根据硅片之刻号信息获得硅片之前层曝光机台信息，以保证后层曝光机台与前层曝光机台一致，不仅提高硅片前后层堆叠对准度，而且改善产品质量
具有硅片读取存储装置曝光平台