专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]弹性表面金属膜成型制程-CN200710143469.0无效
  • 陆颂屏;黄崑永 - 福葆电子股份有限公司
  • 2007-08-01 - 2009-02-04 - H01L21/60
  • 本发明主要揭露一种弹性表面金属膜成型制程,先于集成电路组件形成有与焊垫相对应配置的弹性座体,再将可举离式光阻利用涂布、曝光、显影制程,于弹性座体周边形成光阻图案,然后在弹性座体及其周边的光阻图案上利用溅镀或蒸镀等金属化制程形成至少一层导电层,并使该导电层得以连接焊垫、弹性座体顶部的构装接合面以及针测表面,最后利用光阻剥离剂将光阻图案连同覆盖在光阻图案上的导电层去除,以形成弹性的表面金属膜,以在不造成短路之下,可达到精确控制表面金属膜的宽度的目的
  • 弹性表面金属膜成型
  • [发明专利]倾斜侧壁的弹性及其制造方法-CN200710165223.3无效
  • 陆颂屏;黄崑永;郑宇凯 - 福葆电子股份有限公司
  • 2007-10-31 - 2009-05-06 - H01L23/485
  • 本发明弹性设置于一具有焊垫的集成电路组件上,该弹性具有一位于该集成电路组件上的弹性座体,以及一位于该弹性座体上与该焊垫电性连接的表面金属膜,弹性座体具有一远离该集成电路组件的顶面以及两组相对的侧壁,其中一组侧壁为倾斜侧壁,而该倾斜侧壁的倾斜方向由弹性座体外侧朝内侧倾斜,形成弹性座体顶面较窄而底面较宽的结构体,以利后续于弹性座体的顶面及倾斜侧壁上形成金属层时,可改善该金属层的厚度均匀性,有助于光阻紧贴在该弹性的金属层上,避免蚀刻制程中因蚀刻液渗入光阻与金属层界面,造成该弹性的金属层尺寸变小或断裂,可改善弹性于构装时,因弹性座体承受压缩应力而变形所导致的金属层皱折、断裂等问题。
  • 倾斜侧壁弹性及其制造方法
  • [发明专利]封装结构及封装方法-CN201210041079.3有效
  • 王之奇;王宥军;俞国庆;王琦;喻琼;王蔚 - 苏州晶方半导体科技股份有限公司
  • 2012-02-22 - 2012-07-18 - H01L21/603
  • 一种封装结构及封装方法,其中,封装方法包括:提供待封装衬底,所述待封装衬底表面具有焊垫,焊垫表面具有;在所述待封装衬底表面形成覆盖所述的异向导电胶层;提供PCB板,所述PCB板具有突出PCB板表面的电极,所述电极位置与位置对应;将PCB板与待封装衬底压合,使得所述电极与所述位置正对并且PCB板表面与异向导电胶层表面接触,其中,位于所述与所述电极间的异向导电胶层受到垂直所述封装衬底表面的压力本发明实施例的封装方法工艺简便,本发明实施例的封装结构封装质量高。
  • 封装结构方法
  • [发明专利]工艺-CN201110423999.7有效
  • 郭志明;戴华安;林政帆;邱奕钏;谢永伟 - 颀邦科技股份有限公司
  • 2011-12-13 - 2013-06-19 - H01L21/60
  • 本发明是有关于一种工艺,其包含提供一硅基板;形成一含钛金属层在该硅基板,且该含钛金属层是具有多个第一区及多个第二区;形成一光阻层在该含钛金属层;图案化该光阻层以形成多个开槽,所述开槽是对应该含钛金属层的所述第一区;形成多个铜在所述开槽;进行一加热步骤;形成多个隔离层在所述铜;形成多个接合层在所述隔离层;移除该光阻层;以及移除该含钛金属层的所述第二区,并使各该第一区形成为一下金属层。
  • 工艺
  • [发明专利]制程-CN200810095842.4有效
  • 余瑞益;戴丰成 - 日月光半导体制造股份有限公司
  • 2008-04-30 - 2008-09-17 - H01L21/60
  • 本发明提供一种制程,是提供一晶片,该晶片具有一主动表面且该主动表面上具有至少一接垫,再覆盖一保护层于晶片的主动表面上,并裸露出接垫,接着形成一下金属层于接垫上,再配置一胶膜于保护层上,并覆盖下金属层接着对胶膜进行选择性的曝光,使得位于下金属层上方的胶膜受到曝光,并移除胶膜的曝光部分,使得下金属层裸露。分布一锡膏于下金属层上,并移除晶片上剩余的胶膜,再借助回焊制程使锡膏形成一金属
  • 凸块制程
  • [发明专利]制程-CN200610064835.9有效
  • 王俊恒 - 南茂科技股份有限公司;百慕达南茂科技股份有限公司
  • 2006-03-14 - 2007-09-19 - G03F7/20
  • 一种制程包括下列步骤。首先提供一具有多个接点的本体。然后形成具有多个第一开口的一保护层于本体上,其中这些第一开口暴露出本体的多个接点。接着于保护层与这些接点上形成一球底金属层。然后对应这些接点而形成多个于第二开口内,其中这些的远离保护层的表面低于图案化光阻层远离保护层的表面。接着对这些进行蚀刻,以平坦化这些的表面。然后移除图案化光阻层以及移除球底金属层的不为这些所覆盖的部份。
  • 凸块制程

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