专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种利用材料产生可控自旋流的方法、异质结构器件和自旋电子学器件-CN202211402840.1在审
  • 宋成;白桦;潘峰 - 清华大学
  • 2022-11-10 - 2023-02-24 - H10N50/10
  • 本发明公开了一种利用材料产生可控自旋流的方法、异质结构器件和自旋电子学器件。本发明方法包括:通过多场操纵自旋源/功能层异质结构器件的磁矩,利用磁矩与自旋的相互作用调控自旋流的自旋极化方向和/或调节自旋流强度;自旋源/功能层异质结构器件包括由下至上依次层叠且构成异质结构的衬底层、层和层;层的材质为共线材料或非共线材料层为垂直磁化的层或面内磁化的层。本发明异质结构器件能够产生可控自旋极化方向的自旋流,以实现相邻层高效的磁化翻转并带来器件低功耗的优势,其临界自旋流密度相比于传统非自旋源可降低一个数量级。
  • 一种利用反铁磁材料产生可控自旋方法结构器件电子学
  • [实用新型]一种磁电存储器存储单元结构-CN201720957842.5有效
  • 薛飞 - 江西科技学院
  • 2017-08-02 - 2018-05-22 - H01L43/08
  • 本实用新型涉及一种磁电存储器存储单元结构,包括磁电材料层、上电极层、端电极层、衬底层;所述磁电材料层包括电‑材料层、设置于电‑材料层下面的材料层、所述材料层中间设置有绝缘层、所述材料层下端与衬底层相连;所述上电极层设置于电‑材料层上端;所述端电极层设置于材料层两端。本实用新型通过材料层和材料界面的偏置效应调控材料层的磁化取向,并制成多隧道结(MTJ),把电极化和磁性的变化转变为高、低电阻的变化,其开关电阻比(RON/OFF
  • 一种磁电存储器存储单元结构
  • [发明专利]致电阻器件、子场效应晶体管和子隧道结-CN201711415711.5有效
  • 韩秀峰;唐萍;郭晨阳;万蔡华 - 中国科学院物理研究所
  • 2017-12-25 - 2020-03-20 - H01L43/08
  • 本发明涉及巨致电阻器件、子场效应晶体管和子隧道结。一种巨致电阻器件可包括:第一绝缘层;设置在所述第一绝缘层上的非导电层;以及设置在所述非导电层上的第二绝缘层。一种子场效应晶体管可包括:第一磁区域、第二磁区域和第三磁区域,其每个由材料形成,其中所述第二磁区域由绝缘材料形成;第一磁区域,位于所述第一磁区域和所述第二磁区域之间,由材料形成;第二磁区域,位于所述第二磁区域和所述第三磁区域之间,由材料形成;以及栅极,覆盖所述第二磁区域。材料都可以由金属、合金、半导体和绝缘体构成。
  • 致电器件场效应晶体管隧道
  • [发明专利]致电阻器件、子场效应晶体管和子隧道结-CN202010108087.X有效
  • 韩秀峰;唐萍;郭晨阳;万蔡华 - 中国科学院物理研究所
  • 2017-12-25 - 2022-02-22 - H01L43/02
  • 本发明涉及巨致电阻器件、子场效应晶体管和子隧道结。一种巨致电阻器件可包括:第一绝缘层;设置在所述第一绝缘层上的非导电层;以及设置在所述非导电层上的第二绝缘层。一种子场效应晶体管可包括:第一磁区域、第二磁区域和第三磁区域,其每个由材料形成,其中所述第二磁区域由绝缘材料形成;第一磁区域,位于所述第一磁区域和所述第二磁区域之间,由材料形成;第二磁区域,位于所述第二磁区域和所述第三磁区域之间,由材料形成;以及栅极,覆盖所述第二磁区域。材料都可以由金属、合金、半导体和绝缘体构成。
  • 致电器件场效应晶体管隧道
  • [发明专利]磁存储器及其制造方法-CN202211499465.7在审
  • 范晓飞;陈文静;曹凯华;刘宏喜;王戈飞 - 致真存储(北京)科技有限公司
  • 2022-11-28 - 2023-03-31 - H10B61/00
  • 本公开涉及半导体器件及其制造技术领域,具体涉及磁存储器及其制造方法,所述磁存储器至少包括:层,所述层的材料为非共线材料隧道结,设置于所述层上,所述隧道结自下而上依次包括自由层、隧穿势垒层和参考层;其中,当所述层通入电流时,利用所述层的自旋轨道矩效应改变所述层与所述自由层形成的交换偏置场方向,进而翻转所述自由层的磁矩方向。可以借助非共线材料层其内部的自旋轨道矩效应进行磁矩翻转,从而大幅降低了写入电流,进而降低了该磁存储器的功耗,也更易于驱动该磁存储器。
  • 磁存储器及其制造方法
  • [发明专利]具有钉扎的/多层膜材料及其制备方法-CN200610056824.6无效
  • 倪经;蔡建旺 - 中国科学院物理研究所
  • 2006-03-07 - 2006-10-11 - H01F10/32
  • 本发明涉及一种具有钉扎的/多层膜材料及其制备方法,该材料采用真空沉积镀膜法和再退火的工艺,制备出包括在基片上依次设置缓冲层、层和一层,或者在缓冲层设置层再设置层和一保护层。该钉扎体系引入L10有序相反(Cr1-xMnx)0.5+δPt0.5-δ(0.3≤x≤0.6;|δ|<0.06)作为钉扎材料。该材料相对于已有的材料(比如FeMn、IrMn、NiMn和PtMn等)制成的/磁体系,具有非常好的热稳定性,大的交换偏置场以及优越的抗腐蚀性,加之成分范围广,是另一种非常理想的钉扎材料
  • 具有反铁磁多层材料及其制备方法
  • [发明专利]人工多层膜结构及包括其的随机存储器-CN202110381200.6在审
  • 魏晋武;于国强;韩秀峰 - 中国科学院物理研究所
  • 2021-04-09 - 2022-10-18 - H01L43/04
  • 本发明涉及人工多层膜结构及包括其的随机存储器。根据一实施例,一种人工多层膜结构可包括:面内场耦合层,包括由导电材料形成的第一层和第二层,以及位于所述第一层和第二层之间的第一间隔层,所述第一间隔层由非导电材料形成并且诱导所述第一层和第二层之间的耦合;自由层,包括由导电材料形成的第三层和第四层,以及位于所述第三层和第四层之间的自旋霍尔效应层,所述自旋霍尔效应层由具有自旋霍尔效应的材料形成并且诱导所述第三层和第四层之间的耦合;以及中间层,位于所述面内场耦合层与所述自由层之间,所述中间层由非材料形成。
  • 人工反铁磁多层膜结构包括随机存储器
  • [发明专利]一种抑制电磁噪声的薄膜材料-CN200910060817.7无效
  • 马强;江建军;别少伟;张传坤;田斌;陈谦;王鹏;吴杨 - 华中科技大学
  • 2009-02-20 - 2009-07-22 - B32B7/02
  • 一种抑制电磁噪声的薄膜材料,属于抑制微波电磁干扰的材料,解决现有薄膜材料存在的电磁噪声损耗带宽不大且不方便人工可调的问题。本发明在基片上沉积有缓冲层,基片为化学性能稳定且表面平整的材料,在缓冲层上先沉积有层或层,然后交替沉积有层和层,最表面的层或层上沉积有保护层。本发明重复性好,调控方便,在磁体系中引入层,通过调整层的厚度可以有效调控多层膜材料的磁导率频谱和软磁性能,并且通过多层叠加的方式,实现宽频带电磁噪声抑制。
  • 一种抑制电磁噪声薄膜材料

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