专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种用于控制桥式驱动电路的栅极驱动电路-CN201010222197.5有效
  • 姚海霆 - 日银IMP微电子有限公司
  • 2010-07-02 - 2010-11-24 - H02M1/08
  • 本发明公开了一种用于控制桥式驱动电路的栅极驱动电路,包括采用CMOS工艺生产的低压侧控制芯片和高压侧控制芯片、采用高压隔离制造工艺生产的电平转移芯片,低压侧控制芯片主要由控制逻辑模块和低压侧驱动模块集成,电平转移芯片主要由电平转移模块集成,高压侧控制芯片主要由高压侧驱动模块集成,优点在于将集成所有模块的单芯片分成三个芯片来实现,采用高压隔离制造工艺技术只生产电平转移模块,而对于控制逻辑模块、低压侧驱动模块和高压侧驱动模块则采用CMOS工艺生产,将该栅极驱动电路封装成一个集成电路,与现有的栅极驱动芯片相比,降低了生产工艺的复杂程度,减少了芯片面积,降低了生产成本,且有利于设计出性能更加复杂的电路。
  • 一种用于控制驱动电路栅极
  • [发明专利]CMOS图像传感器及其制造方法-CN200710300704.0无效
  • 金升炫 - 东部高科股份有限公司
  • 2007-12-25 - 2008-07-02 - H01L27/146
  • 本发明公开了一种CMOS图像传感器及其制造方法,该CMOS图像传感器包括栅极,位于半导体衬底的有源区域中的栅极绝缘层上;光电二极管区域,位于该栅极一侧的半导体衬底中;浮置扩散区域,位于该栅极另一侧的半导体衬底中;以及补偿杂质区域,位于该栅极的该另一侧的半导体衬底中,叠置在该浮置扩散区域上。本发明可以增大转移晶体管的宽度和/或可以将补偿杂质离子注入浮置扩散区域中,从而使浮置扩散区域有效地复位,并且经由光而产生并被转移到浮置扩散节点的电子具有相对更好的效果,从而可以提高图像传感器的性能。
  • cmos图像传感器及其制造方法
  • [发明专利]固体摄像装置及其读出方法-CN200910223634.2无效
  • 原田耕一;萩原浩树;菊地裕介;铃木启太 - 索尼株式会社
  • 2009-11-18 - 2010-06-16 - H04N3/15
  • 该固体摄像装置包括:沿垂直转移方向和水平转移方向布置的多个像素;设置在多个像素的水平转移方向相邻的两像素之间的垂直CCD移位寄存器;像素之间用于分离的第一沟道停止部,在水平转移方向相邻的所述两像素,以及与水平转移方向的所述两像素在水平转移方向相邻的像素之间形成;以及读出栅极部和第二沟道停止部,形成在与所述像素和所述垂直CCD移位寄存器之间的垂直转移方向平行的方向;其中,水平转移方向相邻的所述两像素共用所述垂直CCD移位寄存器,并且其中比垂直CCD移位寄存器的栅极绝缘层厚的绝缘层形成在第一沟道停止部的上方
  • 固体摄像装置及其读出方法
  • [发明专利]电平移位电路-CN200710149647.0无效
  • 张育瑞 - 奇景光电股份有限公司
  • 2007-09-10 - 2008-07-16 - H03K19/0185
  • 该电平移位单元包含一第一晶体管,其接收一电源电压及一第一栅极控制信号以产生一第二栅极控制信号;一第二晶体管,其接收该电源电压及该第二栅极控制信号以产生该第一栅极控制信号;一第三晶体管,其接收该输入信号以将该第二栅极控制信号接地;一第四晶体管,其接收该输入信号的一反相信号以将第一栅极控制信号接地;一第五晶体管,其接收一第一控制信号以将该第二栅极控制信号转移至该第三晶体管;及一第六晶体管,其接收该第一控制信号以将第一栅极控制信号转移至该第四晶体管
  • 电平移位电路
  • [发明专利]半导体装置及其制造方法-CN200810144386.8有效
  • 畑本光夫;松宫芳明 - 三洋电机株式会社;三洋半导体株式会社
  • 2008-08-04 - 2009-02-11 - H01L29/808
  • 在J-FET中,由于沟道区域的杂质浓度比栅极区域和背栅极区域的杂质浓度低,故因来自栅极区域和背栅极区域的p型杂质的扩散而使栅极区域正下方的沟道区域的n型杂质浓度降低,导致存在因IDSS偏差、电流路径的电阻值增加而引起的正向转移导纳为了解决上述问题,本发明的半导体装置在源极区域下方、栅极区域下方和漏极区域下方的沟道区域底部设置连续的n型杂质区域。n型杂质区域的杂质浓度比沟道区域和背栅极区域的杂质浓度高,几乎不受来自栅极区域和背栅极区域的p型杂质扩散的影响。通过从源极区域下方到漏极区域下方连续设置,从而能使该区域的电流路径的电阻值大致均匀。因此,能稳定IDSS,提高正向转移导纳gm和电压增益Gv,并降低噪声电压Vno。并且也能抑制同一晶片内的IDSS偏差。
  • 半导体装置及其制造方法

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