专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]自对准式TFT有源矩阵的制造方法-CN201010561384.6有效
  • 陈龙龙;李喜峰;张建华 - 上海大学
  • 2010-11-27 - 2011-05-25 - H01L21/77
  • 本发明涉及一种基于微机械加工工艺的自对准式TFT有源矩阵制造方法,该方法采用自对准式方法实现欧姆接触层的制作,从而使TFT有源矩阵的制造工艺难度大幅降低,提高制造成品率。TFT有源矩阵中欧姆接触层的制作方法,本发明利用自对准的方式实现欧姆接触层的制作,即从底栅金属电极方向作离子注入并以底栅金属电极作为自对准的图形,在有源层与源漏电极层形成欧姆接触层,从而使TFT有源矩阵的制造工艺难度大幅降低,提高制造成品率。
  • 对准tft有源矩阵制造方法
  • [发明专利]光源掩模协同优化方法-CN201510810017.8有效
  • 宋之洋;郭沫然;韦亚一;董立松;于丽贤 - 中国科学院微电子研究所
  • 2015-11-20 - 2020-02-21 - G03F1/36
  • 本发明提供了一种光源掩模协同优化方法,包括:输入初始参数;选择部分输入版图参与优化;进行光源掩模协同优化,得到满足光刻工艺条件的优化光源;调整掩模可制造性规则,重新进行版图优化;根据能否满足工艺条件,确定成本最低的掩模可制造性规则;根据确定的可制造性规则,对所有的输入版图进行版图优化;获得最终的优化版图。该方法在进行光源掩模协同优化过程中,可以对掩模可制造性进行规则优化,使得优化后的掩模版制造成本以及缺陷数量降低,还减少了参与协同优化的掩模版图图形数量,提高了优化效率。
  • 光源协同优化方法

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