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- [发明专利]阵列基板的制作方法及阵列基板-CN202380009342.7在审
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钟德镇;张原豪;陶园
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昆山龙腾光电股份有限公司
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2023-05-11
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2023-10-24
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H01L21/77
- 本发明公开了一种阵列基板的制作方法及阵列基板，该制作方法包括：在基底上形成扫描线和栅极，覆盖扫描线和栅极的第一绝缘层；在第一绝缘层上形成第一透明导电层和负性光阻层，对负性光阻层进行背面光刻处理，再对第一透明导电层进行第一次蚀刻；在第一绝缘层上依次形成半导体层和正性光阻层，对正性光阻层进行背面光刻处理，再对半导体层进行蚀刻；在第一透明导电层和半导体层上依次形成第二金属层和光阻层，采用半色调掩膜版对光阻层进行正面光刻处理，先对第二金属层进行第一次蚀刻以及对第一透明导电层进行第二次蚀刻，除去半光阻图案层后，再对第二金属层进行第二次蚀刻。从而可以减少掩膜版的数量，简化制作工艺，降低制作成本。
- 阵列制作方法
- [发明专利]P沟道DEMOS装置-CN201710266873.0有效
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蔡金宇;伊姆兰·汗;吴小菊
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德州仪器公司
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2017-04-21
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2023-10-20
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H01L21/77
- 本发明提供一种p沟道漏极延伸金属氧化物半导体DEPMOS装置(100)，其包含经掺杂表面层(115)、在所述经掺杂表面层内界定n阱长度及宽度方向的至少一个n阱指形件(1201)。第一p阱(125a)位于所述n阱指形件的一侧上、包含p+源极(126)，且第二p阱(125b)位于所述n阱指形件的相对侧上、包含p+漏极(136)。栅极堆叠界定所述n阱指形件的在所述源极(126)与漏极(136)之间的沟道区域(120a)。场电介质层(111)位于所述经掺杂表面层的一部分上，所述部分界定有源区边界、包含第一有源区(140)，所述第一有源区(140)具有包含沿着所述宽度方向的第一有源区边界(WD边界)(140a1)的第一有源区边界(140a)。所述n阱指形件包含位于所述WD边界(140a1)的一部分上方的掺杂降低指形件边缘区域(160)。
- 沟道demos装置
- [发明专利]一种阵列基板及其制作方法-CN202310914060.3在审
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霍英东;荣誉东
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南昌虚拟现实研究院股份有限公司
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2023-07-25
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2023-10-10
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H01L21/77
- 本发明提供了一种阵列基板及其制作方法，属于显示面板领域。所述方法在衬底基板上形成具有过孔的第一有机平坦层；在第一有机平坦层上形成第一反射电极层；在第一反射电极层上形成第二有机平坦层；采用研磨设备对第二有机平坦层进行研磨，通过终点探测法以及最大研磨时间确保研磨设备接触到第一反射电极层时即刻停止研磨；在第一反射电极层上形成第二反射电极层以使整体覆盖第一反射电极层及部分第二有机平坦层；针对叠置的第一反射电极层及第二反射电极层采用同一道光罩进行一次刻蚀形成间隔且交替设置的第一像素电极及第二像素电极。通过本申请，可以解决现有技术的填孔工艺导致制程成本高以及无法真正提高过孔处反射电极的像素开口率的问题。
- 一种阵列及其制作方法
- [发明专利]转移方法及显示面板-CN202210248997.7在审
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盛翠翠
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成都辰显光电有限公司
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2022-03-14
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2023-09-22
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H01L21/77
- 本申请提供了一种转移方法及显示面板，所述转移方法包括：提供驱动背板、以及提供设置有多个芯片的供体基板；其中，芯片包括位于背离供体基板一侧的芯片电极，驱动背板包括多个接收区域，每个接收区域设置有露出的接收电极；且芯片电极和/或接收电极的侧面外围设置有缓冲块；使至少部分芯片的芯片电极与接收区域的接收电极相对且间隔设置；使至少部分芯片与供体基板分离，且分离后的芯片掉落至对应位置处的接收区域内；其中，位于芯片和接收区域之间的缓冲块支撑芯片且使得芯片电极与对应位置处的接收电极之间具有间隙；使缓冲块高度降低，并使芯片电极与对应位置处的接收电极电连接。通过上述设计方式，本申请能够提高转移良率。
- 转移方法显示面板
- [发明专利]阵列基板的制作方法及阵列基板-CN202010612848.5有效
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李治朝;马冬冬
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昆山龙腾光电股份有限公司
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2020-06-30
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2023-08-29
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H01L21/77
- 一种阵列基板的制作方法，包括衬底、第一金属层、栅极绝缘层、半导体层、第二金属层、第一绝缘层、保护层、第一透明电极、第二绝缘层和第二透明电极，在形成保护层后，进行第一次图案化，在保护层和第一绝缘层上形成露出栅极绝缘层的多个第一凹槽；进行第二次图案化，对应第一凹槽在保护层和栅极绝缘层上形成露出衬底的多个第二凹槽；其中，位于第二凹槽两侧未被图案化的区域形成用于对所透过光线进行折射的棱镜柱，棱镜柱包括依次叠置的栅极绝缘层、第一绝缘层以及保护层。本发明通过两次图案化工序，分别对保护层、第一绝缘层和栅极绝缘层进行图案化，在未被图案化区域形成能够对光线进行折射而呈现散射光路的棱镜柱，提高了穿透率及亮度。
- 阵列制作方法
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