专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种具有纳米阵列纸的制备方法及其应用-CN201811092182.4有效
  • 顾忠泽;高兵兵;何珍珠 - 东南大学
  • 2018-09-19 - 2021-10-19 - G01N33/50
  • 本发明公开了一种具有纳米阵列纸的制备方法及其应用,其制备步骤如下:1)挑选单通阳极氧化铝模板,利用丙酮和乙醇对单通阳极氧化铝模板进行清洗后,对其表面进行等离子表面处理;2)向处理后的单通阳极氧化铝模板中灌注纳米阵列纸的前驱液,待前驱液干燥成型后,腐蚀掉单通阳极氧化铝模板,清洗后得到具有纳米阵列纸。该方法制备得到的具有纳米阵列纸具备紧密的皮肤贴合性,并且具有多元分析的能力,应用于快速检测领域可以实现对多种待测物的多元分析,应用于可穿戴式传感器领域可明显提高传感器灵敏度,具有成本低、可重复使用、高灵敏的优点
  • 一种具有纳米阵列制备方法及其应用
  • [发明专利]半导体薄膜的纳区横向外延生长方法-CN200910025383.7有效
  • 王怀兵;黄小辉;杨辉;张书明 - 苏州纳晶光电有限公司
  • 2009-03-13 - 2009-08-19 - H01L21/205
  • 本发明公开了一种半导体薄膜的横向外延生长方法,包括以下具体步骤:(1)在衬底材料上蒸镀一层成核金属催化剂薄层,退火后得到均匀分布在衬底上的岛状金属催化剂颗粒;(2)在外延设备中,在岛状金属颗粒的底部形成晶核;然后纵向生长纳米阵列;(3)利用湿法腐蚀方法除去纳米上的金属催化剂,得到取向、高度一致的半导体纳米阵列结构;(4)将上述腐蚀好的纳米放入外延设备中,通过侧向外延技术将纳米阵列合并成平整表面,然后在该平整表面上生长出所需厚度的半导体外延薄膜由于横向外延发生在纳米区域内,能够有效地抑制了缺陷和残余应力的扩散,薄膜晶体质量比传统方法更均匀,提高二维半导体薄膜的晶体质量;而且方法简单,适应性广。
  • 半导体薄膜横向外延生长方法
  • [实用新型]一种高质量GaN外延片-CN202222359335.5有效
  • 张洁;张伯林 - 苏州芯韵半导体有限公司
  • 2022-09-06 - 2023-02-17 - H01L33/12
  • 本实用新型公开了一种高质量GaN外延片,包括蓝宝石衬底,所述蓝宝石衬底上依次设置有缓冲层、GaN纳米层、电子阻挡层、多量子阱发光层和n‑GaN层,所述缓冲层采用AlN缓冲层或AlGaN缓冲层,所述GaN纳米层为阵列在缓冲层和电子阻挡层之间的AlGaN纳米,所述AlGaN纳米的厚度设置为500‑1500nm。本申请的GaN纳米阵列在缓冲层和电子阻挡层之间,相对于传统的薄膜型GaN层,GaN纳米层与缓冲层和电子阻挡层的接触面积小,配合缓冲层压力容易得到释放,可大大降低裂纹以及缩短裂纹的长度,利用纳米材料有缺陷自排除效应
  • 一种质量gan外延

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