专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基于双电介质超表面的偏振器件-CN202110736705.X在审
  • 邓子岚;涂清安;李枫竣;李向平 - 暨南大学
  • 2021-06-30 - 2021-10-01 - G02B5/30
  • 本发明公开了一种基于双电介质超表面的偏振器件,包括电介质基底、电介质纳米阵列,所述的电介质纳米阵列包括N组的双原子超构分子,N≥2,所述的双原子超构分子位于电介质基底上,所述的双原子超构分子包括两个尺寸一致的纳米,两个纳米的中心与水平方向呈不同夹角,两个纳米位于电介质基底上形成双电介质超表面;通过调控双原子超构分子的尺寸大小与两个纳米的旋转角之差/之和,实现对衍射光振幅、偏振的同时独立调控。
  • 基于电介质表面偏振器件
  • [发明专利]一种硅纳米阵列光电池的选择性栅极及其制作方法-CN201310306868.X有效
  • 刘静;伊福廷 - 中国科学院高能物理研究所
  • 2013-07-22 - 2013-11-13 - H01L31/0224
  • 本发明公开了一种硅纳米阵列光电池的选择性栅极及其制作方法,该选择性栅极是覆盖在未被刻蚀纳米阵列的光电池表面,在除覆盖该选择性栅极以外的光电池表面是被刻蚀形成的硅纳米阵列。该方法是采用紫外光刻技术、自组装氯化铯纳米岛技术与微加工的等离子体刻蚀技术来完成硅表面选择性纳米织构化,经过热扩散的方法制作P-N结结构,再通过套刻对准技术及真空镀膜技术制作出纳米织构化光电池的选择性栅极本发明提供的选择性栅极,具有低成本和较强的工艺适应性能,在充分利用纳米织构化减小反射的特性的同时,还避免了前表面全部纳米织构化带来的欧姆接触不良的弊端,减小了串联电阻,增加欧姆接触,提高纳米织构化太阳电池的光电转换效率
  • 一种纳米阵列光电池选择性栅极及其制作方法
  • [发明专利]一种纳米阵列的制备方法-CN201410647763.5无效
  • 叶辉;王哲玮;方旭;夏亮 - 浙江大学
  • 2014-11-14 - 2015-02-25 - B81C1/00
  • 本发明公开了一种纳米阵列的制备方法,包括如下步骤:(1)在衬底上依次形成导电薄膜、SiO2薄膜、多孔氧化铝薄膜;(2)在多孔氧化铝薄膜的孔洞中填充金属;(3)去除多孔氧化铝薄膜,然后以金属作为保护膜除去无保护膜覆盖的导电薄膜和SiO2薄膜;(4)除去有保护膜覆盖的SiO2薄膜使保护膜与导电薄膜脱离,即在衬底上形成纳米阵列。本发明的利用多孔氧化铝薄膜的多孔结构,制备金属掩膜,进而能够一次制备包含多个纳米阵列,能够一次性制备阵列,大大降低了制备时长,且制备工艺简单,成本低廉,有利于投入商业化生产。
  • 一种纳米阵列制备方法
  • [发明专利]一种基于纳米筛掩模的纳米光电器件制备方法-CN201710471122.2有效
  • 徐智谋;李泽平;江睿;屈小鹏 - 华中科技大学
  • 2017-06-20 - 2019-07-12 - H01L33/00
  • 本发明主要属于纳米光电器件制备领域,具体涉及一种基于纳米筛掩模的纳米光电器件制备方法。通过人工生成的纳米阵列膜(支撑层)制备获得纳米筛掩模;将制备好的纳米筛掩模转移到光电器件上得到样片;采用沉积或刻蚀技术对样片进行沉积或刻蚀;利用物理或者化学方法去除纳米筛掩模,在光电器件上得到纳米阵列结构本发明通过人工低成本获得的纳米筛做掩模,采用纳米加工技术,制备大面积的均匀纳米孔、纳米点、纳米纳米圆台阵列,从而获得纳米结构光电器件。该技术的发现与突破,将使得大面积、低成本制备半导体表面有序纳米结构阵列成为可能,对推动纳米结构半导体器件的应用意义重大。
  • 一种基于纳米筛掩模光电器件制备方法
  • [发明专利]多孔三维微阵列材料、其制备方法及应用-CN202111487647.8在审
  • 花天翔;郭浩;秦景;王军;李令英;钱波 - 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
  • 2021-12-07 - 2022-03-01 - G01N27/12
  • 本发明公开了一种多孔三维微阵列材料、其制备方法及应用。所述制备方法包括:以纳米材料分散液为墨水,以喷墨打印的方式,将所述墨水打印在冷冻平台的基板上,形成纳米材料微阵列;之后对其进行冷冻干燥,成型获得多孔三维微阵列材料。本发明通过喷墨打印结合冷冻平台的方式,制备了高深宽比、大比表面积的多孔三维微阵列材料,无需任何支撑或者掩膜,工艺成本低廉;整个打印过程在数分钟内可以完成,制造周期短,极具应用价值;并且,本发明制备的多孔三维微阵列可以作为氧化物半导体薄膜生长的模板,以此来制备式气体传感器,可以用于监测多种气体,具有比平面传感器更高的气体响应、更短的响应和恢复时间。
  • 多孔三维阵列材料制备方法应用
  • [发明专利]一种近红外发光器件及其制备方法-CN201410648043.0在审
  • 叶辉;方旭;王哲玮;张诗雨 - 浙江大学
  • 2014-11-14 - 2015-03-11 - H01L33/44
  • 本发明公开了一种近红外发光器件及其制备方法,本发明的近红外发光器件包括具有锗量子点的硅片以及位于所述硅片上的纳米阵列,所述的纳米由透明导电材料制备得到。去除多孔氧化铝薄膜,然后以金属作为保护膜除去无保护膜覆盖的透明导电薄膜和SiO2薄膜;(4)除去有保护膜覆盖的SiO2薄膜使保护膜与透明导电薄膜脱离,即在硅片上形成纳米阵列本发明的近红外发光器件在硅片上设置纳米阵列,大大提高了发光效率,且制备工艺简单,成本低廉,易于实现商业化应用。
  • 一种红外发光器件及其制备方法
  • [发明专利]基于α/β-Ga2-CN201810998304.X有效
  • 郭道友 - 北京镓族科技有限公司
  • 2018-08-29 - 2020-12-22 - H01G9/20
  • base:Sub>O3相结的自供电日盲紫外探测器,包括α/β‑Ga2O3相结纳米阵列光阳极,所述α/β‑Ga2O3相结纳米为通过水热法、高温退火和快速高温退火法生长在衬底上的纳米阵列。本发明所制备的α/β‑Ga2O3相结纳米阵列形貌可控、尺寸均匀,具有较大的比表面积,且制备工艺简单、成本低廉、易大规模生产等优点
  • 基于gabasesub

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