专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种屏蔽电泵用碳化轴承结构-CN202121484684.9有效
  • 周大财 - 上海佰诺泵阀有限公司
  • 2021-07-01 - 2022-02-08 - F04D29/04
  • 本实用新型涉及一种屏蔽电泵用碳化轴承结构,包括依次套设于泵轴上的轴套组件与轴承组件;其中轴套组件包括轴套支撑体以及多个布设于轴套支撑体外壁上的碳化条;轴承组件包括轴承支撑体,以及多个嵌设于轴承支撑体内壁上的碳化轴瓦,该碳化轴瓦与碳化条滑动接触;碳化条与轴套支撑体之间、碳化轴瓦与轴承支撑体之间均采用热套过盈配合。与现有技术相比,本实用新型充分利用碳化超高抗压应力特性,并结合热套过盈配合的方式连接碳化条与轴套内圈、碳化轴瓦与轴承外圈,从而使得来自转子轴的冲击力通过碳化材料充分传递到相应的支撑体上,避免碳化材料的破碎
  • 一种屏蔽电泵用碳化硅轴承结构
  • [实用新型]一种碳化离心泵-CN202223038383.0有效
  • 钊文科;罗斯格;欧宝雷;于小燕 - 无锡英罗唯森科技有限公司
  • 2022-11-14 - 2023-05-16 - F04D1/00
  • 一种碳化离心泵,包括泵头和与泵头连接的动力系统,所述泵头包括金属前压盖、碳化前压盖、碳化叶轮、叶轮压盖、紧固螺丝、碳化壳体、金属泵本体、静环、静环压盖、碳化轴套和动环,所述碳化壳体为一体成型设置,碳化壳体上设置有物料出口,所述碳化壳体一端的端面抵在静环上,另一端的端面抵在碳化前压盖上,所述碳化前压盖靠近金属前压盖的一端设置有物料进口,所述叶轮压盖与传动轴之间形成的间隙填充有第一填充剂,碳化前压盖与金属前压盖之间形成的间隙填充有第二填充剂,碳化壳体与金属泵本体之间形成的间隙填充有第三填充剂。
  • 一种碳化硅离心泵
  • [实用新型]一种碳化管干燥用的支架-CN202321055139.7有效
  • 尹邦进;邓磊 - 浙江吉成新材股份有限公司
  • 2023-04-28 - 2023-09-08 - F26B25/10
  • 本实用新型属于碳化管加工领域,具体是涉及到一种碳化管干燥用的支架,包括移动支架和碳化管放置件,移动支架包括移动底架、支撑杆和多个限位横杆,支撑杆倾斜设置在移动底架上,多个限位横杆设置在支撑杆上,限位横杆上设置有多个限位槽,碳化管放置件的一侧与限位槽可拆卸卡合连接,另一侧设置有用于容纳碳化管的放置槽。本实用新型所提供的碳化管干燥用的支架,每个碳化管竖向放置,可以有效避免碳化管的一侧壁由于压力导致变形,影响碳化管的椭圆度,另外单根碳化管通过一个碳化管放置件设置在移动支架上,便于单根碳化管的独立拆卸
  • 一种碳化硅干燥支架
  • [发明专利]一种生长高纯半绝缘碳化晶体的坩埚及生长方法-CN202211655385.6在审
  • 高升吉;沈志康 - 德清州晶新材料科技有限公司
  • 2022-12-22 - 2023-05-09 - C30B23/00
  • 本发明涉及晶体生长设备技术领域,具体涉及一种生长高纯半绝缘碳化晶体的坩埚及生长方法,生长高纯半绝缘碳化晶体的坩埚包括坩埚本体、多个支撑构件、坩埚密封盖、籽晶、第一电机、转轴和容纳框;将碳化粉末放入容纳框内,通过外部加热源对坩埚本体进行加热,开启第一电机带动容纳框内的碳化粉末转动,使碳化粉末均匀受热;通过设置容纳框来容纳碳化粉末,使得碳化粉末不与坩埚本体内壁接触,同时设置第一电机驱动容纳框转动,使容纳框内的碳化粉末转动而均匀受热,从而避免碳化粉末长期与坩埚本体内壁接触,防止碳化粉末因温度过高而生成碳化颗粒。
  • 一种生长高纯绝缘碳化硅晶体坩埚方法
  • [发明专利]一种双层复合碳化衬底及其制备方法-CN202111381323.6在审
  • 王振中 - 无锡华鑫检测技术有限公司
  • 2021-11-21 - 2022-02-22 - C30B29/36
  • 本发明提出了一种双层复合碳化衬底,所述衬底包括碳化单晶层和碳化多晶层;所述碳化多晶层中含有3C型晶体颗粒;所述晶体颗粒尺寸沿着垂直于衬底方向逆着碳化单晶层一侧渐次变小。利用化学气相沉积法在碳化单晶层上沉积碳化多晶层,控制晶体质量,提高了界面的结合强度,且兼顾了生长成本。本发明解决了碳化单晶和碳化多晶复合衬底存在的界面空隙和缺陷问题,能有效保持衬底应用性能的稳定性,保证与后续垂直器件工艺的兼容性,且制备过程有效减少碳化单晶的损耗,为高性能低成本碳化基器件制备奠定基础
  • 一种双层复合碳化硅衬底及其制备方法

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