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- [实用新型]晶圆限位装置-CN202320727234.0有效
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陈敬海;陈伟;张伟
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上海积塔半导体有限公司
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2023-04-04
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2023-08-08
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H01L21/68
- 本实用新型提供了一种晶圆限位装置。所述晶圆限位装置包括：晶圆放置台，用于放置晶圆；多个限位柱，环绕所述晶圆放置台设置；多个限位片，每一所述限位片固定于至少一所述限位柱的顶部，所述限位片朝向晶圆一侧的表面为与晶圆的外边沿相适配的弧形，从而对所述晶圆进行限位本实用新型设置限位片朝向晶圆一侧的表面为与晶圆的外边沿相适配的弧形，使晶圆的外边沿与所述限位片相贴合，形成线性接触，扩大了晶圆的受力面积，从而减少外力对晶圆的损伤，解决较薄的晶圆或特殊外延生长的晶圆与限位装置接触点受力较大造成缺角从而报废的问题，提升晶圆加工的总良率。
- 限位装置
- [实用新型]一种单晶圆搬运装置-CN202022694384.5有效
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黄自柯;赵晗;林生海
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冠礼控制科技（上海）有限公司
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2020-11-19
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2021-05-25
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H01L21/677
- 本实用新型涉及一种单晶圆搬运装置，包括CST进料单元，CST进料单元上置有用于放置晶圆的晶圆载体，晶圆载体由水平输送模组运送至提升工位，并经提升机构提升至晶圆夹爪转台单元的取货位置，晶圆夹爪转台单元包括转台和晶圆框边夹持气爪，晶圆框边夹持气爪在转台的带动下旋转至取货位置夹取晶圆，并将晶圆输送至晶圆对中单元正上方取片位置，晶圆对中单元包括行程可调气缸以及顶针，晶圆对中单元通过顶针托举正上方的晶圆，并由顶针将晶圆向下输送至晶圆对中单元的对中位置，真空吸盘单元用于吸取晶圆对中单元上的晶圆，并将晶圆输送至上货区域；本实用新型能够实现取片输送与取片回收采用相同机构完成,且使用的零部件少，占空间小。
- 一种单晶圆搬运装置
- [实用新型]晶圆陶瓷真空吸附载盘-CN202221997447.7有效
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秦尔君;马喜军;李亚林
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郑州琦升精密制造有限公司
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2022-08-01
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2022-12-06
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H01L21/683
- 本实用新型涉及晶圆陶瓷真空吸附载盘，本实用新型有效解决了现有的吸附载盘不便于对不同大小的晶圆进行吸附，且不能将晶圆整体随意吸附在载盘上的不同部位，局限性较大，不便于对晶圆吸附固定的问题。该晶圆陶瓷真空吸附载盘，通过环形导气板、环形气路和微孔陶瓷板的设置，通过外部设备将真空吸附槽内抽真空，在环形导气板的作用下能使环形气路中的气流均匀流通，从而使微孔陶瓷板的表面任何部位均有吸力且吸力大小均匀，当不同大小的晶圆放置在该装置表面的任何部位均能对其进行吸附，且微孔陶瓷板平整，不存在气孔，能将晶圆吸附的更加稳定，有利于将不同大小的晶圆吸附在该装置表面的任何部位，更便于使用。
- 陶瓷真空吸附
- [实用新型]晶圆传送装置-CN201921422999.3有效
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徐纯;莫少文;林晓瑜
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上海华力微电子有限公司
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2019-08-29
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2020-02-21
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H01L21/677
- 本实用新型提供了一种晶圆传送装置，包括承载模块及设置于所述承载模块内的第一气路通道和第二气路通道，所述承载模块上设置有吸附腔，所述第一气路通道的一端连通所述吸附腔，另一端连接一真空泵，通过所述真空泵将所述吸附腔抽真空以吸附一晶圆；所述第二气路通道的一端连通所述吸附腔，另一端连通大气，通过所述第二气路通道对所述吸附腔泄压以释放所述晶圆。利用真空泵使得吸附腔内外产生压强差对晶圆进行吸附，同时，通过增加一个第二气路通道来平衡用吸附腔的内外大气压，避免了由于第一气路通道真空释放不彻底导致晶圆释放时产生拖拽或者弹跳的问题，提高了晶圆的良率，同时减少了人力的维护以及提高了晶圆传送装置的利用率
- 传送装置
- [实用新型]集成式氮气净化设备-CN202221070333.8有效
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王嘉祯;成龙;缪峰
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弥费实业（上海）有限公司
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2022-04-26
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2022-09-06
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F17D1/02
- 本实用新型提供了一种集成式氮气净化设备，包括：箱体；若干结构相同的气控模块，气控模块可拆卸固定于箱体内；气控模块连接晶圆装卸机，气控模块用于向晶圆装卸机供应工作气体，以及用于排出从晶圆装卸机回流的工作气体；每个气控模块设置有数显式流量传感器和数显式压力传感器。当进行故障排查时，可以通过数显式设备快速完成排查作业，同时能够将晶圆装卸机转接至氮气净化设备中的其他未使用的气控模块，执行故障气控模块维修，保证氮气供应，保障晶圆产品安全，并且气控模块的结构统一，集成化水平高
- 集成氮气净化设备
- [发明专利]一种晶圆承载平台-CN202210670454.4在审
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产文兵;郑军
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聚时科技（上海）有限公司
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2022-06-14
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2022-08-30
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H01L21/683
- 本发明涉及晶圆加工技术领域，尤其涉及一种晶圆承载平台，包括马达、氧化铝多孔陶瓷、气滑环，所述氧化铝多孔陶瓷通过支撑环安装在马达上，所述气滑环设置在马达的中空位置，所述气滑环与氧化铝多孔陶瓷底部的密封板连接，且气滑环的可水平旋转的气管接口穿过密封板为氧化铝多孔陶瓷提供真空吸附晶圆，所述马达用于带动氧化铝多孔陶瓷水平旋转。本发明通过分布于氧化铝致密陶瓷的气道分隔812寸晶圆吸附功能，接触面氧化铝多孔陶瓷则具有较高孔隙率及通孔率保证吸附翘曲较大的晶圆，气滑环能够很好的保证平台面需要旋转360°工况。本技术方案旨在对平面度要求较高且对大翘曲度晶圆的真空吸附牢固性。
- 一种承载平台
- [实用新型]一种晶圆载台装置-CN202223395749.X有效
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王亚秋;徐乐
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苏州镁伽科技有限公司
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2022-12-15
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2023-06-02
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H01L21/683
- 本实用新型公开了一种晶圆载台装置，包括：吸盘，支撑框，气滑环和马达；所述气滑环包括旋转部和固定部，所述吸盘的下方设置有所述支撑框，所述支撑框下方设置有马达，所述气滑环的旋转部内置于所述支撑框，所述气滑环的旋转部的进气管与所述吸盘的内部连通，所述气滑环的固定部的出气管与抽气结构连通，所述气滑环的旋转部与所述吸盘在所述马达的驱动下旋转。其中，通过气滑环的进气管与所述吸盘相连接，可以实现对晶圆的吸附，同时通过驱动马达使得气滑环的旋转部带动吸盘进行旋转，可以实现对晶圆的旋转，且在旋转过程中晶圆可以一直处于被吸附状态，防止旋转过程中晶圆的掉落，进一步避免晶圆被损坏。
- 一种晶圆载台装置
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