专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]多稳态振动能量俘获结构-CN201910564294.3有效
  • 周生喜;王锁 - 西北工业大学
  • 2019-06-27 - 2020-05-01 - H02N2/18
  • 本发明公开了一种多稳态振动能量俘获结构,包括支座,支座上部和底部分别安装有夹板和滑槽;其中,夹板包括左夹板和右夹板,悬臂梁通过螺栓固定于左夹板与右夹板之间,悬臂梁端部连接有端部永磁铁;滑槽侧面设有延长孔本发明通过引入非线性磁力实现多稳态效应,有效提高了能量俘获效率和能量俘获器的工作频带。本发明易于实现和调整多稳态结构,能够有效地提高能量俘获效率以及拓宽能量俘获器的工作频带。
  • 稳态振动能量俘获结构
  • [发明专利]电荷俘获型非易失性存储器件及其制造方法-CN200910000359.8无效
  • 金光玉;姜惠阑 - 海力士半导体有限公司
  • 2009-01-06 - 2009-11-25 - H01L27/115
  • 一种电荷俘获型非易失性存储器件及其制造方法,所述方法包括:在衬底上形成隧道绝缘层、电荷俘获层、介电层和用于栅电极的导电层;通过选择性地蚀刻用于栅电极的导电层来形成栅电极;在栅电极侧壁上形成包括第一间隔物和第二间隔物的间隔物,第二间隔物由与第一间隔物不同的材料形成;和通过使用间隔物作为蚀刻阻挡层来蚀刻介电层和电荷俘获层,由此防止在蚀刻电荷俘获层时对栅电极的侵袭,并因此增加晶体管的可靠性和稳定性。此外,在一个或更多个实施方案中,垂直地形成电荷俘获层图案的侧壁,由此防止拖尾形成和对衬底的侵袭。
  • 电荷俘获非易失性存储器及其制造方法
  • [发明专利]防中子辐射涂料-CN200910013586.4无效
  • 刘英;曹莉;梁平;刘慧;李慧;徐宁尉;曾宗鹏 - 刘英;曹莉;梁平;刘慧;李慧;徐宁尉;曾宗鹏
  • 2009-09-03 - 2010-01-27 - C09D5/32
  • 本发明公开一种成本低廉、制作容易、俘获中子效果好、可有效防止中子辐射的涂料,是由中子慢化层及中子俘获层构成,所述中子慢化层是由重量百分比为50~60%的涂料与重量百分比为40~50%的中子慢化添加剂混合而成,所述中子俘获层是由重量百分比为50~60%的涂料与重量百分比为40~50%的中子俘获添加剂混合而成;所述中子慢化添加剂是由石墨粉和氧化铅粉混合而成,石墨粉与氧化铅粉的重量比是3∶1;所述中子俘获添加剂的组分及重量百分比是天然
  • 中子辐射涂料
  • [发明专利]一种后栅无结与非门闪存存储器及其制作方法-CN201710028176.1有效
  • 肖德元 - 上海新昇半导体科技有限公司
  • 2017-01-13 - 2020-09-25 - H01L27/1157
  • 本发明提供一种后栅无结与非门闪存存储器及其制作方法,所述存储器包括:衬底、绝缘层、二维半导体材料沟道层、碳纳米管栅阵列、栅俘获结构、保护层、源接触电极和漏接触电极。所述栅俘获结构包括隧道层、电荷俘获层及阻挡层,其中,所述隧道层位于所述沟道层之上,所述阻挡层环绕所述碳纳米管栅阵列中碳纳米管的外侧面,所述电荷俘获层包括环绕所述阻挡层外侧面的第一部分及位于所述隧道层之上并与所述第一部分接触的第二部分本发明的后栅无结与非门闪存存储器采用二维半导体材料水平沟道,并采用了金属性碳纳米管栅阵列,且阻挡层及电荷俘获层环绕碳纳米管栅,不仅可以简化器件结构,提高存储单元密度,还可以获得更强的栅极电荷俘获性能。
  • 一种后栅无结与非门闪存存储器及其制作方法

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