专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种能组合变化图形单元并生成不同图案的数字万花筒-CN202211409025.8在审
  • 蒋雯;黄晓钧 - 广东工业大学
  • 2022-11-10 - 2023-02-03 - G02B27/08
  • 本发明公开了一种能组合变化图形单元并生成不同图案的数字万花筒,主要包括万花筒本体和软件模块,万花筒本体由上盖和下盖以及任意数量的元素盒组成。使用时,元素盒放置各种小元素,合上盖子以后把和上盖下盖组装起来并打开下盖的灯开关。多层元素盒内的小元素就会重叠出不同效果,摄像头可以沿着上盖的第二环形轨道移动,实时拍摄重叠的元素盒里的元素,抓取这些元素图像。摄像头录制拍摄时会通过控制器的发送模块发送给软件模块,当摄像头与智能设备连接时,用户使用智能设备app可以在设备显示屏上看到摄像头拍摄的实时画面,然后在app上选择棱镜类型,生成不同的万花筒图案,以供用户录制
  • 一种组合变化图形单元生成不同图案数字万花筒
  • [发明专利]基于分形几何的图案自动生成方法-CN201910503069.9有效
  • 袁庆霓;田桂栋;冯磊;胡涛;史义;施辉成;吕健 - 贵州大学
  • 2019-06-11 - 2022-07-01 - G06F30/20
  • 本发明公开了一种基于分形几何的图案自动生成方法,包括基本花朵图案的生成和不同布局方式的花朵图案的生成,具体步骤如下:通过超椭圆曲线函数生成花叶的基本元素,并重复迭代生成花叶图案;通过玫瑰曲线函数生成花瓣的基本元素,且重复迭代生成花瓣图案;通过园内摆线函数生成花蕊图案;通过玫瑰曲线和圆形曲线函数生成花芯图案;并组合上述步骤中的图案生成完整的花朵图案;使用变换函数迭代整个花朵图案以生成各种图案布局,其中根据迭代次数的不同可以生成对称布局、二方连续或四方连续等花朵图案的布局。本发明不仅能有效的模拟传统手工蜡染的图案,而且能快速生成不同布局图案
  • 基于几何图案自动生成方法
  • [发明专利]一种基于图案隐藏的双重验证防伪方法-CN201010589565.X无效
  • 曹汉强;陈汝钧 - 华中科技大学
  • 2010-12-15 - 2011-04-20 - G06K19/06
  • 本发明公开了一种图案隐藏双重验证的防伪方法,该方法将待隐藏的图案变换成平面光学元素,再选择另外两幅图案,将所选的另外两幅图案用平面光学元素的条纹填充,分别作为标识卡图案和检测卡图案;然后将标识卡图案制作到防伪标识上,成为标识卡;将检测卡图案制作到透明材料上,得到检测卡;检测时,当检测卡与标识卡重叠时,显现待隐藏的图案,作为真假辨别的第一重验证;当采用激光照射标识卡上的标识卡图案,也再现待隐藏的图案,作为第二重验证
  • 一种基于图案隐藏双重验证防伪方法
  • [发明专利]具有权重的阈值计算-CN201910215851.0有效
  • S·内布;N·R·诺瑞克;A·亨;A·菲尔纳;T·沃尔夫 - 海德堡印刷机械股份公司
  • 2019-03-21 - 2021-02-26 - B41J2/165
  • 一种用于借助计算机探测和补偿喷墨印刷机中的有缺陷的印刷喷嘴的方法,印刷至少一个多行的印刷喷嘴测试图案和至少一个面覆盖元素,由至少一个图像传感器检测并由计算机分析处理这两个元素,由计算机通过分析处理面覆盖元素求取印刷错误并分配给有缺陷的印刷喷嘴,然后,计算机通过根据阈值分析处理印刷喷嘴测试图案来探测有缺陷的印刷喷嘴,对如此探测的有缺陷的印刷喷嘴进行补偿,计算机将由面覆盖元素探测到的有缺陷的印刷喷嘴与由印刷喷嘴测试图案探测到的有缺陷的印刷喷嘴比较并求取:哪些所探测到的有缺陷的印刷喷嘴仅在两个元素中的一个中引起偏差,由这些数据如此计算阈值,使得所探测到的有缺陷的印刷喷嘴的数量最小。
  • 具有权重阈值计算
  • [发明专利]半导体器件和制造其的方法-CN201811062733.2有效
  • 徐东灿;李商文;金利桓;宋宇彬;申东石;李承烈 - 三星电子株式会社
  • 2018-09-12 - 2023-04-07 - H01L21/336
  • 一种制造半导体器件的方法和一种半导体器件,该方法包括:在衬底上形成有源图案,使得有源图案包括交替地且重复地堆叠在衬底上的牺牲图案和半导体图案;以及通过执行氧化工艺,在每个牺牲图案的两侧形成第一间隔物图案,其中第一间隔物图案对应于每个牺牲图案的氧化部分,其中牺牲图案包括包含杂质的第一半导体材料,其中半导体图案包括与第一半导体材料不同的第二半导体材料,以及其中杂质包括与第一半导体材料和第二半导体材料的半导体元素不同的元素
  • 半导体器件制造方法

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