专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种电压传输电路及相关电路结构-CN201810695495.2有效
  • 郑世程;付丽银;刘飞;霍宗亮;叶甜春 - 中国科学院微电子研究所
  • 2018-06-29 - 2021-07-27 - H02M3/155
  • 本发明公开了一种电压传输电路、高压开关电路、升压电路、稳压电路及半导体存储器,电压传输电路包括:主传输MOS管及防击穿保护器件;防击穿保护器件的输入端接入输入电压,防击穿保护器件的输出端连接主传输MOS管的第一端,主传输MOS管的栅极连接主开关控制端,及主传输MOS管的第二端外接负载,其中,防击穿保护器件用于将输入电压钳位预设电压后输出至主传输MOS管的第一端,预设电压小于输入电压。在主传输MOS管和输入电压之间接入一防击穿保护器件,通过防击穿保护器件将输入电压钳位到一电压相对较低的预设电压后,传输至主传输MOS管,进而能够避免出现主传输MOS管被击穿而失效的情况,提高器件的使用寿命
  • 一种电压传输电路相关结构
  • [发明专利]沟槽式MOS器件的工艺监控方法及装置-CN201110029707.1有效
  • 刘宪周 - 上海宏力半导体制造有限公司
  • 2011-01-27 - 2011-08-17 - H01L21/66
  • 一种沟槽式MOS器件的工艺监控方法及装置,所述方法包括:确定本批次沟槽式MOS器件的软击穿点和硬击穿点的栅极电压和/或栅极漏电流;对本批次待监控的沟槽式MOS器件的栅极施加检测电压并检测其栅极漏电流,所述检测电压电压值介于所述软击穿点和硬击穿点的栅极电压之间,或对各沟槽式MOS器件的栅极施加检测电流并检测其栅极电压,所述检测电流的电流值介于所述软击穿点和硬击穿点的栅极漏电流之间。本发明能够改善工艺监控效果,准确的检测出器件的工艺漂移问题。
  • 沟槽mos器件工艺监控方法装置
  • [发明专利]OTP单元和存储器-CN202011401609.1在审
  • 何世坤;周伟华;熊保玉 - 浙江驰拓科技有限公司
  • 2020-12-03 - 2022-06-10 - G11C17/10
  • 本申请提供了一种OTP单元和存储器,该OTP单元包括硬击穿组件、数据读取单元和开关单元,其中,硬击穿组件包括至少两个硬击穿器件,硬击穿组件在短路状态时的输出电压与硬击穿组件在非短路状态时的输出电压不同,短路状态为所有的硬击穿器件均短路的状态,非短路状态为除短路状态外的其他状态,硬击穿器件为具有硬击穿特性的器件;数据读取单元与硬击穿组件电连接,数据读取单元用于将硬击穿组件的输出电压转换为数字信号并输出;开关单元包括至少两个开关器件,开关单元与硬击穿组件和数据读取单元分别电连接,开关器件的数量与硬击穿器件的数量相同且一一对应电连接。
  • otp单元存储器
  • [发明专利]一种具有雪崩耐量的GaN器件及制作方法-CN202211047053.X有效
  • 李茂林;施雯;银发友 - 杭州云镓半导体科技有限公司
  • 2022-08-30 - 2023-06-16 - H01L29/778
  • 本发明涉及GaN器件领域。提供了一种具有雪崩耐量的GaN器件及制作方法,通过在漏极的外侧形成一个P‑GaN帽层,从而在GaN器件内部集成一个p‑i‑n结,当器件关断,感性负载使漏极电压升高,漏‑源极上的高压超过p‑i‑n结的击穿电压时,p‑i‑n结就会在主器件击穿前,优先发生雪崩击穿,继而快速泄放高压能量。漏极上的高压能量通过雪崩击穿泄放后,漏极电压降低,重新回到正常的关态电压。高压能量在主器件击穿前就在p‑i‑n结回路泄放完毕,避免了主器件发生不可恢复的硬击穿所导致的主器件损坏。并且由于p‑i‑n结的雪崩击穿是可恢复的且非破坏性的,所以p‑i‑n结对主器件的保护作用是可重复的。p‑i‑n结可优先发生雪崩击穿,也避免了GaN器件提供更高的电压裕量,降低了生产成本。
  • 一种具有雪崩gan器件制作方法
  • [发明专利]检测半导体器件介质层可靠性的方法和装置-CN201010154824.6有效
  • 简维廷;赵永;韩坤 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2010-04-14 - 2011-10-19 - G01R31/26
  • 一种检测半导体器件介质层可靠性的方法和装置,其中,所述方法包括:基于斜坡电压测试和时间相关介质击穿测试的介质层击穿过程,确定介质层的斜坡击穿电压和时间相关介质击穿时间之间的转换关系;利用斜坡电压测试,测试一组样品的介质层的斜坡击穿电压Vbd1,Vbd2......Vbdn;利用韦伯分布对所述斜坡击穿电压Vbd1,Vbd2......Vbdn进行拟合;基于所述拟合结果,确定与预定斜坡电压击穿累积失效率对应的斜坡击穿电压;利用所述介质层的斜坡击穿电压和时间相关介质击穿时间之间的转换关系,将所述确定的斜坡击穿电压转换为时间相关介质击穿时间。本发明可以快速的进行半导体器件介质层可靠性评估。
  • 检测半导体器件介质可靠性方法装置

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