[发明专利]一种半导体离子注入机的智能化作业的系统和方法在审
| 申请号： | 202310269494.2 | 申请日： | 2023-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN116259517A | 公开（公告）日： | 2023-06-13 |
| 发明（设计）人： | 阎海亮;李玲;魏晓光;朱涛;李青岭;李嘉琳;王锐;杨霏;汪玉;王鑫 | 申请（专利权）人： | 北京智慧能源研究院;国网安徽省电力有限公司电力科学研究院 |
| 主分类号： | H01J37/302 | 分类号： | H01J37/302;H01J37/317;H01L21/265;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京君有知识产权代理事务所(普通合伙) 11630 | 代理人： | 焦丽雅 |
| 地址： | 102200 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种半导体离子注入机的智能化作业系统和方法，所述系统包括：半导体离子注入机、KVM切换器、搭载RPA流程自动化模块的远程操控服务器或电脑；所述离子注入机能够对半导体工艺进行离子注入，被单独操作运行作业；所述KVM切换器用于把离子注入机切换到远程操控端服务器或电脑，通过网络通讯将离子注入机和远程操控端的服务器或电脑串联起来，远程操控服务器或电脑通过KVM切换器控制离子注入机的远程界面；所述RPA流程自动化模块搭载到远程操控端服务器或电脑，包括OCR文字识别单元、流程编辑单元、CV视觉处理单元、Dashboard单元。本发明大幅降低了人工工作的强度和时长、作业时的辐射风险，提升半导体离子注入机的作业效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 离子 注入 智能化 作业 系统 方法 | ||
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- 本发明公开了一种控制离子均匀注入的二维扫描同步的方法，涉及离子注入机，属于半导体制造领域。系统主要由运动控制卡(1)、移动法拉第电机(2)、移动法拉第杯(3)、剂量控制器(4)、位置平衡板(5)、直线电机(6)和计算机(实时系统)(7)构成。由计算机(实时系统)(7)向运动控制卡(1)发命令控制移动法拉第电机(2)和直线电机(6)，并产生两个同步信号。产生的两个同步信号由位置平衡板(5)自动分时采集，并产生信号触发剂量控制器(4)产生扫描波形。移动法拉第电机(2)带动移动法拉第杯(3)采集束流，送到剂量控制器(4)。剂量控制器(4)和计算机(实时系统)(7)相连。本发明能够实现离子均匀注入二维扫描的同步，实现离子二维注入的均匀性。
- 一种离子源坩埚控制方法-201010513581.0
- 伍三忠;孙勇;周文龙 - 北京中科信电子装备有限公司
- 2010-10-13 - 2012-05-09 - H01J37/302
- 本发明阐述了一种离子源坩埚控制方法，控制离子注入机离子源中的坩埚除气和蒸发过程，以稳定产生所需气体。本方法涉及离子注入机，属于半导体制造领域。本方法包含了两个大的步骤，即图中的除气部分(1)和闭环稳气部分(2)。除气部分(1)是通过预热和不断加热坩埚，将坩埚中的杂质气体和所要加热的固体中含有的水分除掉。闭环稳气部分(2)是将坩埚温度的控制与离子源真空值进行闭环控制，并以PID控制算法实现对于二者间的关联控制。离子源真空值可通过人机交互界面设定，由本方法自动调节坩埚温度，使得离子源真空值保持稳定，即获得目标气体浓度。
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