专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [外观设计]基座-CN202330180141.6有效
  • 铃木邦彦;梅津拓人 - 纽富来科技股份有限公司
  • 2023-04-06 - 2023-10-20 - 15-99
  • 1.本外观设计产品的名称:基座。2.本外观设计产品的用途:在半导体制造装置等中,构成用于保持晶片的基座单元中的基台的中央部分。3.本外观设计产品的设计要点:在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片:立体图。
  • 基座
  • [发明专利]带电粒子束描绘装置以及带电粒子束描绘方法-CN201910480018.9有效
  • 东矢高尚;森田博文;小笠原宗博 - 纽富来科技股份有限公司
  • 2019-06-04 - 2023-09-01 - H01J37/145
  • 本发明涉及带电粒子束描绘装置以及带电粒子束描绘方法。本实施方式的带电粒子束描绘装置具备:发射部,发射带电粒子束;第1光圈,对上述带电粒子束进行成形;照明透镜,将上述带电粒子束照射到上述第1光圈;第2光圈,对透过了上述第1光圈之后的带电粒子束进行成形;投影透镜,将透过了上述第1光圈之后的带电粒子束投影到上述第2光圈;物镜,是对透过了上述第2光圈之后的带电粒子束进行对焦的磁场型透镜;以及静电透镜,与作为描绘对象的基板的表面高度相匹配地进行带电粒子束的焦点修正,上述静电透镜配置在上述物镜内,向该静电透镜的电极施加正电压,该电极上端的该物镜的磁场强度为规定值以下。
  • 带电粒子束描绘装置以及方法
  • [发明专利]多电子束描绘装置以及多电子束描绘方法-CN202310053619.8在审
  • 岩崎光太 - 纽富来科技股份有限公司
  • 2023-02-03 - 2023-08-18 - G03F7/20
  • 提供一种多电子束描绘装置以及多电子束描绘方法,能够提高形成电子束的光电面的各区域的受光量的均匀性。本发明的一个方案的多电子束描绘装置具备:阵列光源,具有多个光源,产生多个第1光;多透镜阵列,具有多个透镜,多个第1光的各第1光对多个透镜中各自的一部分的多个透镜进行照明,多个透镜中的至少一部分透镜受到多个第1光中的两个以上的第1光的照射,由此将多个第1光分割为多个第2光;光电面,从表面入射多个第2光,从背面发射多光电子束;以及消隐孔径阵列机构,进行独立地切换多光电子束的各射束的射束开启/截止的单独消隐控制。
  • 电子束描绘装置以及方法
  • [发明专利]描绘装置以及偏转器-CN202080045345.2有效
  • 岸和宏;小笠原宗博 - 纽富来科技股份有限公司
  • 2020-08-19 - 2023-08-04 - G03F7/20
  • 本发明提供能够抑制偏转器的电极的充电并且提高带电粒子射束的消隐控制的精度的描绘装置以及偏转器。本实施方式的消隐偏转器具备:第一电极,具有第一绝缘体、覆盖第一绝缘体的整个表面且电阻比第一绝缘体低的第一材料膜、以及覆盖第一材料膜的表面的一部分或者全部且电阻比第一材料膜低的第一低电阻膜;以及第二电极,具有第二绝缘体、覆盖第二绝缘体的整个表面且电阻比第二绝缘体低的第二材料膜、以及覆盖第二材料膜的表面的一部分或者全部且电阻比第二材料膜低的第二低电阻膜,所述消隐偏转器使带电粒子射束在第一电极与第二电极之间通过而控制是否向试样照射带电粒子射束。
  • 描绘装置以及偏转
  • [外观设计]基座-CN202330180133.1有效
  • 铃木邦彦;梅津拓人 - 纽富来科技股份有限公司
  • 2023-04-06 - 2023-07-21 - 15-99
  • 1.本外观设计产品的名称:基座。2.本外观设计产品的用途:在半导体制造装置等中,构成用于保持晶片的基座单元中的基台的外周部分。3.本外观设计产品的设计要点:在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片:立体图。
  • 基座
  • [外观设计]基座-CN202330180137.X有效
  • 铃木邦彦;梅津拓人 - 纽富来科技股份有限公司
  • 2023-04-06 - 2023-07-21 - 15-99
  • 1.本外观设计产品的名称:基座。2.本外观设计产品的用途:在半导体制造装置等中,构成用于保持晶片的基座单元中的基台的外周部分。3.本外观设计产品的设计要点:在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片:立体图。
  • 基座

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