[发明专利]垂直场效应晶体管半导体单元的优化在审

专利信息
申请号: 202011046828.2 申请日: 2020-09-29
公开(公告)号: CN112614837A 公开(公告)日: 2021-04-06
发明(设计)人: 都桢湖 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/092 分类号: H01L27/092;H01L29/423;H01L29/78;H01L27/02;H03K19/0948
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 刘虹
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种在多个栅极栅格上实施垂直场效应晶体管(VFET)电路的VFET单元,包括:第一电路,包括至少一个VFET,并被提供在至少一个栅极栅格上;以及第二电路,包括至少一个VFET,并被提供在形成于第一电路的左侧或右侧的至少一个栅极栅格上,其中第一电路的VFET的栅极被配置为共享第二电路的VFET的栅极信号或源极/漏极信号,并且第一电路是(X‑1)接触式多晶间距(CPP)电路,其为(X‑1)CPP宽,是从X‑CPP电路转换而来的,X‑CPP电路为X‑CPP宽并且执行与(X‑1)CPP电路相同的逻辑功能,X是大于1的整数。
搜索关键词: 垂直 场效应 晶体管 半导体 单元 优化
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011046828.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top