[实用新型]碳化硅半导体高温氧化装置的导热结构有效

专利信息
申请号: 201921994244.0 申请日: 2019-11-18
公开(公告)号: CN210429767U 公开(公告)日: 2020-04-28
发明(设计)人: 李晶;卢红亮;李勇刚;蒋镄铠 申请(专利权)人: 四川矽芯微科技有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 成都玖和知识产权代理事务所(普通合伙) 51238 代理人: 胡琳梅
地址: 629200 四川省遂*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 本申请公开了一种碳化硅半导体高温氧化装置的导热结构,第一套筒安装在安装盖的下端,第二套筒安装在第一套筒的下端,第一套筒下端且位于第二套筒的外周安装有多个第一加热杆,第三套筒内设有用于安装第二套筒的第一限位腔,第二套筒内设有多个第二加热杆,第一套筒外壁与第三套筒内壁形成第二限位腔,安装盖上设有与第三限位腔连通的第三排气管,第一电阻丝安装在第一导热套内,第二电阻丝安装在第二导热套内,第一电阻丝的电阻大于第二电阻丝的电阻。本实用新型能够实现分区加热处理,可以实现对不同颗粒大小的碳化硅半导体进行分区氧化,实现不同温度的氧化导热处理,有效提高热效率,提高了氧化的效率和质量。
搜索关键词: 碳化硅 半导体 高温 氧化 装置 导热 结构
【主权项】:
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