[实用新型]碳化硅半导体高温氧化装置的导热结构有效
申请号: | 201921994244.0 | 申请日: | 2019-11-18 |
公开(公告)号: | CN210429767U | 公开(公告)日: | 2020-04-28 |
发明(设计)人: | 李晶;卢红亮;李勇刚;蒋镄铠 | 申请(专利权)人: | 四川矽芯微科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 成都玖和知识产权代理事务所(普通合伙) 51238 | 代理人: | 胡琳梅 |
地址: | 629200 四川省遂*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本申请公开了一种碳化硅半导体高温氧化装置的导热结构,第一套筒安装在安装盖的下端,第二套筒安装在第一套筒的下端,第一套筒下端且位于第二套筒的外周安装有多个第一加热杆,第三套筒内设有用于安装第二套筒的第一限位腔,第二套筒内设有多个第二加热杆,第一套筒外壁与第三套筒内壁形成第二限位腔,安装盖上设有与第三限位腔连通的第三排气管,第一电阻丝安装在第一导热套内,第二电阻丝安装在第二导热套内,第一电阻丝的电阻大于第二电阻丝的电阻。本实用新型能够实现分区加热处理,可以实现对不同颗粒大小的碳化硅半导体进行分区氧化,实现不同温度的氧化导热处理,有效提高热效率,提高了氧化的效率和质量。 | ||
搜索关键词: | 碳化硅 半导体 高温 氧化 装置 导热 结构 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造