[发明专利]密封用片和电子元件装置的制造方法在审
申请号: | 201910594955.7 | 申请日: | 2019-07-03 |
公开(公告)号: | CN110676226A | 公开(公告)日: | 2020-01-10 |
发明(设计)人: | 土生刚志;大原康路;清水祐作;饭野智绘 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | H01L23/29 | 分类号: | H01L23/29;H01L21/56 |
代理公司: | 11021 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 葛凡 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及密封用片和电子元件装置的制造方法。密封用片以形成将电子元件进行密封的密封层的方式加以使用,所述电子元件以与基板的厚度方向一个面相对的方式进行安装。密封层在将电子元件进行密封时,与基板中的不与电子元件相对的厚度方向一个面接触。密封用片的厚度T[mm]与密封层的25℃的拉伸储能模量E’[N/mm | ||
搜索关键词: | 密封 密封层 基板 电子元件装置 拉伸储能模量 面接触 制造 | ||
【主权项】:
1.一种密封用片,其特征在于,其以形成将电子元件进行密封的密封层的方式加以使用,所述电子元件以与基板的厚度方向一个面相对的方式进行安装,所述密封层在将所述电子元件进行密封时,与所述基板中的不与所述电子元件相对的所述厚度方向一个面接触,/n所述密封用片的厚度T与所述密封层的25℃的拉伸储能模量E’的乘积T×E’为3,000N/mm以上且5,000N/mm以下,/n其中,所述厚度T的单位为mm,所述拉伸储能模量E’的单位为N/mm
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