[发明专利]密封用片和电子元件装置的制造方法在审
| 申请号： | 201910594955.7 | 申请日： | 2019-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN110676226A | 公开（公告）日： | 2020-01-10 |
| 发明（设计）人： | 土生刚志;大原康路;清水祐作;饭野智绘 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | H01L23/29 | 分类号： | H01L23/29;H01L21/56 |
| 代理公司： | 11021 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 葛凡 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 密封 密封层 基板 电子元件装置 拉伸储能模量 面接触 制造 | ||
【权利要求书】：
1.一种密封用片，其特征在于，其以形成将电子元件进行密封的密封层的方式加以使用，所述电子元件以与基板的厚度方向一个面相对的方式进行安装，所述密封层在将所述电子元件进行密封时，与所述基板中的不与所述电子元件相对的所述厚度方向一个面接触，
所述密封用片的厚度T与所述密封层的25℃的拉伸储能模量E’的乘积T×E’为3,000N/mm以上且5,000N/mm以下，
其中，所述厚度T的单位为mm，所述拉伸储能模量E’的单位为N/mm2，所述乘积T×E’的单位为N/mm。
2.根据权利要求1所述的密封用片，其特征在于，所述密封用片的厚度T为0.25mm以上且小于0.50mm。
3.一种电子元件装置的制造方法，其特征在于，使用权利要求1或2所述的密封用片，将电子元件密封。
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