[发明专利]半导体装置及其制造方法在审
申请号: | 201780097239.7 | 申请日: | 2017-12-01 |
公开(公告)号: | CN111418058A | 公开(公告)日: | 2020-07-14 |
发明(设计)人: | 河面英夫;白泽敬昭;荒木慎太郎;木本信义;王丸武志 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | H01L23/473 | 分类号: | H01L23/473;H01L25/07;H01L25/18;H05K7/20 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 何立波;张天舒 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明的目的在于提供能够抑制尺寸公差的影响的半导体装置及其制造方法。本发明涉及的半导体装置具有:多个冷却板(1),它们各自在内部具有冷媒通路(11);间隔件(5),其使各冷却板(1)分离地层叠;半导体封装件(2),其设置于至少1个冷却板(1)的至少1个主面之上;以及弹簧板(4),其设置于相邻的冷却板(1)之间,将半导体封装件(2)向冷却板(1)侧预紧。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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