[发明专利]紫外光发光二极管及其基板以及其基板的制造方法在审
| 申请号： | 201710623423.2 | 申请日： | 2017-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN109309082A | 公开（公告）日： | 2019-02-05 |
| 发明（设计）人： | 张延瑜;李瑞评 | 申请（专利权）人： | 兆远科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L25/075 | 分类号： | H01L25/075;H01L33/00;H01L33/12 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 任岩 |
| 地址： | 中国台湾新竹科学工业园*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种紫外光发光二极管的基板，包括具有一图案化结构的基材与一图案化缓冲层；该基板的制造方法，包括：提供一基材，在该基材表面上设置一缓冲层，并使该缓冲层形成一图案化缓冲层，且该基材的表面形成一图案化结构，然后移除该图案化屏蔽层；一种紫外光发光二极管，包括上述的基板、设置于该图案化缓冲层上的至少一外延层，以及设置于该外延层上的一多层半导体结构。通过上述方法所形成的基板，使该基板中的图案化缓冲层仍保持有单一晶格取向的特性，以该基板为基础所形成的紫外光发光二极管可达到更佳的发光效率。 | ||
| 搜索关键词： | 基板 紫外光发光二极管 图案化缓冲层 基材 图案化结构 缓冲层 外延层 多层半导体结构 表面形成 发光效率 基材表面 晶格取向 屏蔽层 图案化 移除 制造 | ||
【主权项】：
1.一种紫外光发光二极管的基板，包括：一基材，具有一表面，所述表面形成有一图案化结构，所述图案化结构具有自所述表面凹入形成的多个凹陷部，以及位于所述多个凹陷部之间的多个凸起部，所述多个凸起部的上表面构成所述表面的一部分；一图案化缓冲层，具有多个凸部及多个镂空区，所述多个凸部分别直接设置于所述多个凸起部的上表面且位于所述多个凸起部上表面的正投影范围内；所述多个凸部的厚度介于15～2000nm之间，且所述图案化缓冲层的材质包括AlNxOy，其中x介于0.7～1之间，y介于0～0.3之间；每个所述凸部具有一C轴取向的上表面；所述多个镂空区与所述多个凹陷部相通。
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