[发明专利]半导体光调制器无效

专利信息
申请号: 201310252050.4 申请日: 2013-06-24
公开(公告)号: CN103777377A 公开(公告)日: 2014-05-07
发明(设计)人: 高木和久 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: G02F1/017 分类号: G02F1/017
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 闫小龙;王忠忠
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的目的在于得到一种射出激光的形状为单峰的半导体光调制器。本发明的电场吸收型的半导体光调制器具备n型InP基板(2)、n型InP覆盖层(3)、透明波导层(4)、n型InP覆盖层(5)、光吸收层(6)、p型InP覆盖层(7)。由于光的吸收区域存在于在光波导中传播的光分布的端部,所以,不会破坏光分布(15)的单峰性,能够实现光的消光动作。因此,得到射出的激光(14)的形状保持为单峰的光调制器。
搜索关键词: 半导体 调制器
【主权项】:
一种半导体光调制器,其特征在于,具备:第一导电型的基板,在第一主面形成有第一电极;以及在所述基板的第二主面从所述基板侧依次叠层的第一导电型的第一覆盖层、透明波导层、第一导电型的第二覆盖层、光吸收层以及第二导电型的第三覆盖层,所述半导体光调制器具有:在所述层叠方向将从所述第三覆盖层到所述第二覆盖层的中途除去而形成的脊部;形成于所述脊部上部并且与所述第三覆盖层连接的第二电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三菱电机株式会社,未经三菱电机株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310252050.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
  • 电光有源装置-201880002546.7
  • 余国民;张毅;A.齐尔基 - 洛克利光子有限公司
  • 2018-05-11 - 2019-08-23 - G02F1/017
  • 一种基于硅的电光有源装置及其生产方法。所述基于硅的电光有源装置包括:绝缘体上硅(SOI)波导;电光有源波导,其包括在所述SOI波导的空腔内的电光有源堆叠;以及在所述电光有源堆叠与所述SOI波导之间的带衬里的通道,所述带衬里的通道包括衬里;其中所述带衬里的通道由填充材料填充,所述填充材料的折射率类似于形成所述空腔的侧壁的材料的折射率,从而在所述通道中在所述SOI波导与所述电光有源堆叠之间形成桥波导。
  • 光调制器-201710066298.X
  • 西川智志;田中俊行;秋山浩一;柳生荣治 - 三菱电机株式会社
  • 2017-02-07 - 2019-08-20 - G02F1/017
  • 本发明提供一种光调制器。本发明的目的在于提供能够利用简易的电路结构减小分别输入到光波导路支路的电信号的振幅差的技术。光调制器具备:光分波器,使所入射的连续光分波;光波导路支路以及光波导路支路,被分波的连续光在所述光波导路支路以及光波导路支路传播;π光移相器,对分波的连续光附加π的相位差;光合波器,配置在光波导路支路以及光波导路支路的后级,使在光波导路支路以及光波导路支路传播的连续光合波;信号电极以及信号电极,将电信号分别输入到光波导路支路以及光波导路支路;结电容,并联地连接于信号电极以及信号电极中的至少一方;以及直流电压源,对结电容施加直流电压。
  • 一种电驱动表面等离激元光源结构-201910344843.6
  • 刘黎明;迟锋;张小文;易子川;张智;吴艳花 - 电子科技大学中山学院
  • 2019-04-26 - 2019-07-26 - G02F1/017
  • 本发明涉及一种电驱动表面等离激元光源结构,包括由第一金属膜、发光层、第二金属膜构成的多层结构;所述第一金属膜的上方设置有发光层,所述发光层的上方设置有第二金属膜;所述多层结构上设置有穿孔;该电驱动表面等离激元光源结构,不仅结构简单,是一种能够充分发挥表面等离激元的特性,提高表面等离激元光源效果的光源结构,而且在所述的光源结构上镀有保护膜,具有很好的防水、防尘效果,能够很好的保护光源结构,使得光源结构能够在更加复杂的环境中使用,所产生的光通过设置在光源结构上的穿孔或者孔洞进行传播,有利于光的扩散,从而提高了光源发光强度的均匀性。
  • 半导体光调制器以及光模块-201610214794.0
  • 秋山浩一;柳生荣治 - 三菱电机株式会社
  • 2016-04-08 - 2019-01-22 - G02F1/017
  • 本发明涉及半导体光调制器以及光模块,其目的在于提供一种能够使α参数接近0的技术。多量子阱构造(11)具备包括第1阻挡层(11a)、中间层(11b)、阱层(11c)以及第2阻挡层(11d)的层构造(11s)。第1阻挡层以及第2阻挡层(11a、11d)的导带能量、中间层(11b)的导带能量、阱层(11c)的导带能量按照该顺序变大,中间层(11b)的价带能量、阱层(11c)的价带能量、第1阻挡层以及第2阻挡层(11a、11d)的价带能量按照该顺序变大。
  • 一种制备基于CdSe纳米棒阵列的光调制器的方法-201810533482.5
  • 王志兵 - 河海大学
  • 2018-05-29 - 2018-11-23 - G02F1/017
  • 本发明公开了一种制备基于CdSe纳米棒阵列的光调制器的方法。该方法包括以下步骤:选用衬底,清洗干净后备用;在洁净的衬底上镀一层ITO薄膜;在ITO薄膜层上制备PVK复合薄膜,所述PVK复合薄膜中均匀混有CdSe纳米棒;在PVK复合薄膜上方放置铜薄片,与ITO薄膜构成平板电容器,通电使样品置于18KV/mm的电场条件中,用488nm的激光垂直电场方向入射,样品在170oC保持10分钟后开始降温,当温度低于95oC后撤去电场。极化完毕在PVK复合薄膜上蒸镀二氧化硅层,然后再蒸镀ITO薄膜,即得光调制器。本发明基于CdSe纳米棒阵列的光调制器利用量子限制斯塔克效应,采用了膜式结构中的微小稳定的电流来控制光电离所产生的随机电场,继而可以通过改变外场电压来改变光在膜层中的吸收率,对光的强度调制效果,进而达到开关的效果和可控滤波效果。
  • 一种基于量子限制斯塔克效应的电光调制器件制备方法-201511019319.X
  • 张家雨;樊恺;廖晨 - 东南大学
  • 2015-12-29 - 2018-11-09 - G02F1/017
  • 本发明是一种基于CdSe/CdS量子点及其量子限制斯塔克器件的制备方法。其量子点的制备在高温下通过恒流泵混合注入前驱体来完成,该方法新颖简单,能够得到纯纤锌矿相的、non‑blinking的CdSe/CdS量子点;器件制作在石英衬底上,通过涂胶、曝光、显影、蒸镀、清洗等过程得到周期性的交叉电极结构,电极采用Au来蒸镀,各电极间距离为2μm,并在倒置显微镜下利用白光光源测量该结构上的量子点在通上电压前后的透射谱变化。
  • 基于量子阱子带跃迁的隧穿诱导透明效应的时延器件-201410155328.0
  • 苏雪梅;王涛;张锐;李翠莉;卓仲畅 - 吉林大学
  • 2014-04-17 - 2014-07-16 - G02F1/017
  • 本发明的基于量子阱子带跃迁的隧穿诱导透明效应的时延器件,属于半导体材料技术领域,特别涉及一种用于光电子领域的时延器件。其结构是,在GaAs材料的基底(1)上依次生长有AlAs层(2)、第一势垒层(3)、浅量子阱层(4)、第二势垒层(5)、深量子阱层(6)、第三势垒层(7)和连续区(8);以第一势垒层(3)~连续区(8)为一个周期,共排列有6~15个周期;然后有覆盖层(9),最外层有空气隔离层(10)。本发明的时延器件的延时时间可以达到皮秒量级,可以应用于光电子学领域。本发明的时延器件比采用原子系统时延器件更实用,其结构与材料可以人为地选择,相干强度可以控制和改变。
  • 半导体光调制器-201310252050.4
  • 高木和久 - 三菱电机株式会社
  • 2013-06-24 - 2014-05-07 - G02F1/017
  • 本发明的目的在于得到一种射出激光的形状为单峰的半导体光调制器。本发明的电场吸收型的半导体光调制器具备n型InP基板(2)、n型InP覆盖层(3)、透明波导层(4)、n型InP覆盖层(5)、光吸收层(6)、p型InP覆盖层(7)。由于光的吸收区域存在于在光波导中传播的光分布的端部,所以,不会破坏光分布(15)的单峰性,能够实现光的消光动作。因此,得到射出的激光(14)的形状保持为单峰的光调制器。
  • 量子点彩色滤光片、液晶面板及显示装置-201210448399.0
  • 张丽蕾 - 京东方科技集团股份有限公司
  • 2012-11-09 - 2013-02-27 - G02F1/017
  • 本发明涉及显示技术领域,公开了一种量子点彩色滤光片、液晶面板及显示装置,所述量子点彩色滤光片,用于液晶面板,液晶面板上具有多个像素,每个像素中具有多个子像素,每个子像素对应于一种颜色,彩色滤光片包括与子像素一一对应设置的子区域,至少一个子区域由量子点材料形成,且量子点材料被激发后产生的光与对应的子像素的颜色相同。本发明采用量子点材料形成显示器的彩色滤光片,红色、或绿色、或蓝色滤光片采用可以通过光激发产生红光、或绿光、或蓝光的量子点材料,可以提高背光源的利用率,同时获得更高纯度的色光,因此量子点显示能够实现彩色显示的高色域和低功耗。
  • GaN/AlN耦合量子阱子带间跃迁条形波导电光调制器及制备方法-201210205531.5
  • 高福斌;高放;杜国同;殷景志;马艳;吴国光;李万程 - 吉林大学
  • 2012-06-20 - 2012-10-24 - G02F1/017
  • 本发明属于光电子技术领域,涉及一种改进的基于GaN/AlN耦合量子阱子带间跃迁吸收的近红外通信波段条形波导电光调制器及其制备方法。由底金属电极(1)、导电碳化硅单晶衬底(2)、GaN缓冲层(3)、SiO2掩模层(4)、AlGaN下包层(5)、GaN/AlN耦合量子阱周期超晶格波导芯层(6)、AlGaN上包层(7)和金属上电极(8)构成;本发明可以有效降低导波光的传播损耗,同时使后期器件制备工艺大为简化,更有利于器件实用化,也便于实现与其它器件单片集成;另外,由于衬底导电,器件能够采用垂直调制电极结构,使调制电场与波导光场完全重合,最大限度提高调制效率,获得更高器件消光比。
  • 一种太赫兹波高速调制器-201120533846.3
  • 张雄;丛嘉伟;郭浩 - 东南大学
  • 2011-12-19 - 2012-08-22 - G02F1/017
  • 本实用新型公开了一种太赫兹波高速调制器,包括衬底层,在该衬底层上生长有缓冲层,在该缓冲层生长有应变量子阱结构,在该应变量子阱结构的上表面制备的由金属谐振单元周期阵列组成的金属超材料结构;所述缓冲层与衬底层材料相同,所述势阱层的能带隙小于势垒层,且所述势垒层与衬底层的晶格常数的相同或相差0.5%以内。本实用新型应变量子阱结构内具有由应变产生的极强的压电场,能够显著延长光生载流子的复合寿命和浓度,从而极大降低对调制激光器功率的要求;通过改变InGaAs/GaAs应变量子阱中In组分和量子阱宽度,可灵活地调节内部压电场的大小和电荷空间分离的程度,进而方便地调节本实用新型调制速率。
  • 具有行波电极结构的光电子器件及行波电极结构-201210092760.0
  • 于弋川 - 华为技术有限公司
  • 2007-12-14 - 2012-07-25 - G02F1/017
  • 本发明公开了一种具有行波电极结构的光电子器件,所述行波电极包括在光波导结构之上的行波电极和偏离光波导结构之上的行波电极两部分,从而使得器件的特征阻抗与标准阻抗之差小于预设值。本发明还公开了一种行波电极结构。利用本发明,使得器件特征阻抗与系统标准阻抗在较大的频率范围内相匹配,从而保证器件具有较好的高速性能。
  • 电吸收调制器及光半导体装置-201110386620.X
  • 大和屋武 - 三菱电机株式会社
  • 2011-11-29 - 2012-07-04 - G02F1/017
  • 本发明提供一种电吸收调制器,其目的在于,提高具有AlGaInAs光吸收层的电吸收调制器的特性。在n型InP衬底(1)上,按顺序层叠有n型InP包覆层(2)、AlGaInAs光吸收层(4)、p型InGaAsP光波导层(6)、以及p型InP包覆层(7)。p型InGaAsP光波导层(6)具有组成不同的三个InGaAsP层(6a、6b、6c)。InGaAsP层(6a、6b、6c)的价电子带间的能量势垒与InGaAsP层为单层的情况相比,其能量势垒变小。
  • n-i-n型电光调制器-201110424539.6
  • 孙长征;郭丽丽;熊兵;罗毅;赵湘楠 - 清华大学
  • 2011-12-16 - 2012-06-27 - G02F1/017
  • 本发明涉及光通信中的光电子器件领域,公开了一种n-i-n型电光调制器,从下至上依次包括:衬底、下欧姆接触层、下限制层、下导波层、有源层、上导波层、上限制层和上欧姆接触层,上、下限制层为N型掺杂结构;所述有源层的禁带宽度为Eg1、折射率为n1,上、下导波层的禁带宽度为Eg2、折射率为n2,上、下限制层的禁带宽度为Eg3、折射率为n3,禁带宽度满足Eg1>Eg3>Eg2的关系,折射率满足n2>n1>n3的关系。本发明能够改善电光调制器的调制特性。
  • 一种太赫兹波高速调制器及其制作方法-201110427332.4
  • 张雄;丛嘉伟;郭浩;崔一平 - 东南大学
  • 2011-12-19 - 2012-06-27 - G02F1/017
  • 本发明公开了一种太赫兹波高速调制器及其制作方法,包括衬底层,在该衬底层上生长有缓冲层,在该缓冲层生长有应变量子阱结构,在该应变量子阱结构的上表面制备的由金属谐振单元周期阵列组成的金属超材料结构;所述缓冲层与衬底层材料相同,所述势阱层的能带隙小于势垒层,且所述势垒层与衬底层的晶格常数的相同或相差0.5%以内。本发明应变量子阱结构内具有由应变产生的极强的压电场,能够显著延长光生载流子的复合寿命和浓度,从而极大降低对调制激光器功率的要求;通过改变InGaAs/GaAs应变量子阱中In组分和量子阱宽度,可灵活地调节内部压电场的大小和电荷空间分离的程度,进而方便地调节本发明调制速率。
  • 极化子模式光开关-201080028853.6
  • 安度烈 - 首尔市立大学产学协力团
  • 2010-04-27 - 2012-05-16 - G02F1/017
  • 本公开提供了用于频率相关光切换的器件、方法和技术。在一个实施例中,一种器件包括衬底、位于衬底上的第一和第二光场限制结构以及设置在第一和第二光场限制结构之间的量子结构。第一光场限制结构可以包括接收光子的表面。第二光场限制结构可以与第一光场限制结构隔开。第一和第二光场限制结构可以被配置为将光子的光场实质上限制在它们之间。
  • 光调制器-201110215013.7
  • 石村荣太郎;高木和久;松本启资;斎藤健 - 三菱电机株式会社
  • 2011-07-29 - 2012-05-09 - G02F1/017
  • 本发明的目的在于得到一种能够充分地扩大调制频带的光调制器。在半导体芯片(10)内设置有波导(12)。经由第一导线(18)将供电线(20)连接到行波型电极(14)的输入部(14a)。经由第二导线(22)以及终端线(24)将终端电阻(26)连接到行波型电极(14)的输出部(14b)。输出部(14b)和接地点之间的电容比输入部(14a)和接地点之间的电容大。
  • 碲化镉量子点接枝石墨烯-碳纳米管复合薄膜光开关材料及制备-201110261698.9
  • 封伟;彭罗文;冯奕钰 - 天津大学
  • 2011-09-06 - 2012-02-01 - G02F1/017
  • 本发明公开了一种碲化镉量子点接枝石墨烯-碳纳米管复合薄膜光开关材料及其制备方法,该光开关材料由带有负电荷的石墨烯-碳纳米管复合薄膜为基底,在其基底上静电自组装带正电荷的聚二丙烯基二甲基氯化铵和带有负电荷的碲化镉量子点组成,碲化镉量子点直径为4~6nm。本发明制备方法过程简单,所获得的碲化镉量子点接枝石墨烯-碳纳米管复合薄膜光开关材料,量子点在膜上均匀分散,环境适应性好,性质稳定,具有光、电性能可通过改变量子点的种类和负载的量子点的量进行调控、光电转换速率高等优点,有望用于制备具有快速光响应性能的光电转换器件。
  • 基于环腔的电吸收调制器-201110256183.X
  • 孙长征;刘冬;熊兵;罗毅 - 清华大学
  • 2011-08-31 - 2012-02-01 - G02F1/017
  • 本发明公开了一种基于环腔的电吸收调制器,涉及光电子集成器件技术领域,所述电吸收调制器包括:相互耦合的电吸收波导和直路输入输出波导,所述电吸收波导为环腔结构。本发明的优势在于:1)利用了直路输入输出波导和基于环腔的电吸收波导的耦合作用,由于直路透过光与绕腔传播不同次数的耦合输出光产生干涉,由于环腔的谐振特性,使透过光对腔内的损耗相比一般电吸收调制器敏感,从而提高调制效率;2)将电吸收调制器中的电吸收波导做成环腔结构后,器件尺寸可以减少一个数量级,降低了集总电路电容参数,具有高频调制的潜能。
  • 光调制器和其制造方法-201110073630.8
  • 大和屋武 - 三菱电机株式会社
  • 2011-03-25 - 2011-09-28 - G02F1/017
  • 本发明涉及光调制器及其制造方法。本发明的目的在于提供一种能减少光损失及驱动电压,且容易实现与半导体激光器的集成的光调制器。本发明的光调制器的特征在于,具有:调制区域,对光进行调制;以及无源区域,与该调制区域邻接,在该调制区域以及该无源区域形成有:半导体衬底;该半导体衬底上的n型包层;该n型包层上的核心层;以及该核心层上的p型包层,在该调制区域形成有:该p型包层;该p型包层上的接触层;以及该接触层上的P侧电极,在该无源区域中,在该核心层和该p型包层之间形成有无掺杂包层。
  • 亚微米波导型Ge量子阱电光调制器-201110108110.6
  • 赵红卫;胡炜玄;成步文;王启明 - 中国科学院半导体研究所
  • 2011-04-28 - 2011-08-31 - G02F1/017
  • 一种亚微米波导型Ge量子阱电光调制器,包括:一SOI衬底,该SOI衬底包括一硅衬底,一制作在硅衬底上的二氧化硅层和制作在二氧化硅层上的硅波导层,该硅波导层的宽度小于二氧化硅层的宽度;一缓冲层,该缓冲层制作在SOI衬底上面的硅波导层的中间部位,该缓冲层的长度小于硅波导层的长度;一虚衬底,该虚衬底制作在缓冲层上;一有源区,该有源区制作在虚衬底的上面;一盖层,该盖层制作在有源区的上面,所述的缓冲层、虚衬底、有源区和盖层构成调制区,该调制区和SOI衬底上的硅波导层的宽度均为亚微米量级。
  • 光调制器-201010593275.2
  • 赵龙哲;李用卓;朴勇和;罗炳勋;朴光模;朴昌洙 - 三星电子株式会社;光州科学技术院
  • 2010-12-17 - 2011-07-27 - G02F1/017
  • 本发明公开了基于法布里-珀罗谐振反射的具有宽带宽的光调制器。该光调制器包括:底部分布布喇格反射器(DBR)层;包括至少一层和改性层的顶部DBR层;以及设置在底部DBR层和顶部DBR层之间的有源层,其中所述至少一层包括至少一对具有第一折射系数的第一折射系数层和具有第二折射系数的第二折射系数层,所述改性层包括至少一对具有第三折射系数的第三折射系数层和具有第四折射系数的第四折射系数层,所述第三折射系数与所述第四折射系数不同,以及所述第三折射系数层和所述第四折射系数层二者中的至少一个具有第二光学厚度,该第二光学厚度既不是λ/4,也不是λ/4的奇数倍。
  • 半导体光调制器-201010573435.7
  • 都筑健;菊池顺裕;山田英一 - 日本电信电话株式会社
  • 2006-03-08 - 2011-04-27 - G02F1/017
  • 提供一种具有n-i-n结构半导体光调制器的特点、又能稳定工作,而且对电场的耐压性优良的半导体光调制器。其包括依次层叠n型InP包层(11)、具有电光效应的半导体芯层(13)、p-InAlAs层(15)、以及n型InP包层(16)而形成的波导结构。p-InAlAs层(15)的电子亲和力小于n型InP包层(16)的电子亲和力。在如此构成的波导结构中,还可以分别在n型InP包层(11)和半导体芯层(13)之间设置未掺杂的InP包层(12),在半导体芯层(13)和p-InAlAs层(15)之间设置未掺杂的InP包层(14)。
  • 一种光调制器PN结的制作方法-201010198509.3
  • 李乐 - 上海宏力半导体制造有限公司
  • 2010-06-11 - 2010-12-08 - G02F1/017
  • 本发明公开了一种光调制器PN结的制作方法,该方法包括如下步骤:提供一衬底;对所述衬底进行曝光和刻蚀,形成目标光波导和调制器图形;对所述经过刻蚀的衬底进行轻掺杂N-离子注入;利用第二掩模版对所述经过轻掺杂N-离子注入后的衬底进行轻掺杂P-离子注入。由于在制作过程中只需使用一个掩模版,因而节约了用于光调制器中PN结的制作成本,并且避免了两层掩模版存在的曝光时的对准误差。
  • 一种半导体全光偏振开关-201010135631.6
  • 王涛;胡志强;肖昆辉;郁春潮 - 华中科技大学
  • 2010-03-30 - 2010-07-28 - G02F1/017
  • 本发明涉及一种半导体全光偏振开关,用于解决现有光有源器件在下一代高速全光通信网的光分叉复用系统和光交叉互连系统中响应速度不足问题。本发明包括位于底座平台上的多量子阱层布拉格结构半导体光学元件、信号光光纤准直器、起偏器和检偏器。多量子阱层布拉格结构半导体光学元件是由衬底上外延生长的N个布拉格结构复合层构成的,每个复合层是由量子阱层和垒层组成,在多量子阱层一侧加有全反射膜。本发明的半导体全光偏振开关的响应波长在光通讯波段范围,并可以根据不同条件和要求制作对应的波长全光控制开关,实现超快开关动作,可应用于下一代高速全光通信网,直接在光层实现巨大流量信号的传输与路由。
  • 基于量子限制斯塔克效应的量子点光学调制器-200910026876.2
  • 张家雨;王志兵;李君劲 - 东南大学
  • 2009-05-27 - 2010-02-03 - G02F1/017
  • 基于量子限制斯塔克效应的量子点光学调制器利用了量子点的量子限制效应,该光度调制器由四层薄膜顺序覆盖排列组成;自上至下,第一层为第一ITO的薄膜(1),第二层为PVK薄膜(2),第三层为SiO2薄膜(4),第四层为第二ITO的薄膜(3),第五层为玻璃基板(5)。从而可以通过改变加在薄膜上的电压而改变光的透过率。由于本发明提出的光的调制,开关和过滤作用,所以本发明可以用作通信领域的光开关,光度调制器和滤波器。
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top