[发明专利]半导体基板、电子器件、以及半导体基板的制造方法无效
| 申请号: | 200980138926.4 | 申请日: | 2009-10-01 |
| 公开(公告)号: | CN102171790A | 公开(公告)日: | 2011-08-31 |
| 发明(设计)人: | 秦雅彦 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
| 主分类号: | H01L21/20 | 分类号: | H01L21/20;H01L21/02;H01L21/205;H01L21/331;H01L21/338;H01L21/8222;H01L21/8248;H01L21/8249;H01L27/06;H01L27/08;H01L27/12;H01L29/737;H01L2 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 蒋亭 |
| 地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 本发明提供依序具有半导底板基板、绝缘层、Si结晶层的半导体基板。其是在Si结晶层上设有阻挡化合物半导体的结晶生长的阻挡层,而阻挡层具有贯通到Si结晶层为止的开口,在开口内部具有种晶,而化合物半导体是与种晶晶格匹配或准晶格匹配的半导体基板。本发明还提供电子器件,具有基体、设置在基体上的绝缘层、设置在绝缘层上的Si结晶层、设置在Si结晶层上的阻挡层,用于阻挡化合物半导体的结晶生长;且具有贯通Si结晶层为止的开口的阻挡层、设置在开口内部的种晶、晶格匹配或准晶格匹配于种晶的化合物半导体以及化合物半导体形成的半导体器件。 | ||
| 搜索关键词: | 半导体 电子器件 以及 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种依序具有底板基板、绝缘层、Si结晶层的半导体基板,还包括:阻挡层,设置在所述Si结晶层上,阻挡化合物半导体的结晶生长,且具有贯通至所述Si结晶层为止的开口;种晶,设置在所述开口内部;以及化合物半导体,其与所述种晶晶格匹配或准晶格匹配。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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