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- [实用新型]一种晶圆干燥装置-CN202320545630.1有效
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殷骐;郑晟良
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杭州众硅电子科技有限公司
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2023-03-14
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2023-10-20
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H01L21/687
- 本实用新型公开了一种晶圆干燥装置,包括:干燥箱体,盛装有清洗液;至少两个支撑机构,用于承托晶圆并驱动其在干燥箱体内上升至清洗液液面以下;抬升机构,设于晶圆底部,用于承托晶圆并驱动其脱离液面;支撑机构和抬升机构交替接触晶圆并驱动其上升。本实用新型两侧支撑机构和抬升机构独立控制,实现两个阶段的不同抬升模式;晶圆抬升过程前半段通过两侧支撑机构驱动,支撑机构工作范围仅限于液面以内,晶圆接触面积大,晶圆放置稳定,磨损量小;晶圆抬升过程后半段抬升机构的托底才正式介入,每片晶圆托底的工作时间减半,损耗量低使用寿命长;不需要频繁更换托底,干燥装置可以保证长时间的稳定运行。
- 一种干燥装置
- [发明专利]一种晶圆传输检测方法-CN202310782387.X在审
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朱政挺
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杭州众硅电子科技有限公司
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2023-06-28
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2023-10-03
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H01L21/677
- 本发明公开了一种晶圆传输检测方法,包括以下步骤:翻转底板和背板呈夹角;设于翻转底板的移动夹爪和支撑结构配合水平夹持晶圆,此时移动夹爪具有第一伸出行程;将第一伸出行程与预设值相比较,以判断移动夹爪是否正确夹持晶圆;移动夹爪正确夹持晶圆后,翻转底板翻转成垂直状态,支撑结构竖直承托晶圆;背板下移X行程,晶圆下移落入晶圆托座后抵接移动夹爪,以将移动夹爪推动至其具有第二伸出行程;将X行程与目标值相比较,以判断晶圆是否竖直放置在晶圆托座。本发明简化了晶圆是否竖直放置的检测结构和检测过程,检测结果更加准确;实现了晶圆在运动过程中的实时检测,检测适应性更高;同时实现晶圆竖直和水平放置的晶圆检测,检测结构较优。
- 一种传输检测方法
- [发明专利]一种空间式工作设备-CN202310437747.2在审
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时泽健;徐枭宇;朱政挺
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杭州众硅电子科技有限公司
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2023-04-20
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2023-09-22
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B24B37/00
- 本发明公开了一种空间式工作设备,包括:元器件单元;支撑架,至少一侧形成转移窗口;工作台空间,形成于支撑架,其至少包括第一工作台单元,与第一工作台单元相对设置的第二工作台单元,及第三工作台单元,所述第一工作台单元和/或第二工作台单元和/或第三工作台单元上设有执行机构;第一工作台单元和/或第二工作台单元和/或第三工作台单元可从转移窗口脱离支撑架。本发明将支撑架的顶部、底部、侧部空间均进行有效利用,最大化程度利用工作空间,增加或者优化执行机构的功能及布局;不局限于单层工作台,第一工作台单元和第二工作台单元实现了上下双层工作台;可以实现任意布局,适应不同的工艺需求;可以实现单工位抛光单元服务多工位。
- 一种空间工作设备
- [发明专利]一种化学机械平坦化设备及晶圆传输方法-CN202310776958.9在审
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朱政挺
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杭州众硅电子科技有限公司
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2023-06-28
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2023-09-19
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H01L21/677
- 本发明公开了一种化学机械平坦化设备,包括:抛光模块;清洗模块;清洗输入模块,分别与抛光模块和清洗模块相邻布设,其包括有晶圆传输装置;晶圆传输装置至少具有第一工作状态和第二工作状态,在第一工作状态时,其承接自抛光模块传送过来的晶圆,且晶圆处于水平或趋于水平状态;在第二工作状态时,其将处于水平或趋于水平状态的晶圆直接翻转至竖直状态。本发明还公开了一种晶圆传输方法。本发明抛光模块和清洗模块之间的晶圆传递通过晶圆传输装置实现,将机械手和中转台的部分结构集成到一起,省略了通过湿环境机械手中转传输这一步骤,减少了中间的传递环节,简化了传递结构,传输效率更高;结构简单,不易出现故障,传输效率高。
- 一种化学机械平坦设备传输方法
- [发明专利]一种晶圆抛光系统及晶圆传输方法-CN202211653830.5在审
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徐枭宇;邓耀敏
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杭州众硅电子科技有限公司
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2022-12-22
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2023-07-28
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B24B29/02
- 本发明公开了一种晶圆抛光系统,包括抛光单元;抛光单元包括晶圆传输通道及抛光模组;抛光模组包括抛光平台和抛光臂,抛光臂可带动晶圆相对抛光平台活动;晶圆传输通道上具有至少两个工作位,晶圆装卸台可在工作位之间移动;相邻抛光单元之间设有传递结构,其沿着第一轨迹在两者的工作位之间传输晶圆,第一轨迹落在晶圆传输通道上;和/或,晶圆装卸台可于相邻抛光单元之间移动;和/或,抛光单元和外界中转台之间设有传送结构,其沿着第二轨迹在两者的工作位之间传输晶圆,第二轨迹落在晶圆传输通道上。本发明还公开了一种晶圆传输方法。本发明轨迹都落在晶圆传输通道上,不会占用别的空间,布局合理;工艺灵活,加工效率高;传输的稳定性高。
- 一种抛光系统传输方法
- [实用新型]一种晶圆抛光系统-CN202223489165.9有效
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徐枭宇
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杭州众硅电子科技有限公司
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2022-12-22
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2023-07-07
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B24B29/02
- 本实用新型公开了一种晶圆抛光系统,包括抛光单元;抛光单元包括晶圆传输通道,及至少两个抛光模组,抛光模组位于晶圆传输通道的两侧;抛光模组包括抛光平台和抛光臂,抛光臂可带动晶圆相对抛光平台活动,以实现抛光工艺;相邻抛光单元之间设有传递结构,其包括基座和与其相连的摆臂,摆臂用于夹持晶圆。本实用新型传递结构、顶部传输机构之间可以组合使用,工艺灵活性高,化学机械平坦化设备加工效率高;布局合理;传输的稳定性高;传递结构的结构简单,动作灵活度高,安装方便。
- 一种抛光系统
- [发明专利]一种晶圆干燥抬升方法-CN202310241893.8有效
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殷骐;郑晟良
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杭州众硅电子科技有限公司
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2023-03-14
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2023-06-16
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H01L21/67
- 本发明公开了一种晶圆干燥抬升方法,包括以下步骤:晶圆位于液面以内,支撑机构驱动晶圆上升,其上升速度为V1,抬升机构位于晶圆下方且不接触晶圆,其上升速度为V2,则V2≤V1;晶圆顶部接近液面,支撑机构在保持晶圆上升的状态下脱离晶圆,抬升机构上升接触晶圆,以继续向上推动晶圆伸出液面;晶圆在抬升机构驱动下继续上升,直至晶圆完全脱离液面。本发明两侧支撑机构和抬升机构独立控制,实现两个阶段的不同抬升模式;晶圆抬升过程前半段通过两侧支撑机构驱动,晶圆接触面积大,晶圆放置稳定,磨损量小;晶圆抬升过程后半段抬升机构的托底才正式介入,每片晶圆托底的工作时间减半,损耗量低使用寿命长;不需要频繁更换托底。
- 一种干燥抬升方法
- [实用新型]一种晶圆有无检测的提拉结构机械手-CN202222854675.5有效
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傅棽;杨哲
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杭州众硅电子科技有限公司
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2022-10-26
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2023-05-16
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H01L21/677
- 本实用新型公开了一种晶圆有无检测的提拉结构机械手,包括机械手本体,其具有提拉臂,由提拉臂围设形成的弧形缺口部,及位于弧形缺口部底部的开口端,弧形缺口部的内径与晶圆的外径适配,开口端的宽度小于晶圆的外径,晶圆进入弧形缺口部所在平面后,机械手和晶圆相对平移,可使得晶圆垂直挂设在开口端;机械手本体设有至少一传感器,以用于实时检测晶圆是否挂设在开口端。本实用新型通过直接在机械手本体上安装各种类型传感器,能够在多机械手传输晶圆的复杂情况下实时且可靠地检测每个晶圆传输手是否存在晶圆,杜绝了传感器与机械传动结构的互相干扰,提高了可靠性;无需安装辅助检测结构,大大简化了安装调试的便捷性。
- 一种有无检测结构机械手
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