专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种晶圆抛光系统及晶圆处理方法-CN202310792206.1在审
  • 郑东州;徐枭宇;杨渊思 - 杭州众硅电子科技有限公司
  • 2023-06-29 - 2023-10-27 - H01L21/67
  • 本发明公开了一种晶圆抛光系统,包括:晶圆抛光单元;晶圆清洗单元,与晶圆抛光单元相邻设置;晶圆传输通道;还包括晶圆转移机构,至少部分位于晶圆清洗单元;晶圆传输通道上形成有对接工位,晶圆转移机构的至少部分可活动至对接工位,以实现晶圆在晶圆抛光单元和晶圆清洗单元之间的传输。本发明还公开了一种晶圆抛光系统的晶圆处理方法。本发明晶圆转移机构的部分位于晶圆清洗单元内,其部分可以活动至对接工位,实现了晶圆抛光单元和晶圆清洗单元之间的直接交互,省去了中间的交互环节,晶圆的传递路径缩短,也减少了晶圆传递需要借助的装置,对晶圆的损伤降至最低,晶圆传输效率高。
  • 一种抛光系统处理方法
  • [发明专利]一种用于化学机械平坦化白光终点检测的采集方法及系统-CN202210607065.7有效
  • 邓耀敏 - 杭州众硅电子科技有限公司
  • 2022-05-31 - 2023-10-20 - B24B37/013
  • 本发明公开了一种用于化学机械平坦化白光终点检测的采集方法,包括以下步骤:抛光台设置白光检测模块,用于收集白光经过晶圆的反射光谱信号,光谱信号随抛光过程膜厚减少而变化;沿抛光台的周向设置挡件;设置触发单元和采集单元,转动与挡件配合;抛光台带着白光检测模块旋转;触发单元逻辑状态变化,以触发白光检测模块的处理单元,向光谱仪下发等待采集指令;采集单元转动至挡件的起始端,触发光谱仪,开始采集数据;光谱仪停止采集数据;处理单元输出晶圆去除层的膜厚光谱特征。本发明还公开了一种用于化学机械平坦化白光终点检测的采集系统。本发明可实现高转速抛光过程中,在极短采集时间内,对大量白光光谱数据进行稳定且准确的实时提取。
  • 一种用于化学机械平坦白光终点检测采集方法系统
  • [实用新型]一种晶圆干燥装置-CN202320545630.1有效
  • 殷骐;郑晟良 - 杭州众硅电子科技有限公司
  • 2023-03-14 - 2023-10-20 - H01L21/687
  • 本实用新型公开了一种晶圆干燥装置,包括:干燥箱体,盛装有清洗液;至少两个支撑机构,用于承托晶圆并驱动其在干燥箱体内上升至清洗液液面以下;抬升机构,设于晶圆底部,用于承托晶圆并驱动其脱离液面;支撑机构和抬升机构交替接触晶圆并驱动其上升。本实用新型两侧支撑机构和抬升机构独立控制,实现两个阶段的不同抬升模式;晶圆抬升过程前半段通过两侧支撑机构驱动,支撑机构工作范围仅限于液面以内,晶圆接触面积大,晶圆放置稳定,磨损量小;晶圆抬升过程后半段抬升机构的托底才正式介入,每片晶圆托底的工作时间减半,损耗量低使用寿命长;不需要频繁更换托底,干燥装置可以保证长时间的稳定运行。
  • 一种干燥装置
  • [发明专利]一种晶圆传输检测方法-CN202310782387.X在审
  • 朱政挺 - 杭州众硅电子科技有限公司
  • 2023-06-28 - 2023-10-03 - H01L21/677
  • 本发明公开了一种晶圆传输检测方法,包括以下步骤:翻转底板和背板呈夹角;设于翻转底板的移动夹爪和支撑结构配合水平夹持晶圆,此时移动夹爪具有第一伸出行程;将第一伸出行程与预设值相比较,以判断移动夹爪是否正确夹持晶圆;移动夹爪正确夹持晶圆后,翻转底板翻转成垂直状态,支撑结构竖直承托晶圆;背板下移X行程,晶圆下移落入晶圆托座后抵接移动夹爪,以将移动夹爪推动至其具有第二伸出行程;将X行程与目标值相比较,以判断晶圆是否竖直放置在晶圆托座。本发明简化了晶圆是否竖直放置的检测结构和检测过程,检测结果更加准确;实现了晶圆在运动过程中的实时检测,检测适应性更高;同时实现晶圆竖直和水平放置的晶圆检测,检测结构较优。
  • 一种传输检测方法
  • [实用新型]一种导电型抛光头固定装置及导电型抛光头系统-CN202223125462.5有效
  • 朱政挺 - 杭州众硅电子科技有限公司
  • 2022-11-23 - 2023-09-26 - B24B1/00
  • 本实用新型公开了一种导电型抛光头固定装置,包括:装载部件,具有可与抛光头配合连接的第一吸附端面;且至少形成有第一通道,所述第一通道的一端延伸至第一吸附端面;动力机构,用于带动装载部件旋转;第一导电件,一端与电源连接;导电接口组件,至少包括第一作用端,该第一作用端的至少部分设于第一通道,且与所述第一导电件电连接。本实用新型还公开了一种导电型抛光头系统。本实用新型针对抛光头带电,提供了一种简单可靠的解决办法;装载部件和抛光头上新设第一通道、第二通道,在不影响现有结构基础上可以实现抛光头的导电;设置有导电接口组件,能满足方便快捷地拆卸和安装可通电抛光头的需求。
  • 一种导电抛光固定装置系统
  • [发明专利]一种空间式工作设备-CN202310437747.2在审
  • 时泽健;徐枭宇;朱政挺 - 杭州众硅电子科技有限公司
  • 2023-04-20 - 2023-09-22 - B24B37/00
  • 本发明公开了一种空间式工作设备,包括:元器件单元;支撑架,至少一侧形成转移窗口;工作台空间,形成于支撑架,其至少包括第一工作台单元,与第一工作台单元相对设置的第二工作台单元,及第三工作台单元,所述第一工作台单元和/或第二工作台单元和/或第三工作台单元上设有执行机构;第一工作台单元和/或第二工作台单元和/或第三工作台单元可从转移窗口脱离支撑架。本发明将支撑架的顶部、底部、侧部空间均进行有效利用,最大化程度利用工作空间,增加或者优化执行机构的功能及布局;不局限于单层工作台,第一工作台单元和第二工作台单元实现了上下双层工作台;可以实现任意布局,适应不同的工艺需求;可以实现单工位抛光单元服务多工位。
  • 一种空间工作设备
  • [发明专利]一种化学机械平坦化设备及晶圆传输方法-CN202310776958.9在审
  • 朱政挺 - 杭州众硅电子科技有限公司
  • 2023-06-28 - 2023-09-19 - H01L21/677
  • 本发明公开了一种化学机械平坦化设备,包括:抛光模块;清洗模块;清洗输入模块,分别与抛光模块和清洗模块相邻布设,其包括有晶圆传输装置;晶圆传输装置至少具有第一工作状态和第二工作状态,在第一工作状态时,其承接自抛光模块传送过来的晶圆,且晶圆处于水平或趋于水平状态;在第二工作状态时,其将处于水平或趋于水平状态的晶圆直接翻转至竖直状态。本发明还公开了一种晶圆传输方法。本发明抛光模块和清洗模块之间的晶圆传递通过晶圆传输装置实现,将机械手和中转台的部分结构集成到一起,省略了通过湿环境机械手中转传输这一步骤,减少了中间的传递环节,简化了传递结构,传输效率更高;结构简单,不易出现故障,传输效率高。
  • 一种化学机械平坦设备传输方法
  • [实用新型]一种化学机械抛光的在线监测装置-CN202320163700.7有效
  • 杨哲;周远鹏;朱政挺 - 杭州众硅电子科技有限公司
  • 2023-01-13 - 2023-09-12 - B24B37/013
  • 本实用新型公开了一种化学机械抛光的在线监测装置,设于抛光盘内,可随抛光盘转动;其包括光源;光学镜组,用于接收光源发出的光束,产生准直光束;光路转折单元,用于接收准直光束,将其形成入射光路,入射光路透过抛光盘的通光窗口,照射至抛光盘上的晶圆表面,晶圆表面将入射光路反射后经过光路转折单元形成出射光路;探测器,用于接收出射光路,以获取对应的光谱信息,确定晶圆抛光的终点。本实用新型采用光学镜组缩束准直的方式耦合光源,解决了传统光纤耦合导致的光源光强利用率低的问题;采用信号控制方式调节光源并实时监测光强,保证测量信号的稳定性,提升探测精度,延长光源的使用寿命。
  • 一种化学机械抛光在线监测装置
  • [发明专利]一种活动式工作装置及CMP设备、减薄设备-CN202310427706.5在审
  • 时泽健;徐枭宇;朱政挺 - 杭州众硅电子科技有限公司
  • 2023-04-20 - 2023-08-11 - B24B37/10
  • 本发明公开了一种活动式工作装置,包括:元器件单元,设于顶部和/或底部;支撑架,与所述元器件单元相连,至少一侧形成转移窗口;工作台单元,设于支撑架并与其有至少两个支撑点,其至少包括工作台,及执行机构单元;所述工作台单元可从转移窗口脱离支撑架。本发明还公开了一种CMP设备。本发明中若需维护工作台,可以将任意工位的执行机构单元以活动的方式进行拆卸,从转移窗口脱离支撑架,无需拆除支撑架及其相连的所有部件,方便维护,而且通过工作台单元的更换就能实现单一机台对应多工艺的效果,适用性更广。
  • 一种活动工作装置cmp设备
  • [发明专利]一种晶圆抛光系统及晶圆传输方法-CN202211653830.5在审
  • 徐枭宇;邓耀敏 - 杭州众硅电子科技有限公司
  • 2022-12-22 - 2023-07-28 - B24B29/02
  • 本发明公开了一种晶圆抛光系统,包括抛光单元;抛光单元包括晶圆传输通道及抛光模组;抛光模组包括抛光平台和抛光臂,抛光臂可带动晶圆相对抛光平台活动;晶圆传输通道上具有至少两个工作位,晶圆装卸台可在工作位之间移动;相邻抛光单元之间设有传递结构,其沿着第一轨迹在两者的工作位之间传输晶圆,第一轨迹落在晶圆传输通道上;和/或,晶圆装卸台可于相邻抛光单元之间移动;和/或,抛光单元和外界中转台之间设有传送结构,其沿着第二轨迹在两者的工作位之间传输晶圆,第二轨迹落在晶圆传输通道上。本发明还公开了一种晶圆传输方法。本发明轨迹都落在晶圆传输通道上,不会占用别的空间,布局合理;工艺灵活,加工效率高;传输的稳定性高。
  • 一种抛光系统传输方法
  • [实用新型]一种晶圆抛光系统-CN202223489165.9有效
  • 徐枭宇 - 杭州众硅电子科技有限公司
  • 2022-12-22 - 2023-07-07 - B24B29/02
  • 本实用新型公开了一种晶圆抛光系统,包括抛光单元;抛光单元包括晶圆传输通道,及至少两个抛光模组,抛光模组位于晶圆传输通道的两侧;抛光模组包括抛光平台和抛光臂,抛光臂可带动晶圆相对抛光平台活动,以实现抛光工艺;相邻抛光单元之间设有传递结构,其包括基座和与其相连的摆臂,摆臂用于夹持晶圆。本实用新型传递结构、顶部传输机构之间可以组合使用,工艺灵活性高,化学机械平坦化设备加工效率高;布局合理;传输的稳定性高;传递结构的结构简单,动作灵活度高,安装方便。
  • 一种抛光系统
  • [发明专利]一种晶圆干燥抬升方法-CN202310241893.8有效
  • 殷骐;郑晟良 - 杭州众硅电子科技有限公司
  • 2023-03-14 - 2023-06-16 - H01L21/67
  • 本发明公开了一种晶圆干燥抬升方法,包括以下步骤:晶圆位于液面以内,支撑机构驱动晶圆上升,其上升速度为V1,抬升机构位于晶圆下方且不接触晶圆,其上升速度为V2,则V2≤V1;晶圆顶部接近液面,支撑机构在保持晶圆上升的状态下脱离晶圆,抬升机构上升接触晶圆,以继续向上推动晶圆伸出液面;晶圆在抬升机构驱动下继续上升,直至晶圆完全脱离液面。本发明两侧支撑机构和抬升机构独立控制,实现两个阶段的不同抬升模式;晶圆抬升过程前半段通过两侧支撑机构驱动,晶圆接触面积大,晶圆放置稳定,磨损量小;晶圆抬升过程后半段抬升机构的托底才正式介入,每片晶圆托底的工作时间减半,损耗量低使用寿命长;不需要频繁更换托底。
  • 一种干燥抬升方法
  • [发明专利]一种晶圆抛光系统、装载方法及其使用方法-CN202210316152.7有效
  • 徐枭宇;郑东州;杨渊思 - 杭州众硅电子科技有限公司
  • 2022-03-29 - 2023-05-16 - B24B7/22
  • 本发明公开了一种晶圆抛光系统,包括晶圆传递装置,包括固定座和载片台,固定座可带着载片台在晶圆传输通道内沿X轴方向移动;抛光模组,设于晶圆传输通道的侧边,可于载片台上获取晶圆进行抛光;固定座和载片台之间设有对接机构,该对接机构的部分与固定座相连,部分与载片台相连;当对接机构的两部分完成对接时,载片台和固定座实现限位,且该对接机构可在X轴和Y轴所在平面移动,以带动载片台移动至目标位置。本发明还公开了一种所述晶圆抛光系统的装载方法。本发明又公开了一种所述晶圆抛光系统的使用方法。本发明有效保证载片台移动至目标位置,在两个维度上叠加调整,对接范围广;对接限位可以在不同过程中进行,应用灵活。
  • 一种抛光系统装载方法及其使用方法
  • [实用新型]一种晶圆有无检测的提拉结构机械手-CN202222854675.5有效
  • 傅棽;杨哲 - 杭州众硅电子科技有限公司
  • 2022-10-26 - 2023-05-16 - H01L21/677
  • 本实用新型公开了一种晶圆有无检测的提拉结构机械手,包括机械手本体,其具有提拉臂,由提拉臂围设形成的弧形缺口部,及位于弧形缺口部底部的开口端,弧形缺口部的内径与晶圆的外径适配,开口端的宽度小于晶圆的外径,晶圆进入弧形缺口部所在平面后,机械手和晶圆相对平移,可使得晶圆垂直挂设在开口端;机械手本体设有至少一传感器,以用于实时检测晶圆是否挂设在开口端。本实用新型通过直接在机械手本体上安装各种类型传感器,能够在多机械手传输晶圆的复杂情况下实时且可靠地检测每个晶圆传输手是否存在晶圆,杜绝了传感器与机械传动结构的互相干扰,提高了可靠性;无需安装辅助检测结构,大大简化了安装调试的便捷性。
  • 一种有无检测结构机械手

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