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[外观设计]清洗装置-CN202230505519.0有效
发明人：时泽健 -专利权人： 杭州众硅电子科技有限公司
申请日： 2022-08-04 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： 15-05 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：清洗装置。2.本外观设计产品的用途：用于冲洗修整器、抛光头等。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：设计2立体图。5.指定设计2为基本设计。
清洗装置

[外观设计]供液装置-CN202230516498.2有效
发明人：时泽健 -专利权人： 杭州众硅电子科技有限公司
申请日： 2022-08-09 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： 15-99 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：供液装置。2.本外观设计产品的用途：用于输送抛光液,清洗液。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图1。
装置

[发明专利]一种化学机械抛光的在线监测装置-CN202211239231.9在审
发明人：杨哲;周远鹏 -专利权人： 杭州众硅电子科技有限公司
申请日： 2022-10-11 - 公布日： 2022-11-08 - 主分类号： G01N21/25 文献下载
摘要：本发明公开了一种化学机械抛光的在线监测装置，设于抛光盘内，可随抛光盘转动；其包括光源；光学镜组，用于接收光源发出的光束，产生准直光束；光路转折单元，用于接收准直光束，将其形成入射光路，入射光路透过抛光盘的通光窗口，照射至抛光盘上的晶圆表面，晶圆表面将入射光路反射后经过光路转折单元形成出射光路；探测器，用于接收出射光路，以获取对应的光谱信息，确定晶圆抛光的终点。本发明采用光学镜组缩束准直的方式耦合光源，解决了传统光纤耦合导致的光源光强利用率低的问题；采用信号控制方式调节光源并实时监测光强，保证测量信号的稳定性，提升探测精度，延长光源的使用寿命。
一种化学机械抛光在线监测装置

[发明专利]一种晶圆传输装置、传输方法及CMP设备清洗模块-CN202210695124.0在审
发明人：杨渊思;周智鹏 -专利权人： 杭州众硅电子科技有限公司
申请日： 2020-05-06 - 公布日： 2022-10-25 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆传输装置、传输方法及CMP设备清洗模块，晶圆传输装置，包括：卡爪夹持臂模块及第一卡爪夹持臂模块，用于取放晶圆；Z轴移动模块及第一Z轴移动模块，分别与卡爪夹持臂模块、第一卡爪夹持臂模块相连，实现其在Z轴方向上的移动；X轴移动模块及第一X轴移动模块，分别与Z轴移动模块、第一Z轴移动模块的下端相连，实现其在X轴方向上的移动；X轴移动模块及第一X轴移动模块沿Y轴重叠安装，位于CMP设备清洗模块的一侧；X轴移动模块、第一X轴移动模块和CMP设备清洗模块平行设置。本发明将X轴移动模块安装到Z轴移动模块的下端，减少了杂质颗粒掉落到晶圆的可能性，提升了晶圆清洗效果，继而可增加X轴、Z轴移动模块的数量。
一种传输装置方法 cmp 设备清洗模块

[发明专利]一种晶圆抛光系统-CN202111445239.6有效
发明人：徐枭宇 -专利权人： 杭州众硅电子科技有限公司
申请日： 2021-11-30 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆抛光系统，至少包括一个抛光单元；抛光单元包括一个固定工作位，及两个抛光模组，抛光模组位于固定工作位的两侧；抛光模组包括抛光平台和抛光臂，抛光臂可带动晶圆相对抛光平台活动，以实现抛光工艺；两侧抛光模组的抛光臂位于固定工作位的斜对角方向，抛光臂分别可在固定工作位和抛光平台之间摆动实现晶圆的转移，且抛光臂的活动区域具有重叠部分。本发明每个抛光模组的抛光臂独立控制，稳定性更好，灵活度更高；仅仅需要一个固定工作位就可以实现多个抛光模组配合实现单个或多个晶圆的抛光工艺，抛光过程的移动路径大大缩短，使得传输过程时间最小化，抛光效率更高。
一种抛光系统

[实用新型]一种晶圆传递装置-CN202220709319.1有效
发明人：郑东州;徐枭宇;杨渊思 -专利权人： 杭州众硅电子科技有限公司
申请日： 2022-03-29 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： B65G47/52 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种晶圆传递装置，包括：载片台，用于承载晶圆；固定座，用于带着载片台在晶圆传输通道内移动；对接机构，设于固定座和载片台之间，其包括第一部分和第二部分，第一部分与固定座相连，第二部分与载片台相连；当第一部分和第二部分对接时，载片台和固定座实现轴向限位，且该对接机构可带动载片台或固定座在X轴和Y轴所在平面移动。本实用新型可以有效保证载片台移动至目标位置，对接机构的移动板通过滑轨相对固定座的移动、通过上对接部和下对接部的轴向对接，在两个维度上叠加调整，实现载片台和固定座的对接，对接范围广，适应不同的使用场景，应用广泛，对接机构的结构相对简单，装配方便，驱动结构简单。
一种传递装置

[实用新型]一种标定抛光头和装卸台工作位置的装置-CN202220951711.7有效
发明人：徐枭宇;周杲翔;蔡宁远 -专利权人： 杭州众硅电子科技有限公司
申请日： 2022-04-24 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种标定抛光头和装卸台工作位置的装置，包括：装卸台，可沿直线轨迹往复运动；抛光头，可周向旋转，且其旋转轨迹与直线轨迹至少有一个交点；传感器组件，用于监测抛光头的外缘与传感器之间的间距变化，包括设于装卸台的传感器，其至少可在装卸台径向两端的位置进行测距。本实用新型标定效率高，以更少的传感器数量、更少的数据、更优的数据处理方式、实现了复杂的对中场景的对中；通过传感器的位置设置，使得标定精度高，对传感器的安装位置要求低；装卸台与抛光头均可移动，且前者是直线运动轨迹后者是弧线运动轨迹，在标定难度较高时仍能准确快速完成标定。
一种标定抛光装卸工作位置装置

[实用新型]一种化学机械平坦化设备-CN202123094653.5有效
发明人：丁夏楠 -专利权人： 杭州众硅电子科技有限公司
申请日： 2021-12-10 - 公布日： 2022-09-27 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种化学机械平坦化设备，包括研磨垫，设于旋转台上；研磨头，用于带动晶圆在研磨垫上旋转以研磨晶圆表面；研磨液输送臂，包括带有出口的研磨液输送管，用于向研磨垫上输送研磨液；还包括，冷却单元，用于降低研磨液输送管内研磨液的温度；加热单元，用于升高研磨液输送管内研磨液的温度；调控单元，用于至少监测研磨垫的温度和研磨液输送管内研磨液的温度，以通过冷却单元和/加热单元的调节，使得研磨垫的温度和研磨液输送管出口处的研磨液温度趋于相同。本实用新型中研磨液温度可以快速升降双向切换；降低能耗；提高生产效率。
一种化学机械平坦设备

[实用新型]一种晶圆检测系统-CN202220360370.6有效
发明人：陈阳阳;殷骐 -专利权人： 杭州众硅电子科技有限公司
申请日： 2022-02-22 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种晶圆检测系统，包括水平传输轴；晶圆清洗模组，设于所述水平传输轴的一侧；晶圆传输手，可移动地设于所述水平传输轴，用于取放晶圆，并带动晶圆在晶圆传输通道内移动，以实现晶圆的传输；所述晶圆传输通道的首尾端设有至少一组发射单元和反馈单元，所述发射单元用于向反馈单元发射光束，该光束位于所述晶圆传输通道内，用于检测晶圆传输手上是否夹持有晶圆。本实用新型可以实时检测晶圆传输通道内是否有晶圆，继而判断晶圆传输手上是否夹持有晶圆，结构简单，检测时效性高；晶圆传输手的结构多样，对晶圆的夹取更加灵活，可以适应不同的使用场景。
一种检测系统

[实用新型]一种提拉式晶圆传输机构-CN202220232619.5有效
发明人：殷骐 -专利权人： 杭州众硅电子科技有限公司
申请日： 2022-01-26 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种提拉式晶圆传输机构，包括：传输主体，带有弧形缺口部，该弧形缺口部具有开放端；限位卡槽，设于弧形缺口部开放端的至少一侧，其开口朝向晶圆；所述限位卡槽的内底壁与弧形缺口部开放端的另一侧之间的间距小于等于晶圆的直径，以使得晶圆进入弧形缺口部后，可竖直挂设在限位卡槽和弧形缺口部开放端的另一侧之间。本实用新型无需运动执行机构就能实现晶圆的抓取，依靠晶圆自重实现固定，结构简单，整体重量轻，尺寸小，易维护，抓取更加灵活，抓取稳定。
一种提拉式晶圆传输机构

[发明专利]一种标定抛光头和装卸台工作位置的装置和方法-CN202210432780.1在审
发明人：徐枭宇;周杲翔;蔡宁远 -专利权人： 杭州众硅电子科技有限公司
申请日： 2022-04-24 - 公布日： 2022-06-28 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种标定抛光头和装卸台工作位置的装置，包括：装卸台，可沿直线轨迹往复运动；抛光头，可周向旋转，且其旋转轨迹与直线轨迹至少有一个交点；传感器组件，用于监测抛光头的外缘与传感器之间的间距变化，包括传感器，其至少可在装卸台径向两端的位置进行测距；判断单元，用于输出传感器组件监测的抛光头外缘与传感器之间的最小直线距离，以判断抛光头和装卸台的中心轴线是否重合。本发明还公开了一种标定抛光头和装卸台工作位置的方法。本发明标定效率高，对传感器的安装位置要求低；检测误差小。
一种标定抛光装卸工作位置装置方法

[发明专利]一种动态检测装置及化学机械平坦化设备-CN202210164369.0有效
发明人：陈阳阳;殷骐 -专利权人： 杭州众硅电子科技有限公司
申请日： 2022-02-23 - 公布日： 2022-06-21 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明公开了一种动态检测装置，包括：发射单元；反馈单元，用于接收发射单元发出的光束；发射单元和反馈单元分别设于晶圆传输手或晶圆清洗模组；发射单元和反馈单元分别位于晶圆的两侧，当晶圆传输手上夹持有晶圆时，该晶圆可阻挡光束；发射单元或反馈单元随着晶圆传输手移动，可与晶圆清洗模组的任一反馈单元或发射单元配合，用于检测两者之间的光路内是否有晶圆，以判断晶圆传输手上是否夹持有晶圆。本发明还公开了一种化学机械平坦化设备。本发明可以实时检测每个或任意一个晶圆传输手上是否夹持有晶圆；晶圆传输手的移动通道不会被阻隔，移动更加灵活；实现了动态检测，可选择性地与任意晶圆清洗模组配合进行检测。
一种动态检测装置化学机械平坦设备

[实用新型]晶圆抛光系统-CN202122971341.1有效
发明人：杨渊思;徐枭宇;周智鹏;吴俊逸 -专利权人： 杭州众硅电子科技有限公司
申请日： 2021-11-30 - 公布日： 2022-06-21 - 主分类号： B24B37/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种晶圆抛光系统，至少包括一个抛光单元；抛光单元包括晶圆传输通道，及至少两个抛光模组，抛光模组位于晶圆传输通道的两侧；抛光模组包括抛光平台和抛光臂，抛光臂可带动晶圆相对抛光平台活动，以实现抛光工艺；晶圆传输通道上有至少两个工作位，晶圆传递装置可在工作位之间移动；晶圆在一个抛光模组的抛光臂和晶圆传输通道之间的传输轨迹为第一轨迹；晶圆在另一抛光模组的抛光臂和晶圆传输通道之间的传输轨迹为第二轨迹；第一轨迹，晶圆传递装置的移动轨迹，及第二轨迹的走向呈近似Z字形。本实用新型稳定性更好，灵活度高，抛光效果更佳。
抛光系统

[实用新型]晶圆驱动机构-CN202123042692.0有效
发明人：殷骐 -专利权人： 杭州众硅电子科技有限公司
申请日： 2021-12-06 - 公布日： 2022-06-21 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了晶圆驱动机构，晶圆的外边缘带有缺口部，驱动机构包括，侧方驱动轮一，带有第一凹槽，底面与晶圆外缘接触，侧方驱动轮一自身转动以驱动晶圆转动；中间驱动轮，带有第二凹槽，底面可与晶圆外缘接触，中间驱动轮自身转动以驱动晶圆转动；侧方驱动轮二，带有第三凹槽，其底面与晶圆外缘接触，侧方驱动轮二自身转动以驱动晶圆转动；中间驱动轮的轴心所在高度小于侧方驱动轮一和侧方驱动轮二的轴心所在高度；侧方驱动轮一和侧方驱动轮二与晶圆的接触点之间的间距为S，缺口部的水平宽度为L，S≥L。本实用新型通过三个主动轮的配合驱动晶圆转动，提高了驱动晶圆转动的可靠性，保证晶圆的稳定转动；提高了晶圆转速检测可靠性。
驱动机构

[实用新型]一种站立式晶圆卡座-CN202123158380.6有效
发明人：朱政挺 -专利权人： 杭州众硅电子科技有限公司
申请日： 2021-12-15 - 公布日： 2022-06-17 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种站立式晶圆卡座，至少包括一个基座单元；基座单元包括第一晶圆座和第二晶圆座；第一晶圆座顶部带有第一弧形凹面，其朝向第二晶圆座的一侧形成第一作用面，该第一作用面对应第一弧形凹面所在区域；第二晶圆座顶部带有第二弧形凹面，其朝向第一晶圆座的一侧形成第二作用面，该第二作用面对应第二弧形凹面所在区域；第一作用面和第二作用面配合以支撑晶圆竖直站立。本实用新型合理利用了竖直方向的空间；第一弧形凹面和第二弧形凹面、第一作用面和第二作用面的设计，使得晶圆在放入卡座后，部分弧线整体都被限位，更为稳定。
一种站立式晶圆卡座