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- [发明专利]一种空间式工作设备-CN202310437747.2在审
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时泽健;徐枭宇;朱政挺
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杭州众硅电子科技有限公司
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2023-04-20
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2023-09-22
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B24B37/00
- 本发明公开了一种空间式工作设备，包括：元器件单元；支撑架，至少一侧形成转移窗口；工作台空间，形成于支撑架，其至少包括第一工作台单元，与第一工作台单元相对设置的第二工作台单元，及第三工作台单元，所述第一工作台单元和/或第二工作台单元和/或第三工作台单元上设有执行机构；第一工作台单元和/或第二工作台单元和/或第三工作台单元可从转移窗口脱离支撑架。本发明将支撑架的顶部、底部、侧部空间均进行有效利用，最大化程度利用工作空间，增加或者优化执行机构的功能及布局；不局限于单层工作台，第一工作台单元和第二工作台单元实现了上下双层工作台；可以实现任意布局，适应不同的工艺需求；可以实现单工位抛光单元服务多工位。
- 一种空间工作设备
- [发明专利]一种晶圆抛光系统及晶圆传输方法-CN202211653830.5在审
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徐枭宇;邓耀敏
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杭州众硅电子科技有限公司
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2022-12-22
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2023-07-28
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B24B29/02
- 本发明公开了一种晶圆抛光系统，包括抛光单元；抛光单元包括晶圆传输通道及抛光模组；抛光模组包括抛光平台和抛光臂，抛光臂可带动晶圆相对抛光平台活动；晶圆传输通道上具有至少两个工作位，晶圆装卸台可在工作位之间移动；相邻抛光单元之间设有传递结构，其沿着第一轨迹在两者的工作位之间传输晶圆，第一轨迹落在晶圆传输通道上；和/或，晶圆装卸台可于相邻抛光单元之间移动；和/或，抛光单元和外界中转台之间设有传送结构，其沿着第二轨迹在两者的工作位之间传输晶圆，第二轨迹落在晶圆传输通道上。本发明还公开了一种晶圆传输方法。本发明轨迹都落在晶圆传输通道上，不会占用别的空间，布局合理；工艺灵活，加工效率高；传输的稳定性高。
- 一种抛光系统传输方法
- [实用新型]一种晶圆抛光系统-CN202223489165.9有效
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徐枭宇
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杭州众硅电子科技有限公司
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2022-12-22
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2023-07-07
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B24B29/02
- 本实用新型公开了一种晶圆抛光系统，包括抛光单元；抛光单元包括晶圆传输通道，及至少两个抛光模组，抛光模组位于晶圆传输通道的两侧；抛光模组包括抛光平台和抛光臂，抛光臂可带动晶圆相对抛光平台活动，以实现抛光工艺；相邻抛光单元之间设有传递结构，其包括基座和与其相连的摆臂，摆臂用于夹持晶圆。本实用新型传递结构、顶部传输机构之间可以组合使用，工艺灵活性高，化学机械平坦化设备加工效率高；布局合理；传输的稳定性高；传递结构的结构简单，动作灵活度高，安装方便。
- 一种抛光系统
- [发明专利]一种用于清洗晶圆的排列式兆声清洗装置-CN202111217131.1在审
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徐枭宇;杨渊思
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杭州众硅电子科技有限公司
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2021-10-19
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2023-04-21
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B08B3/12
- 本发明公开了一种用于清洗晶圆的排列式兆声清洗装置，包括：清洗槽；第一主动轴和第二主动轴，平行设于清洗槽内，且在驱动单元的驱动下可绕其自身中心线周向旋转，其长度为60‑350mm；第一主动轴上沿长度方向设有至少两个第一卡槽，第二主动轴上沿长度方向设有至少两个第二卡槽，该第二卡槽与第一卡槽对应设置；多片晶圆分别通过第一卡槽和第二卡槽的配合实现放置，且第一主动轴和第二主动轴被构造为分别位于晶圆的中轴线的两侧；第一主动轴和第二主动轴沿相同方向转动，可摩擦驱动多片晶圆同时转动，以实现清洗。本发明清洗槽中可以放置多片晶圆进行同时清洗，在确保同等清洗效率的前提下，最大程度减小了清洗槽的占地面积，确保晶圆清洗的效果一致性。
- 一种用于清洗排列式兆声装置
- [发明专利]一种多晶圆刷洗装置-CN202111215889.1在审
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殷骐;徐枭宇
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杭州众硅电子科技有限公司
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2021-10-19
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2023-04-21
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H01L21/67
- 本发明公开了一种多晶圆刷洗装置，包括箱体，箱体内设有多个分隔腔室，多个分隔腔室的底部相连通，每个分隔腔室内设有支撑轮系统和刷洗系统，该刷洗系统包括一组滚刷单元，滚刷单元可相互靠近以刷洗晶圆，或者，相互远离以取出晶圆，多个刷洗系统之间通过开合驱动机构相连，该开合驱动机构用于同时驱动多组滚刷单元的相互靠近或远离。本发明将多组滚刷单元集成在同一个箱体内，可以大大缩短工位间的距离，有效提高单位体积生产效率；箱体可以为双隔间，三隔间或四隔间等，分隔腔室的数量定制化程度高，适用范围广；共用一个开合驱动机构，实现不同滚刷单元的同步开合，节省设备空间，降低采购成本。
- 一种多晶刷洗装置
- [发明专利]一种晶圆抛光系统-CN202211269445.0有效
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徐枭宇
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杭州众硅电子科技有限公司
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2022-10-18
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2023-03-24
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B24B7/22
- 本发明公开了一种晶圆抛光系统，至少包括两个抛光单元；单个抛光单元包括至少两个抛光模组，及第一固定工作位，抛光模组包括抛光平台和抛光头；同一个抛光单元内的至少两个抛光头可将晶圆传输至第一固定工作位；相邻抛光单元之间还至少设有第二固定工作位；相邻抛光单元的至少两个抛光头可将晶圆传输至第二固定工作位。本发明通过第一固定工作位、第二固定工作位和抛光头的配合，就能实现晶圆在抛光系统内抛光区域间的传输，传输灵活度更高；新增第二固定工作位和第三固定工作位，晶圆的整个流转过程更加完整、快速；在不影响晶圆进出的同时，保证抛光头的清洁，提高产品的良率。
- 一种抛光系统
- [发明专利]一种连续式晶圆抛光系统-CN202210754994.0在审
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徐枭宇;郑东州
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杭州众硅电子科技有限公司
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2022-06-30
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2022-11-15
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B24B5/36
- 本发明公开了一种连续式晶圆抛光系统，包括支架；抛光单元，包括抛光台及抛光臂；传输通道，与支架平行设置；晶圆载片装置，包括载片台，升降驱动机构，及横向驱动机构，升降驱动机构连接在载片台下方，横向驱动机构位于载片台的第一侧；支撑导轨，设于载片台的第二侧，其和第一侧相对设置；载片台在横向驱动机构和支撑导轨的共同作用下沿支架平移，以接受不同抛光臂从抛光台上传输过来的晶圆，或者，将晶圆提供给不同抛光臂以传输至不同抛光台。本发明晶圆载片装置可以在传输通道内移动，抛光工序可以连续进行，抛光效率提高，传输结构简化；横向驱动机构位于载片台的第一侧，布局设计合理；横向驱动机构和支撑导轨配合，传输结构更稳固。
- 一种连续式晶圆抛光系统
- [实用新型]一种晶圆抛光系统-CN202221658782.4有效
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郑东州;徐枭宇
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杭州众硅电子科技有限公司
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2022-06-30
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2022-11-15
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B24B29/02
- 本实用新型公开了一种晶圆抛光系统，包括：支架；抛光单元，包括设于支架一侧的抛光台，及抛光臂；传输通道，与支架平行设置；晶圆载片装置，至少包括用于承载晶圆的载片台，及用于驱动载片台平移的横向驱动机构，横向驱动机构设于载片台的第一侧和支架之间。本实用新型晶圆载片装置可以在传输通道内移动，整个抛光工序可以连续或同步进行，提高了抛光效率，同时简化了传输结构，使用成本降低，机台抛光产出速度提高；横向驱动机构位于载片台的第一侧解决了晶圆载片装置的横向驱动机构的安装问题，布局设计合理。
- 一种抛光系统
- [发明专利]一种晶圆抛光系统-CN202111445239.6有效
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徐枭宇
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杭州众硅电子科技有限公司
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2021-11-30
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2022-10-04
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B24B29/02
- 本发明公开了一种晶圆抛光系统，至少包括一个抛光单元；抛光单元包括一个固定工作位，及两个抛光模组，抛光模组位于固定工作位的两侧；抛光模组包括抛光平台和抛光臂，抛光臂可带动晶圆相对抛光平台活动，以实现抛光工艺；两侧抛光模组的抛光臂位于固定工作位的斜对角方向，抛光臂分别可在固定工作位和抛光平台之间摆动实现晶圆的转移，且抛光臂的活动区域具有重叠部分。本发明每个抛光模组的抛光臂独立控制，稳定性更好，灵活度更高；仅仅需要一个固定工作位就可以实现多个抛光模组配合实现单个或多个晶圆的抛光工艺，抛光过程的移动路径大大缩短，使得传输过程时间最小化，抛光效率更高。
- 一种抛光系统
- [实用新型]一种晶圆传递装置-CN202220709319.1有效
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郑东州;徐枭宇;杨渊思
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杭州众硅电子科技有限公司
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2022-03-29
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2022-10-04
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B65G47/52
- 本实用新型公开了一种晶圆传递装置，包括：载片台，用于承载晶圆；固定座，用于带着载片台在晶圆传输通道内移动；对接机构，设于固定座和载片台之间，其包括第一部分和第二部分，第一部分与固定座相连，第二部分与载片台相连；当第一部分和第二部分对接时，载片台和固定座实现轴向限位，且该对接机构可带动载片台或固定座在X轴和Y轴所在平面移动。本实用新型可以有效保证载片台移动至目标位置，对接机构的移动板通过滑轨相对固定座的移动、通过上对接部和下对接部的轴向对接，在两个维度上叠加调整，实现载片台和固定座的对接，对接范围广，适应不同的使用场景，应用广泛，对接机构的结构相对简单，装配方便，驱动结构简单。
- 一种传递装置
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