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- [发明专利]一种用于清洗晶圆的排列式兆声清洗装置-CN202111217131.1在审
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徐枭宇;杨渊思
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杭州众硅电子科技有限公司
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2021-10-19
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2023-04-21
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B08B3/12
- 本发明公开了一种用于清洗晶圆的排列式兆声清洗装置，包括：清洗槽；第一主动轴和第二主动轴，平行设于清洗槽内，且在驱动单元的驱动下可绕其自身中心线周向旋转，其长度为60‑350mm；第一主动轴上沿长度方向设有至少两个第一卡槽，第二主动轴上沿长度方向设有至少两个第二卡槽，该第二卡槽与第一卡槽对应设置；多片晶圆分别通过第一卡槽和第二卡槽的配合实现放置，且第一主动轴和第二主动轴被构造为分别位于晶圆的中轴线的两侧；第一主动轴和第二主动轴沿相同方向转动，可摩擦驱动多片晶圆同时转动，以实现清洗。本发明清洗槽中可以放置多片晶圆进行同时清洗，在确保同等清洗效率的前提下，最大程度减小了清洗槽的占地面积，确保晶圆清洗的效果一致性。
- 一种用于清洗排列式兆声装置
- [实用新型]一种化学机械平坦化设备-CN202222128694.X有效
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杨渊思
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杭州众硅电子科技有限公司
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2022-08-12
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2023-01-06
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B24B37/00
- 本实用新型公开了一种化学机械平坦化设备，包括沿第一方向依次布设的供料单元、复合单元和抛光单元，复合单元包括沿第二方向布设的清洗单元和传输区域，该传输区域内设有至少两个传输机构，其相互配合以将晶圆在供料单元和抛光单元之间、抛光单元和清洗单元之间传输。本实用新型传输区域较大，可以灵活设置传输机构和缓存单元；化学机械平坦化设备的整个横向宽度较小，整体布局更加紧凑；传输区域内传输机构的配合，使得供料单元、清洗单元和抛光单元之间的晶圆传递更加便捷，传递路径缩短；便于清洗单元的后期维护。
- 一种化学机械平坦设备
- [实用新型]一种晶圆传递装置-CN202220709319.1有效
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郑东州;徐枭宇;杨渊思
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杭州众硅电子科技有限公司
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2022-03-29
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2022-10-04
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B65G47/52
- 本实用新型公开了一种晶圆传递装置，包括：载片台，用于承载晶圆；固定座，用于带着载片台在晶圆传输通道内移动；对接机构，设于固定座和载片台之间，其包括第一部分和第二部分，第一部分与固定座相连，第二部分与载片台相连；当第一部分和第二部分对接时，载片台和固定座实现轴向限位，且该对接机构可带动载片台或固定座在X轴和Y轴所在平面移动。本实用新型可以有效保证载片台移动至目标位置，对接机构的移动板通过滑轨相对固定座的移动、通过上对接部和下对接部的轴向对接，在两个维度上叠加调整，实现载片台和固定座的对接，对接范围广，适应不同的使用场景，应用广泛，对接机构的结构相对简单，装配方便，驱动结构简单。
- 一种传递装置
- [实用新型]晶圆抛光系统-CN202122971341.1有效
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杨渊思;徐枭宇;周智鹏;吴俊逸
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杭州众硅电子科技有限公司
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2021-11-30
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2022-06-21
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B24B37/00
- 本实用新型公开了一种晶圆抛光系统，至少包括一个抛光单元；抛光单元包括晶圆传输通道，及至少两个抛光模组，抛光模组位于晶圆传输通道的两侧；抛光模组包括抛光平台和抛光臂，抛光臂可带动晶圆相对抛光平台活动，以实现抛光工艺；晶圆传输通道上有至少两个工作位，晶圆传递装置可在工作位之间移动；晶圆在一个抛光模组的抛光臂和晶圆传输通道之间的传输轨迹为第一轨迹；晶圆在另一抛光模组的抛光臂和晶圆传输通道之间的传输轨迹为第二轨迹；第一轨迹，晶圆传递装置的移动轨迹，及第二轨迹的走向呈近似Z字形。本实用新型稳定性更好，灵活度高，抛光效果更佳。
- 抛光系统
- [发明专利]一种晶圆抛光装置-CN202111218264.0有效
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邓耀敏;杨渊思
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杭州众硅电子科技有限公司
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2021-10-20
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2022-04-15
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B24B37/34
- 本发明公开了一种晶圆抛光装置，包括第二压力介质腔体，用于感应压力变化；多孔盘，带有多个通孔，下表面包覆柔性单腔膜；导通阀单元，用于第二压力介质腔体和第三压力介质腔体之间的导通或隔离，其至少包括导通阀座，导通阀，及弹性件，导通阀座下端伸入通孔内，导通阀的下端突出于导通阀座的下端面；导通阀座与多孔盘由柔性单腔膜覆盖配合形成第三压力介质腔体；第一压力介质腔体；于第三压力介质腔体形成负压，使得多孔盘和柔性单腔膜上吸附有晶圆时，导通阀克服弹性件的力相对导通阀座发生移动，将第二压力介质腔体和第三压力介质腔体相连通。本发明实现了柔性单腔膜正导通机制，可准确、快速判断晶圆的装载状态，碎片风险小。
- 一种抛光装置
- [实用新型]用于清洗晶圆的排列式兆声清洗装置-CN202122519276.9有效
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徐枭宇;杨渊思
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杭州众硅电子科技有限公司
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2021-10-19
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2022-04-12
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B08B3/12
- 本实用新型公开了一种用于清洗晶圆的排列式兆声清洗装置，包括：清洗槽；第一主动轴和第二主动轴，平行设于清洗槽内，且在驱动单元的驱动下可绕其自身中心线周向旋转；第一主动轴上沿长度方向设有至少两个第一卡槽，第二主动轴上沿长度方向设有至少两个第二卡槽，该第二卡槽与第一卡槽对应设置；多片晶圆分别通过第一卡槽和第二卡槽的配合实现放置，且第一主动轴和第二主动轴被构造为分别位于晶圆的中轴线的两侧；第一主动轴和第二主动轴沿相同方向转动，可摩擦驱动多片晶圆同时转动，以实现清洗。本实用新型清洗槽中可以放置多片晶圆进行同时清洗，在确保同等清洗效率的前提下，最大程度减小了清洗槽的占地面积，确保晶圆清洗的效果一致性。
- 用于清洗排列式兆声装置
- [实用新型]一种用于晶圆的紧固装置-CN202121696925.6有效
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周智鹏;杨渊思;徐枭宇
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杭州众硅电子科技有限公司
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2021-07-23
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2022-04-12
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H01L21/687
- 本实用新型公开了一种用于晶圆的紧固装置，包括旋转基座，分别与旋转基座相连的至少三个连接臂，连接臂端部设置有晶圆支撑机构和晶圆转动夹持机构，晶圆支撑机构被晶圆转动夹持机构包裹，且两者转动连接，当晶圆转动夹持机构受到离心力时，其底部向外运动，其端部下压抵接晶圆的侧壁，以配合晶圆支撑机构固定晶圆。本实用新型利用晶圆支撑机构和晶圆转动夹持机构在离心力作用下的配合，对晶圆实现稳固夹持，夹持在晶圆的侧壁，不会与晶圆的上表面形成接触，保证晶圆的性能不会受到影响，晶圆干燥效果也达到最佳；晶圆转动夹持机构包裹晶圆支撑机构，使得晶圆支撑机构的尺寸可以缩小，而且晶圆转动夹持机构的更换更加简便。
- 一种用于紧固装置
- [实用新型]一种晶圆紧固装置-CN202121696923.7有效
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周智鹏;杨渊思;徐枭宇
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杭州众硅电子科技有限公司
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2021-07-23
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2022-04-12
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F26B5/08
- 本实用新型公开了一种晶圆紧固装置，包括旋转基座，分别与旋转基座相连的至少三个连接臂，及固定机构，固定机构包括设于连接臂的承托部，及转动连接于承托部的配重件，配重件上形成缺口部，该缺口部上具有抵压面，当旋转基座转动时，配重件相对承托部转动，抵压面可抵接晶圆的侧壁，以配合承托部固定晶圆。本实用新型利用承托部向上托起晶圆，利用离心力的作用使得配重件在随着旋转基座转动时，其下底部向外运动，从而其上端部可以向下压持住晶圆，实现对晶圆的稳固夹持，而且抵压面抵接在晶圆的侧壁，不会与晶圆的上表面形成接触，保证晶圆的性能不会受到影响，晶圆干燥效果也达到最佳。
- 一种紧固装置
- [发明专利]一种晶圆抛光系统-CN202111041137.8在审
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杨渊思;徐枭宇;周智鹏;吴俊逸
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杭州众硅电子科技有限公司
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2021-09-07
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2022-01-11
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B24B37/04
- 本发明公开了一种晶圆抛光系统，至少包括一个抛光单元；抛光单元包括晶圆传输通道，及至少两个抛光模组，抛光模组位于晶圆传输通道的两侧；抛光模组包括抛光平台和抛光臂，抛光臂可带动晶圆相对抛光平台活动，以实现抛光工艺；晶圆传输通道上有至少两个工作位，晶圆传递装置可在工作位之间移动；一个抛光模组的抛光臂从晶圆传输通道内的工作位上获取晶圆后，完成该抛光工艺，将晶圆沿第一轨迹放回至晶圆传输通道，晶圆传递装置移动，将其转移至另一工作位，另一抛光模组的抛光臂沿第二轨迹从该工作位获取晶圆后，完成另一抛光工艺；第一轨迹，晶圆传递装置的移动轨迹，及第二轨迹的走向呈近似Z字形。本发明稳定性更好，灵活度高，抛光效果更佳。
- 一种抛光系统
- [发明专利]一种多工位夹取装置-CN202110770071.X有效
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朱政挺;张志军;杨渊思;吴俊逸
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杭州众硅电子科技有限公司
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2021-07-08
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2021-11-16
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H01L21/687
- 本发明公开了一种多工位夹取装置，包括至少两个卡爪单元，卡爪单元包括用于承托晶圆的至少两个基座，及可带动所有基座转动的旋转轴，当旋转轴周向转动时，基座可以交替处于工作位；每个基座上分别设有导向面，及卡槽，旋转轴周向转动，晶圆可以沿着处于工作位的基座的导向面滑行、直至落入卡槽内，至少两个卡爪单元的卡槽配合将晶圆夹持。本发明的多工位夹取装置可以旋转，可以承载晶圆，也可以固定晶圆从而使之在翻转或移动时不会掉落，使用方式更加灵活；单个夹取装置上有至少两个卡爪单元，每个卡爪单元的大小相同，可以满足多抛光液的工艺需求，节约了时间、空间以及费用成本，使用范围更加广泛。
- 一种多工位夹取装置
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