[发明专利]对位标记结构、基板、掩膜板、基板与掩膜板的对位方法在审
申请号: | 202110742485.1 | 申请日: | 2021-06-30 |
公开(公告)号: | CN113540038A | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
发明(设计)人: | 古海裕;刘威;何春荣;朱春生;王士敏;朱泽力 | 申请(专利权)人: | 深圳莱宝高科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/544 | 分类号: | H01L23/544;H01L21/027;H01L21/68 |
代理公司: | 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 | 代理人: | 赵智博 |
地址: | 518000 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 对位 标记 结构 基板 掩膜板 方法 | ||
本发明涉及平面显示技术领域,公开了一种对位标记结构、基板、掩膜板、基板与掩膜板的对位方法。所述对位标记结构设置于基板或掩膜板上,所述对位标记结构包括对位标记及开设于对位标记上的透光孔。本发明提供的对位标记结构、基板、掩膜板、基板与掩膜板的对位方法可提高对位标记的对位精准度及基板与掩膜板间的位置精度,确保产品良率。
技术领域
本发明涉及平面显示技术领域,尤其涉及一种对位标记结构、基板、掩膜板、基板与掩膜板的对位方法。
背景技术
曝光工艺是在光刻胶涂布后,用带有图形的掩膜板对玻璃基板进行曝光,把需要的图形从掩膜板上转移到玻璃基板上。利用曝光机进行曝光时,为保证曝光精准度,需要在玻璃基板及掩膜板上制作对位标记,并在曝光前根据对位标记预先进行对位,以保证曝光时玻璃基板与掩膜板的位置精度。
现有技术中,玻璃基板的对位标记上还覆盖有不透明膜层,不透明膜层的存在会影响对位标记的识别效果,导致图像传感器无法获取清晰的对位标记图像,进而影响玻璃基板及掩膜板间对位精准度及位置精度。另外,当玻璃基板上需要制作多层电路图形时,需要反复进行对位,对于曝光工艺来讲,需要确保每层膜层间的对位精度,才能避免多层膜层间出现套合误差,保证产品良率。
发明内容
本发明的目的在于提供一种对位标记结构、基板、掩膜板、基板与掩膜板的对位方法,用于解决对位标记对位精准差的问题。
为解决上述问题,第一方面,本发明公开了一种对位标记结构,设置于基板或掩膜板上,所述对位标记结构包括对位标记及开设于所述对位标记上的透光孔。
在一实施例中,所述透光孔包括至少一个点状孔或条形孔,且所述透光孔沿着所述对位标记的至少部分边缘延伸。
在一实施例中,所述对位标记为正方形、长方形、三角形或十字形的一种。
本发明提供的对位标记结构中,通过在对位标记上设置透光孔,可使对位标记的边界增加,使得对位标记在相同光源照射下所呈现的颜色更深,从而图像传感器可识别到较为清晰的对位标记图像并获取对位标记准确的位置信息,有效提升对位标记的对位精准度。
第二方面,本发明公开了一种基板,所述基板上设有第一方面中所述的对位标记结构。
本发明提供的基板,通过在基板的对位标记上开设透光孔,可使对位标记的边界增加,使得对位标记在相同光源照射下所呈现的颜色更深,从而图像传感器可识别到较为清晰的对位标记图像并获取对位标记准确的位置信息,有效提升对位标记的对位精准度,降低基板制作工艺中因对位不准而造成的产品次品率。
第三方面,本发明公开了一种掩膜板,所述掩膜板上设有如第一方面中所述的对位标记结构。
本发明提供的掩膜板,通过在掩膜板的对位标记上开设透光孔,可使对位标记的边界增加,使得对位标记在相同光源照射下所呈现的颜色更深,从而图像传感器可识别到较为清晰的对位标记图像并获取对位标记准确的位置信息,有效提升对位标记的对位精准度,确保后续曝光时可在基板的预设位置处形成电路图形,提高基板产品良率。
第四方面,本发明公开了一种基板与掩膜板的对位方法,所述对位方法包括:
提供基板,所述基板上设有第一对位标记及开设于所述第一对位标记上的第一透光孔,所述基板上还设有覆盖所述第一对位标记及所述第一透光孔的不透明膜层;
提供掩膜板,所述掩膜板上设有第二对位标记;
根据所述不透明膜层的反射率调整图像传感器的光源参数;
利用所述图像传感器获取所述基板的位置信息,并根据所述基板的位置信息调整所述掩膜板,使所述第二对位标记与所述第一对位标记的位置相对。
在一实施例中,所述对位方法还包括:
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