[发明专利]对位标记结构、基板、掩膜板、基板与掩膜板的对位方法

权利要求书

1.一种对位标记结构，设置于基板或掩膜板上，其特征在于，所述对位标记结构包括对位标记及开设于所述对位标记上的透光孔。

2.根据权利要求1所述的对位标记结构，其特征在于，所述透光孔包括至少一个点状孔或条形孔，且所述透光孔沿着所述对位标记的至少部分边缘延伸。

3.根据权利要求1或2所述的对位标记结构，其特征在于，所述对位标记为正方形、长方形、三角形或十字形的一种。

4.一种基板，其特征在于，所述基板上设有如权利要求1-3中任一项所述的对位标记结构。

5.一种掩膜板，其特征在于，所述掩膜板上设有如权利要求1-3中任一项所述的对位标记结构。

6.一种基板与掩膜板的对位方法，其特征在于，所述对位方法包括：

提供基板，所述基板上设有第一对位标记及开设于所述第一对位标记上的第一透光孔，所述基板上还设有覆盖所述第一对位标记及所述第一透光孔的不透明膜层；

提供掩膜板，所述掩膜板上设有第二对位标记；

根据所述不透明膜层的反射率调整图像传感器的光源参数；

利用所述图像传感器获取所述基板的位置信息，并根据所述基板的位置信息调整所述掩膜板，使所述第二对位标记与所述第一对位标记的位置相对。

7.根据权利要求6所述的基板与掩膜板的对位方法，其特征在于，所述对位方法还包括：

提供辅助对位膜层，所述辅助对位膜层设置于所述不透明膜层的上方；

利用背曝光技术，在所述辅助对位膜层上形成与所述第一对位标记和所述第一透光孔结构及位置相同的辅助对位标记和辅助透光孔；

利用所述图像传感器获取所述基板的位置信息，并根据所述基板的位置信息调整所述掩膜板，使所述第二对位标记与所述第一对位标记的位置相对，包括：

利用所述图像传感器获取所述辅助对位标记的位置坐标，以获取所述基板的位置信息，并根据所述基板的位置信息调整所述掩膜板，使所述第二对位标记与所述辅助对位标记相对，进而使所述第二对位标记与所述第一对位标记相对。

8.根据权利要求6所述的基板与掩膜板的对位方法，其特征在于，根据所述不透明膜层的反射率调整图像传感器的光源参数，包括：

若所述不透明膜层的反射率大于50％，调整图像传感器的光源参数包括：调整所述图像传感器的光源亮度为最大亮度的25％-35％；

若所述不透明膜层的反射率为30％-50％，调整图像传感器的光源参数包括：调整所述图像传感器的光源亮度为最大亮度的55％-65％；

若所述不透明膜层的反射率小于30％，调整所述图像传感器的光源参数包括：调整所述图像传感器的光源亮度为最大亮度的85％-95％。

9.根据权利要求8所述的基板与掩膜板的对位方法，其特征在于，在提供掩膜板时，若所述不透明膜层的反射率大于或等于30％，所述掩膜板的所述第二对位标记上开设有第二透光孔。

10.根据权利要求6-9中任一项所述的基板与掩膜板的对位方法，其特征在于，所述基板上设有多个所述第一对位标记，所述掩膜板上设有多个所述第二对位标记，且多个所述第一对位标记与多个所述第二对位标记一一对应。