[发明专利]半导体装置以及半导体装置的制造方法有效
申请号: | 201780093211.6 | 申请日: | 2017-10-26 |
公开(公告)号: | CN111316428B | 公开(公告)日: | 2023-10-20 |
发明(设计)人: | 梅田宗一郎;久德淳志 | 申请(专利权)人: | 新电元工业株式会社 |
主分类号: | H01L23/48 | 分类号: | H01L23/48 |
代理公司: | 上海德昭知识产权代理有限公司 31204 | 代理人: | 郁旦蓉 |
地址: | 日本国东京都千*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 装置 以及 制造 方法 | ||
1.一种半导体装置,其特征在于,包括:
基板,在其上端面设置有第一导电层;
半导体元件,其配置于所述基板的所述上端面,并且具有:设置在其下端面且被电连接于所述第一导电层的第一端子;以及设置在其上端面且输入有控制用信号的第二端子;
封装部,封装所述基板以及半导体元件;
引线框,其一端部在所述封装部内与所述半导体元件的所述第二端子的上端面相接触,其另一端部从所述封装部露出;以及
控制用导电性接合材料,其将所述半导体元件的所述第二端子的上端面与所述引线框的所述一端部之间接合且具有导电性,
其中,所述引线框的所述一端部包含:基准部;中间部,其相连于所述基准部且位于比所述基准部更靠近所述一端部的前端侧;以及倾斜部,其相连于所述中间部且位于所述一端部的前端的同时,具有从所述中间部向下方倾斜的形状,
所述倾斜部以及所述中间部的上下方向的厚度比所述基准部的上下方向的厚度更薄。
2.根据权利要求1所述的半导体装置,其特征在于:
其中,所述第二端子的上端面具有长方形的形状,所述倾斜部至少位于所述第二端子的上端面的中心上,并且所述控制用导电性接合材料位于所述倾斜部的下端面与所述第二端子的上端面的所述中心之间,从而将所述倾斜部的下端面与所述第二端子的上端面之间通过所述控制用导电性接合材料来进行接合。
3.根据权利要求2所述的半导体装置,其特征在于:
其中,在从所述第二端子的上端面的中心偏离的所述第二端子的上端面的第一边的附近的区域处,所述倾斜部的前端与所述第二端子的上端面在与所述第一边平行的方向上线接触。
4.根据权利要求3所述的半导体装置,其特征在于:
其中,所述控制用导电性接合材料被连续设置在:从所述第二端子的上端面中的至少所述倾斜部的前端与所述第二端子相接触的所述第一边的附近的区域处开始,经过所述第二端子的上端面的所述中心后,直至与所述第一边相向的第二边的附近的区域上。
5.根据权利要求4所述的半导体装置,其特征在于:
其中,所述倾斜部的上下方向的厚度与所述中间部的上下方向的厚度相同。
6.根据权利要求5所述的半导体装置,其特征在于:
其中,所述倾斜部的宽度比所述基准部的宽度更小。
7.根据权利要求6所述的半导体装置,其特征在于:
其中,所述中间部被形成为:其宽度从所述基准部朝着所述倾斜部变窄。
8.根据权利要求7所述的半导体装置,其特征在于:
其中,所述半导体元件是MOSFET,在所述半导体元件中,所述第一端子是漏极端子、所述第二端子是栅极端子、在其上端面设置有面积比所述第二端子更大的作为第三端子的源极端子。
9.根据权利要求8所述的半导体装置,其特征在于:
其中,所述引线框是控制用引线框,其输入有用于控制所述MOSFET的所述控制用信号,
所述半导体装置进一步包括:
漏极用引线框,其一端部在向所述封装部内的所述基板的所述上端面的边方向延伸的端部处与所述第一导电层的上端面接触,其另一端部从所述封装部露出;以及
第一导电性接合材料,其在所述基板的所述端部处将所述第一导电层的上端面与所述漏极用引线框的所述一端部的下端面侧之间接合且具有导电性,
所述控制用引线框的上下方向的厚度与所述漏极用引线框的上下方向的厚度相同。
10.根据权利要求9所述的半导体装置,其特征在于:
其中,所述控制用引线框的所述一端部的宽度比所述第一引线框的所述一端部的宽度更小。
11.根据权利要求10所述的半导体装置,其特征在于:
其中,所述第一引线框的所述一端部与所述另一端部具有相同的厚度。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新电元工业株式会社,未经新电元工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780093211.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。