[发明专利]半导体封装结构及其形成方法在审

专利信息
申请号: 201710827237.0 申请日: 2017-09-14
公开(公告)号: CN107863326A 公开(公告)日: 2018-03-30
发明(设计)人: 许仕逸;金家宇;周哲雅;许文松;陈南诚 申请(专利权)人: 联发科技股份有限公司
主分类号: H01L23/31 分类号: H01L23/31;H01L23/498;H01L21/56
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)44280 代理人: 何青瓦
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 封装 结构 及其 形成 方法
【权利要求书】:

1.一种半导体封装结构,其特征在于,包括:

第一载体基板,具有第一表面与相对于该第一表面的第二表面;

第二载体基板,堆叠在该第一载体基板上并且具有第三表面以及相对于该第三表面的第四表面,其中该第四表面面向该第一表面;

半导体晶粒,安装于该第二载体基板的该第三表面上;以及

散热器,设置在该第一载体基板的该第一表面上,以覆盖并围绕该第二载体基板与该半导体晶粒。

2.如权利要求1所述的半导体封装结构,其特征在于,进一步包括:封装材料,具有被该散热器覆盖的第一部分,其中该第一部分围绕该第二载体基板与该半导体晶粒。

3.如权利要求1所述的半导体封装结构,其特征在于,进一步包括:封装材料,具有围绕该散热器的外侧壁的第二部分。

4.如权利要求2所述的半导体封装结构,其特征在于,该第一部分覆盖该半导体晶粒的上表面。

5.如权利要求1所述的半导体封装结构,其特征在于,进一步包括:热界面材料层,附着于该半导体晶粒与该散热器之间。

6.如权利要求1所述的半导体封装结构,其特征在于,进一步包括:

第一底部填充材料层,插入于该第一载体基板与该第二载体基板之间;

及/或,第二底部填充材料层,插入于该半导体晶粒与该第二载体基板之间。

7.如权利要求1所述的半导体封装结构,其特征在于,进一步包括:

第一底部填充材料层,插入于该第一载体基板与该第二载体基板之间;以及

第二底部填充材料层,插入于该半导体晶粒与该第二载体基板之间;

其中,一间隙围绕该半导体晶粒、该第二载体基板、该第一底部填充材料层以及该第二底部填充材料层。

8.如权利要求1所述的半导体封装结构,其特征在于,进一步包括:电容,安装于该第一载体基板的该第一表面上,该二载体基板的该第三表面上,或者该第二载体基板的该第四表面上。

9.一种半导体封装结构,其特征在于,包括:

第一载体基板,具有第一表面与相对于该第一表面的第二表面;

第二载体基板,堆叠在该第一载体基板上并且具有第三表面以及相对于该第三表面的第四表面,其中该第四表面面向该第一表面;

半导体晶粒,安装于该第二载体基板的该第三表面上;

第一封装材料,设置在该第二载体基板的该第三表面上并且围绕该半导体晶粒;以及

散热器,设置在该第一载体基板的该第一表面上,以覆盖并围绕该第二载体基板与该第一封装材料。

10.如权利要求9所述的半导体封装结构,其特征在于,进一步包括:第二封装材料,具有被该散热器覆盖的第一部分,其中该第一部分围绕该第二载体基板与该第一封装材料。

11.如权利要求9所述的半导体封装结构,其特征在于,进一步包括:第二封装材料,具有围绕该散热器的外侧壁的第二部分。

12.如权利要求9所述的半导体封装结构,其特征在于,进一步包括:一热界面材料层,附着于该半导体晶粒与该散热器之间。

13.如权利要求9所述的半导体封装结构,其特征在于,进一步包括:

底部填充材料,插入在该半导体晶粒与该第二载体基板之间,并且该第一封装材料围绕该底部填充材料。

14.如权利要求9所述的半导体封装结构,其特征在于,该第一封装材料覆盖该半导体晶粒的上表面。

15.如权利要求9所述的半导体封装结构,其特征在于,进一步包括:

底部填充材料,插入在该第一载体基板与该第二载体基板之间。

16.如权利要求9所述的半导体封装结构,其特征在于,进一步包括:

底部填充材料,插入在该第一载体基板与该第二载体基板之间,其中一间隙围绕该第一封装材料,该第二载体基板以及该底部填充材料。

17.如权利要求9所述的半导体封装结构,其特征在于,进一步包括:电容,安装于该第一载体基板的该第一表面上,该二载体基板的该第三表面上,或者该第二载体基板的该第四表面上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于联发科技股份有限公司,未经联发科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710827237.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top