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[发明专利]一种钨靶材焊接方法及钨靶材组件-CN201810364276.6在审
发明人：姚力军;潘杰;王学泽;吴豪杰 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2018-04-20 - 公布日： 2018-09-18 - 主分类号： B23K1/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种钨靶材焊接方法及钨靶材组件，涉及半导体制造技术领域。所述钨靶材焊接方法首先对钨靶材和铜背板进行焊接前加工及清洗，在所述钨靶材和所述铜背板中间放置焊料引流件，再利用钎焊工艺对所述钨靶材和所述铜背板进行钎焊接后获得钨靶材组件，对所述钨靶材组件进行冷却。所述钨靶材焊接方法在焊接前在所述钨靶材和所述铜背板间放置焊料引流件，保证了焊料的在所述钨靶材和所述铜背板间的均匀分布，提高了焊缝均匀性、焊接成功率以及焊接稳定性。
钨靶材焊接铜背板焊料引流件半导体制造技术钎焊工艺焊缝均匀性再利用成功率冷却清洗加工保证

[发明专利]铜靶材表面的处理方法-CN201510417001.0在审
发明人：姚力军;潘杰;相原俊夫;大岩一彦;王学泽;李健成 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2015-07-15 - 公布日： 2017-01-25 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明提供一种铜靶材表面的处理方法，其中所述方法包括提供铜靶材，所述铜靶材包括铜靶材镜面；对铜靶材镜面进行机械加工；对机械加工后的铜靶材镜面进行抛光处理，所述抛光处理包括至少两次抛光工艺。通过在机械加工后采用至少两次抛光工艺对所述铜靶材镜面进行表面处理，所述抛光工艺去除机械加工在铜靶材镜面表面形成的划伤，还去除机械加工残留液体在所述铜靶材镜面形成的氧化层，从而使铜靶材镜面的表面色泽度和粗糙度更好，进而降低了铜靶材的返修率和报废率。
铜靶材表面处理方法

[发明专利]一种钛靶材的处理方法及处理后钛靶材和用途-CN202110190968.5在审
发明人：姚力军;边逸军;潘杰;王学泽;李宁 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2021-02-18 - 公布日： 2021-06-29 - 主分类号： B23P15/00 文献下载
摘要：本发明提供一种钛靶材的处理方法及处理后钛靶材和用途，所述处理方法包括采用第一刀具对钛靶材进行第一车削，得到粗处理钛靶材；采用材质为金刚石的第二刀具对所述初处理钛靶材进行第二车削，得到精处理钛靶材；对所述精处理钛靶材进行抛光处理，得到处理后钛靶材，所述处理方法能够降低钛靶材表面的应力层厚度与粗糙度，处理后钛靶材应用于溅射成膜中，提高钛靶材在溅射中的使用质量与使用寿命，减少溅射过程中的初期功耗。
一种钛靶材处理方法后钛靶材用途

[发明专利]钨钛铝靶材组件的焊接方法-CN201310754922.7有效
发明人：姚力军;赵凯;相原俊夫;大岩一彦;潘杰;王学泽;张涛 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2013-12-31 - 公布日： 2015-07-01 - 主分类号： B23K20/14 文献下载
摘要：一种钨钛铝靶材组件的焊接方法，包括以下步骤：提供钨钛靶材、铝背板，所述铝背板具有容纳部分所述钨钛靶材的凹槽，所述凹槽的深度为1～2mm；将钨钛靶材置于所述凹槽内，所述钨钛靶材的待焊接面与所述凹槽底面接触，形成靶材组件坯料；将所述靶材组件坯料放入真空包套；利用热等静压工艺将所述钨钛靶材的待焊接面与所述凹槽底面焊接形成钨钛铝靶材组件；焊接完成后，对所述真空包套进行冷却，去除所述真空包套以获得所述钨钛铝靶材组件采用本发明的方法能够实现靶材高强度的焊接。
钨钛铝靶材组件焊接方法

[发明专利]定位工装和平面靶材的烧结方法-CN202010104812.6有效
发明人：雷雨;周志宏;肖世洪;赵明增;周昭宇;沈艳斌 -专利权人：广州市尤特新材料有限公司
申请日： 2020-02-20 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： F27D5/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种定位工装和平面靶材的烧结方法。其中，定位工装包括：基座；定位板，定位板与基座滑动相连，定位板被配置为适于装配靶材生坯；其中，当靶材生坯大小发生变化时，定位板相对基座滑动并夹紧靶材生坯。本发明通过定位板与基座的相对移动代替了定位板与靶材之间的相对移动，平衡靶材与收缩时产生的摩擦力，从而抵消掉靶材在发生形变时与定位板产生的摩擦力，避免靶材在发生形变时由于靶材与摩擦力导致的靶材开裂或者变形，提高了利用该定位工装烧结的靶材的良品率。
定位工装平面烧结方法

[实用新型]靶材放置货架-CN201420350423.1有效
发明人：姚力军;相原俊夫;大岩一彦;潘杰;王学泽;李健成;周伟君 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2014-06-26 - 公布日： 2014-11-05 - 主分类号： B65D61/00 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种靶材放置货架。所述靶材放置货架包括至少一层靶材搁置层，一层靶材搁置层包括至少三根位于同一平面的悬臂，以用于放置靶材；所述至少三根悬臂的设置使得一块靶材的下方，至少形成三个支撑点，以提高靶材的支撑力度，以及受力均匀度，以降低靶材出现形变概率；而且在一靶材搁置层上的各悬臂之间形成间隙，且各相邻悬臂之间所形成的间隙中，至少包括两个同一朝向的开口的间隙，以便于铲车的铲齿进入所述靶材的下方，从而提高靶材存放的便捷度。
放置货架

[实用新型]3D复合板材喷涂镀膜膜系结构-CN202120477362.5有效
发明人：葛秀彬;朱泽松;金烈 -专利权人：深圳市锦瑞新材料股份有限公司
申请日： 2021-03-04 - 公布日： 2021-12-17 - 主分类号： B05D1/36 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种3D复合板材喷涂镀膜膜系结构，包括第一靶材层组以及第二靶材层，所述第一靶材层组具有多层第一靶材层；所述第一靶材层被配置为Nb靶材层；所述第二靶材层被配置为Sn靶材层或In靶材层。本实用新型的膜系结构去除了原有的靶材Ti，避免了靶材Ti与氧气反应产生不耐高温的TiO2，这样就可以避免不耐高温的TiO2熔化而导致高压异色不良的发生，从而提高产品质量，提高良品率。
复合板材喷涂镀膜结构

[发明专利]一种旋转靶磁控溅射阴极磁场装置-CN202211396306.4在审
发明人：吴纯恩;安辉;陆艳君;孙丹;邓文宇;杨双;蒋立正;齐丽君;侯强;李立红;袁静;唐志英;关恩禄;安跃军 -专利权人：沈阳工业大学
申请日： 2022-11-09 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明涉及一种磁控溅射装置，尤其涉及一种旋转靶磁控溅射阴极磁场装置。其在直线运动区域进行溅射工作，可以提高靶材的溅射率和利用率。包括前后两磁体、靶材旋转机构、电场施加机构；几者均位于真空腔体内；其中，所述靶材旋转机构包括安装于柔性靶材固定架上的靶材，该柔性靶材固定架由皮带驱动机构带动旋转，柔性靶材固定架外部设置有用于降温的冷却箱，并通过电场施加机构为靶材施加电压；所述前磁体位于靶材旋转机构一侧，后磁体位于靶材旋转机构另一侧。
一种旋转磁控溅射阴极磁场装置

[发明专利]溅射装置和溅射装置的维护方法-CN201480054423.X在审
发明人：梨木智刚;滨田明 -专利权人：日东电工株式会社
申请日： 2014-10-10 - 公布日： 2016-05-18 - 主分类号： C23C14/00 文献下载
摘要：在溅射装置的靶材更换、阴极清扫过程中，能够两个人以上同时进行作业，无需高处作业且以靶材朝上的状态更换靶材。使阴极台车(19)移动而将靶材(17)和阴极(18)取出到真空槽(11)外。使阴极旋转机构(24)工作而以使靶材(17)朝上的方式使靶材(17)和阴极(18)旋转。使阴极滑动机构(25)工作而使高处的靶材(17)和阴极(18)向低处移动。将旧的靶材(17)从阴极(18)拆下来，并且将新的靶材(17)安装到阴极(18)。使靶材(17)和阴极(18)返回到原来的高度。使靶材(17)和阴极(18)沿着原来的方向返回。使靶材(17)和阴极(18)返回到真空槽(11)内。
溅射装置维护方法

[实用新型]一种旋转靶靶材保养维护的靶材架-CN201821139263.0有效
发明人：陈开通;刘林;崔杨杨;陶司权 -专利权人：凯盛光伏材料有限公司
申请日： 2018-07-18 - 公布日： 2019-02-12 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开一种旋转靶靶材保养维护的靶材架，包括两个平行设置的支架单元，每个支架单元均包含两根竖直的支撑柱，两根支撑柱底部分别设有支撑座，两根支撑柱顶部之间架设有支撑横梁，支撑横梁与两根支撑柱构成“冂”字形，支撑横梁顶部设有靶材承托座，靶材承托座顶部设有承托凹槽；两个支架单元的承托凹槽相互对应，对旋转靶靶材构成承托配合；本靶材架专门用于旋转靶靶材的承载，结构稳定，便于对旋转靶靶材的保养维护，且拆装方便，适合运输至不同的地方使用；另外，套管的设置利于放置维护工具，不至于乱丢乱放，维护有序；还可以根据旋转靶靶材的材质来更换与之相适应的靶材承托座，适用性强。
靶材旋转靶支撑横梁支架单元承托座支撑柱保养承托凹槽维护本实用新型支撑柱顶部拆装方便结构稳定平行设置维护工具支撑座套管承托竖直承载架设运输配合

[发明专利]一种细化ITO靶材微观晶粒结构增强机械强度的工艺方法-CN202211705819.9在审
发明人：曾探;王志强;石煜;曾墩风;马建保;盛明亮;徐军伟;武炳 -专利权人：芜湖映日科技股份有限公司
申请日： 2022-12-29 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： C04B35/01 文献下载
摘要：本发明公开了一种细化ITO靶材微观晶粒结构增强机械强度的工艺方法，属于ITO靶材制备领域，所述ITO靶材由In2O3和SnO2作为主要原料制备而成，In2O3/(In2O3+SnO2)的质量百分比为89%~91%，且所述ITO靶材中所述的方法如下，将In2O3和SnO2与消泡剂、分散剂、粘结剂混合，球磨混合得到ITO靶材浆料，ITO靶材浆料紧经过造粒得到ITO粉末，再使用冷等静压机制成素坯，成型的素坯置于烧结炉中进行控压烧结得到ITO靶材，最后控制ITO靶材降温速率取出ITO靶材，本发明在烧结过程中控制烧结温度能得到高密度、小尺寸的晶粒，控制ITO靶材的降温速度，能更好释放靶材内应力，减少板材的裂纹产生，降低烧结温度、降低靶材的晶粒尺寸、减少靶材内应力、增强靶材机械强度，得到更优性能的ITO靶材。
一种细化 ito 微观晶粒结构增强机械强度工艺方法

[发明专利]一种脆性靶材的高性能焊接方法-CN202210896054.5在审
发明人：徐国进;刘晓;朱孜毅;贾倩;张博厚;韩思聪;罗俊锋;何金江;肖长朋 -专利权人：有研亿金新材料（山东）有限公司;有研亿金新材料有限公司
申请日： 2022-07-27 - 公布日： 2022-10-21 - 主分类号： B23K1/20 文献下载
摘要：本发明公开了属于材料焊接技术领域的一种脆性靶材的高性能焊接方法；所述方法包括在背板焊接面加工焊接槽，内径与靶坯外径配合，清洗去油，对靶材进行背金处理，对靶材和背板焊接面进行超声浸润In焊料；对靶材和背板进行配合焊接，将靶材焊接至背板焊接槽中，控制靶坯及背板的升温、降温制度，同时加压配重，冷却后得到高焊接质量靶材；本发明提供的方法，靶材焊合率高，焊合率≥98％，脆性靶材焊接不开裂，焊后靶材变形小，平面度≤0.5mm
一种脆性性能焊接方法

[发明专利]靶材组件的加工方法-CN201510330401.8有效
发明人：姚力军;潘杰;相原俊夫;大岩一彦;王学泽;段高林 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2015-06-15 - 公布日： 2019-03-05 - 主分类号： B23P23/04 文献下载
摘要：本发明提供一种靶材组件的加工方法，所述方法包括：提供溅射靶材组件，所述溅射靶材组件包括靶材背板，所述靶材的材料含铝；对所述靶材背板的表面进行车削工艺后，对所述车削工艺后的靶材背板的表面进行至少两次抛光工艺通过该抛光工艺，封闭所述靶材背板表面毛孔，使所述靶材背板在自然条件下具备抗氧化作用，从而避免因靶材背板氧化引起的所述靶材背板导电率下降问题，进而避免在溅射过程中所述溅射靶材发生异常放电或断电现象，保证了溅射靶材的质量
组件加工方法

[发明专利]靶材制造方法-CN201710957401.X在审
发明人：姚力军;潘杰;王学泽;刘宁;袁海军 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2017-10-16 - 公布日： 2019-04-23 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：一种靶材制造方法，包括：提供锻件靶材，所述锻件靶材包括溅射面；采用压延工艺对所述锻件靶材进行压延处理，使得所述锻件靶材在垂直所述溅射面方向的压延厚度变形率为40％～60％，形成成品靶材；其中，所述压延厚度变形率为压延前后的厚度变化量与压延前厚度的比值所述压延厚度变形率小，则所述锻件靶材内沿垂直溅射面方向的应力累积小，因而锻件靶材内部不易产生(111)织构聚集，从而可减少(111)织构的数量，提高形成的成品靶材的溅射速率，改善成品靶材的溅射性能。
靶材压延锻件变形率溅射面织构垂直厚度变化量压延处理应力累积溅射制造

[发明专利]防开裂的旋转靶材总成-CN202111061198.0在审
发明人：周昭宇;周志宏;肖世洪;雷雨;汪政军 -专利权人：广州市尤特新材料有限公司
申请日： 2021-09-10 - 公布日： 2021-11-09 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及旋转靶材加工领域，具体涉及一种防开裂的旋转靶材总成。本发明提供一种防开裂的旋转靶材总成，包括背管和至少两段旋转靶材管，这些旋转靶材管轴向排列，套在背管外侧，随背管一同绕背管轴线旋转，旋转靶材管内径大于背管外径，相邻的两段旋转靶材管间隔有足够距离。该防开裂的旋转靶材总成，其旋转靶材管不容易开裂，旋转靶材总成使用寿命长，且无需为绑定工序耗费更多的时间，生产效率高。
开裂旋转总成