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[发明专利]一种靶材组件的加工方法-CN202210123989.X在审
发明人：姚力军;潘杰;边逸军;王学泽;侯娟华 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2022-02-10 - 公布日： 2022-04-19 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供一种靶材组件的加工方法，所述加工方法包括如下步骤：(1)靶材原料依次经锻伸处理、第一热处理和冷锻处理，得到第一靶材；(2)所述第一靶材依次经第二热处理、静压处理和压延处理，得到第二靶材；(3)所述第二靶材依次经第三热处理和机加工，得到半成品靶材；(4)所述半成品靶材与背板进行热等静压焊接处理，得到靶材组件。本发明所述加工方法中热等静压焊接处理的温度低，压力高，可以得到焊接结合率高的靶材组件，适合大规模工业化生产。
一种组件加工方法

[发明专利]一种靶材组件的制备方法-CN202210434925.1在审
发明人：姚力军;潘杰;王学泽;李闯;范文新;周伟君 -专利权人：广东江丰电子材料有限公司
申请日： 2022-04-24 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： B24C9/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种靶材组件的制备方法，所述靶材组件的制备方法包括如下步骤：(1)准备靶材、背板和保护板；(2)对步骤(1)所述靶材依次进行粗铣、精铣、抛光处理、遮蔽处理以及喷砂处理，得到处理后的靶材；(3)对步骤(2)所得处理后靶材焊接至背板，以形成靶材组件；步骤(2)所述遮蔽处理包括将保护板固定设置于靶材的非溅射面上。本发明提供的靶材组件的制备方法通过提供保护板解决了喷砂对于抛光后的靶材带来的影响，且保护板可以循环使用，节省了制备成本。
一种组件制备方法

[发明专利]一种钽靶材的制造方法-CN201310379942.0有效
发明人：姚力军;赵凯;相原俊夫;大岩一彦;潘杰;王学泽;袁海军 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2013-08-27 - 公布日： 2017-06-30 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供了一种钽靶材的制造方法。包括，先对钽锭进行热锻处理，之后对所述热锻处理后的钽锭进行一次退火工艺，形成第一钽靶材坯料；对所述第一钽靶材坯料进行轧制处理，形成第二钽靶材坯料；对所述第二钽靶材坯料进行二次退火工艺，获得钽靶材。采用上述技术方案形成钽靶材内部晶粒细小，钽靶材内部结构均匀，有效避免钽靶材内部出现分层等缺陷，从而提高后续使用过程中，钽靶材的溅射速率，以及形成的钽薄膜质量。
一种钽靶材制造方法

[实用新型]旋转靶材及磁控溅射装置-CN202020701972.4有效
发明人：任丹丹;朱成顺;蒋雷 -专利权人：成都中电熊猫显示科技有限公司
申请日： 2020-04-30 - 公布日： 2021-04-06 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型提供一种旋转靶材及磁控溅射装置。旋转靶材包括背管、设置在背管内的磁芯以及围设在背管外侧的靶材，靶材包括回镀部以及靶材主体部，回镀部对应于靶材使用时将会产生杂质聚集的区域，回镀部位于靶材主体部的长度方向两端部；回镀部的侧方外轮廓的尺寸小于靶材主体部的侧方外轮廓的尺寸本实用新型能够减轻旋转靶材杂质聚集的程度，延长旋转靶材的使用寿命，减少镀膜过程中断的次数，使设备稼动率升高。
旋转磁控溅射装置

[实用新型]防开裂的旋转靶材总成-CN202122201582.8有效
发明人：周昭宇;周志宏;肖世洪;雷雨;汪政军 -专利权人：广州市尤特新材料有限公司
申请日： 2021-09-10 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型涉及旋转靶材加工领域，具体涉及一种防开裂的旋转靶材总成。本实用新型提供一种防开裂的旋转靶材总成，包括背管和至少两段旋转靶材管，这些旋转靶材管轴向排列，套在背管外侧，随背管一同绕背管轴线旋转，旋转靶材管内径大于背管外径，相邻的两段旋转靶材管间隔有足够距离。该防开裂的旋转靶材总成，其旋转靶材管不容易开裂，旋转靶材总成使用寿命长，且无需为绑定工序耗费更多的时间，生产效率高。
开裂旋转总成

[发明专利]钼靶材的制作方法-CN201210260409.8有效
发明人：姚力军;相原俊夫;大岩一彦;潘杰;王学泽;宋佳 -专利权人：宁波江丰电子材料有限公司
申请日： 2012-07-25 - 公布日： 2014-02-12 - 主分类号： B22F3/16 文献下载
摘要：一种钼靶材的制作方法，包括：提供钼粉末；采用静压工艺将钼粉末进行第一次致密化处理，形成第一钼靶材坯料；将第一钼靶材坯料放入包套并抽真空；采用冷等静压工艺将包套内的第一钼靶材坯料进行第二次致密化处理，形成第二钼靶材坯料；第二次致密化处理后，去除包套，采用感应烧结工艺将第二钼靶材坯料进行第三次致密化处理，形成第三钼靶材坯料；第三次致密化处理后，采用热轧工艺将第三钼靶材坯料进行轧制，形成第四钼靶材坯料；热轧工艺后，对第四钼靶材坯料进行退火处理形成钼靶材采用本发明提供的钼靶材的制作方法，能够制作出全致密度钼靶材，钼靶材的内部组织结构的均匀性和晶粒尺寸、纯度和表面尺寸满足要求越来越高的溅射工艺。
钼靶材制作方法

[发明专利]靶材组件的制作方法-CN201110445396.7有效
发明人：潘杰;姚力军;王学泽;潘靖 -专利权人：余姚康富特电子材料有限公司
申请日： 2011-12-27 - 公布日： 2012-07-04 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供了一种靶材组件的制作方法，其包括以下步骤：提供铝靶材；对铝靶材表面进行酸蚀处理；对铝靶材表面进行第一次酸洗处理；对铝靶材表面进行第一次浸锌处理；对铝靶材表面进行第二次酸洗处理；对铝靶材表面进行第二次浸锌处理；利用化学镀工艺，在铝靶材表面上形成金属镀层；将形成有金属镀层的铝靶材焊接至背板，以形成靶材组件。本发明在将铝靶材与背板焊接之前，包括对铝靶材表面进行酸蚀处理、两次酸洗处理、两次浸锌处理，使得化学镀工艺中形成的金属镀层与铝靶材表面具有更好的结合力。然后再利用金属镀层作为中间媒介，使得铝靶材与背板焊接后实现二者的牢固结合，具有较高的结合强度。
组件制作方法

[发明专利]一种专用于半导体器件的PLD镀膜装置-CN202310430531.3有效
发明人：戴建波;孙文彬 -专利权人：无锡邑文电子科技有限公司
申请日： 2023-04-21 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： C23C14/28 文献下载
摘要：本发明属于专用于半导体器件的PLD镀膜技术领域，具体涉及一种专用于半导体器件的PLD镀膜装置，包括靶材安装机构、激光发射机构和镀膜基底机构，靶材安装机构包括：具有若干开孔的靶材基座，用于安装靶材的若干靶材安装座，膜厚仪；靶材安装机构还包括：若干靶材角度调节器，其与若干靶材安装座一一对应，且其第一端转动连接在对应的靶材安装座上，其第二端铰接在靶材基座上；若干柔性连接器，其与若干靶材安装座一一对应，且其一端连接在所述靶材安装座上本发明能够实现单独精密调节单个靶材的溅射角度，保证了每次溅射的一致性，并能实时根据检测的膜厚调整靶材的溅射角度，利于提升沉积膜层厚度均匀性。
一种专用半导体器件 pld 镀膜装置

[实用新型]一种靶材组件-CN202021279910.5有效
发明人：何建进;陈江伟;何凌男 -专利权人：苏州精美科光电材料有限公司
申请日： 2020-07-02 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种靶材组件，包括背板和靶材组，背板设有位于中部的凸起部和两侧的平整部，靶材组包括设于凸起部的第一子靶材和设于平整部上的第二子靶材；第一子靶材和第二子靶材的上表面保持平齐；背板的焊合表面设有低熔点的第一焊料层，靶材组的焊合表面从内到外依次设有等离子喷涂界面层和低熔点的第二焊料层，背板远离靶材的一面设置有承载板，导磁片设置在第二子靶材与承载板对应的位置。本实用新型通过设置导磁片以及具有凸起部和平整部的背板，从而使得第一子靶材与第二子靶材消耗速度的差距处于一定的范围内，从而延长矩形平面靶材使用寿命，降低生产成本，提高靶材的使用效率，并且具有较佳的接合附着能力
一种组件

[实用新型]一种靶材组件取放器-CN202222170010.2有效
发明人：陈强;童许樑 -专利权人：绍兴中芯集成电路制造股份有限公司
申请日： 2022-08-18 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： B25B27/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种靶材组件取放器，靶材组件包括背板、靶材本体以及安装于背板上的固定杆，取放器包括本体，本体的两个相对端分别设有夹持部，夹持部用于夹持住固定杆。本实用新型所设计的靶材组件取放器可用于PVD设备上对靶材组件的拆装，利用靶材组件取放器上的夹持部将固定杆夹持住，搬运靶材组件时，双手握住靶材组件取放器的本体进行发力，由于靶材组件取放器的本体远比固定杆的手持部面积大，更容易抓住且手部不易脱力，在实际使用时，一组靶材组件上可安装一对靶材组件取放器，两人各自握住一个靶材组件取放器向上抬起对靶材组件进行拆装，相比于现有技术中仅靠手握固定杆抬起更加稳定，避免了搬运过程中意外掉落造成靶材的损坏
一种组件取放器

[发明专利]一种制备柔性衬底薄膜的磁控溅射装置-CN201510876661.5在审
发明人：彭寿;姚婷婷;金克武;张宽翔;杨勇;蒋继文;曹欣;徐根保 -专利权人：凯盛光伏材料有限公司;中国建筑材料科学研究总院;蚌埠玻璃工业设计研究院
申请日： 2015-12-03 - 公布日： 2016-03-02 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开一种制备柔性衬底薄膜的磁控溅射装置，包括基片与靶材，所述靶材包括上靶材与下靶材，两个靶材上下相对设置；上靶材的上部与下靶材的下部设有在两个靶材之间形成磁场的磁体，磁场方向与靶材垂直；所述基片垂直设置于两个靶材的外侧；溅射过程中，二次电子飞出靶面后，被靶材阴极的电场加速，电子受磁场束缚向阳极运动，并被有效的封闭在两个靶极之间作洛仑兹运动，形成柱状等离子体，电子能量耗尽后，最终沉积在基片上；由于该电子的能量很低，基片温升较低并且使得薄膜有效避免了离子损伤，同时，薄膜是由靶材离子散射和热分解沉积得到，因此薄膜在室温中沉积，避免柔性衬底在传统磁控溅射过程中烧糊，变形等损坏，保证薄膜质量。
一种制备柔性衬底薄膜磁控溅射装置

[发明专利]一种平面靶材的制备方法-CN202211159806.6在审
发明人：张蛟;徐国军;刘丽红;蒋明伟 -专利权人：安徽狄拉克新材料科技有限公司;宣城先进光伏技术有限公司
申请日： 2022-09-22 - 公布日： 2022-12-09 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及靶材加工技术领域，具体涉及一种平面靶材的制备方法，包括：对背板进行粗化处理；背板上喷涂打底层；将背板安装到靶材生长冷却导柱上；将材料加热得到靶材熔液，并将靶材熔液浇注到坩埚内；当背板温度达到200℃时，将靶材生长冷却导柱缓慢下降，打底层接触到靶材熔液液面后停止下降；当背板温度达到低于材料熔点10℃时，靶材生长冷导柱向上拉伸，靶坯重量达到目标重量后，得到靶坯；冷却液持续给背板降温，当背板温度降低至300℃后缓慢降低冷却液温度，背板温度降至50℃以下后取出靶材，将靶材冷却至室温后进行机加工，本发明通过本方法制备的靶材利用率高，可承受高功率密度磁控溅射，靶材密度高接近理论密度。
一种平面制备方法

[实用新型]一种制备柔性衬底薄膜的磁控溅射装置-CN201520990901.X有效
发明人：彭寿;姚婷婷;金克武;张宽翔;杨勇;蒋继文;曹欣;徐根保 -专利权人：凯盛光伏材料有限公司;中国建筑材料科学研究总院;蚌埠玻璃工业设计研究院
申请日： 2015-12-03 - 公布日： 2016-04-06 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开一种制备柔性衬底薄膜的磁控溅射装置，包括基片与靶材，所述靶材包括上靶材与下靶材，两个靶材上下相对设置；上靶材的上部与下靶材的下部设有在两个靶材之间形成磁场的磁体，磁场方向与靶材垂直；所述基片垂直设置于两个靶材的外侧；溅射过程中，二次电子飞出靶面后，被靶材阴极的电场加速，电子受磁场束缚向阳极运动，并被有效的封闭在两个靶极之间作洛仑兹运动，形成柱状等离子体，电子能量耗尽后，最终沉积在基片上；由于该电子的能量很低，基片温升较低并且使得薄膜有效避免了离子损伤，同时，薄膜是由靶材离子散射和热分解沉积得到，因此薄膜在室温中沉积，避免柔性衬底在传统磁控溅射过程中烧糊，变形等损坏，保证薄膜质量。
一种制备柔性衬底薄膜磁控溅射装置

[发明专利]溅镀设备及溅镀方法-CN201310133001.9在审
发明人：许民庆;储培鸣 -专利权人：上海和辉光电有限公司
申请日： 2013-04-17 - 公布日： 2014-10-22 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：一种溅镀设备及溅镀方法，溅镀设备包括：腔体；旋转靶材机构，设置在所述腔体中部，所述旋转靶材机构的相反两侧能够设置第一靶材和第二靶材；所述旋转靶材机构包括旋转轴，并能够绕着所述旋转轴旋转；以及密封机构，设置在所述旋转靶材机构的两侧，用于与所述旋转靶材机构和所述腔体耦合以将所述腔体隔离成两个密封的腔室，所述两个腔室用于在其中分别设置第一基板和第二基板，其中所述旋转靶材机构包括相对设置的第一靶材固定件和第二靶材固定件，用于固定所述第一靶材和第二靶材本发明的溅镀设备和溅镀方法具有旋转靶材机构，因此能够在同一腔体中同时溅镀两种镀膜，实现了连续溅镀，提高溅镀效率。
设备方法

[发明专利]真空状态下靶材厚度的检测方法-CN201811307206.3在审
发明人：张诚 -专利权人：三河市衡岳真空设备有限公司
申请日： 2018-11-05 - 公布日： 2019-03-15 - 主分类号： G01B7/06 文献下载
摘要：本发明提供了一种真空状态下靶材厚度的检测方法，该检测方法包括：制定自检溅射工艺，其中溅射功率和工艺气体压强被设置为固定值；溅射设备和靶材首次配合使用时，启动溅射设备执行自检溅射工艺对靶材进行溅射直至靶材被击穿，记录执行过程中电压电流参数和靶材的厚度之间的对应关系，若靶材是导电靶材则电压电流参数是溅射电压和/或溅射电流，若靶材是不导电靶材则电压电流参数是射频溅射工艺产生的直流偏压；在溅射设备和靶材再次配合使用的过程中，当需要对靶材的厚度进行检测时启动溅射设备执行自检溅射工艺，在获得稳定的电压电流参数后根据电压电流参数和对应关系确定靶材的厚度。实施本发明可以在真空状态下快速准确地检测出靶材的厚度。
靶材电压电流参数溅射设备溅射真空状态检测自检对靶压强导电靶材工艺气体关系确定溅射电压溅射功率射频溅射直流偏压不导电击穿记录制定