专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种适用于连续镀膜生产的长寿命多弧-CN202020783003.8有效
  • 朱建明 - 肇庆市科润真空设备有限公司
  • 2020-05-12 - 2021-02-26 - C23C14/32
  • 本实用新型公开一种适用于连续镀膜生产的长寿命多弧,包括引弧装置、阳极装置和旋转式电弧装置;旋转式电弧装置包括环形弧旋转驱动机构,环形弧设于旋转驱动机构的输出端,引弧装置和阳极装置分别设于环形弧相对的两面外侧本适用于连续镀膜生产的长寿命多弧由于采用了旋转式的电弧装置可有效延长的连续使用寿命,可较好地应用于连续镀膜、长时间工作的生产线上,同时,由于环形弧在镀膜过程中是处于不断旋转的状态,因此溅射弧光不会固守在同一的同一固定范围内,在旋转过程中对环形弧进行不断冷却,可达到较好的冷却效果,较大程度减少多弧液粒的产生,从而改善镀膜效果。
  • 一种适用于连续镀膜生产寿命多弧靶
  • [发明专利]再生溅镀及其制作方法-CN200910008926.4无效
  • 王子文;詹智尧;廖浩嘉 - 光洋应用材料科技股份有限公司
  • 2009-02-12 - 2010-08-18 - C23C14/34
  • 本发明是一种再生溅镀及其制作方法。该方法包括提供一回,其含有一背面、一溅镀蚀面及一周缘,该溅镀蚀面包含至少一溅镀蚀面沟槽;在该回的背面进行机械加工前处理;在该回的溅镀蚀面上及其溅镀蚀面沟槽内以及回的周缘覆盖与该回的组成成分相同的原料粉末,并进行预压及烧结的处理,以获得该再生溅镀。本发明能控制该再生溅镀内的回比重,使得第一次回成分的比重逐渐下降,达到汰旧换新,并保持该再生溅镀的质量。
  • 再生溅镀靶材及其制作方法
  • [实用新型]钨钼平面放置架-CN201320056354.9有效
  • 王正革;赵士刚 - 洛阳高新四丰电子材料有限公司
  • 2013-02-01 - 2013-07-17 - C23C14/34
  • 本实用新型涉及一种钨钼平面放置架,包括支撑架、卡座及卡槽,沿的长度方向,的左端、右端及中部各设置一个支撑架,支撑架上设置有卡座,卡座上设置有卡槽,卡槽宽度比的厚度大2-3mm。本实用新型是沿的长度方向设置三个支撑架,在支撑架上设置立式的卡槽,沿的宽度方向,将侧立起来,然后放进支撑架上的立式卡槽内,从而实现将钨钼平面立式放置,且沿的长度方向,左中右三点支撑,可有效的防止的弯曲变形,保证材能够正常的使用。
  • 平面放置
  • [发明专利]一种利用率高的离子源溅射靶装置及其使用方法-CN201710176088.6在审
  • 刘伟基;冀鸣;陈蓓丽 - 中山市博顿光电科技有限公司
  • 2017-03-22 - 2017-06-23 - C23C14/34
  • 本发明涉及离子源溅射技术领域,更具体地,涉及一种利用率高的离子源溅射靶装置及其使用方法,该装置包括背板及可拆卸地设于所述背板上的第一、第二、第三及第四;所述四个均为矩形结构,且四个呈田字形结构拼接在一起本发明一种利用率高的离子源溅射靶装置,通过设置四个,并将四个可拆卸地呈田字形结构拼接于背板上,使得离子源第一次溅射后能重新调整四个拼接时的相对位置,使用离子源再次进行溅射,重复位置调整及离子源溅射的工作直至每个的四个角均被使用为止,该装置不但能大幅度提高的利用率,降低生产成本,而且能保证材料沉积速率的稳定性,保证制造的薄膜不受污染。
  • 一种利用率离子源溅射装置及其使用方法
  • [实用新型]一种利用率高的离子源溅射靶装置-CN201720287616.0有效
  • 刘伟基;冀鸣;陈蓓丽 - 中山市博顿光电科技有限公司
  • 2017-03-22 - 2017-10-10 - C23C14/34
  • 本实用新型涉及离子源溅射技术领域,更具体地,涉及一种利用率高的离子源溅射靶装置,包括背板及可拆卸地设于所述背板上的第一、第二、第三及第四;所述四个均为矩形结构,且四个呈田字形结构拼接在一起本实用新型一种利用率高的离子源溅射靶装置,通过设置四个,并将四个可拆卸地呈田字形结构拼接于背板上,使得离子源第一次溅射后能重新调整四个拼接时的相对位置,使用离子源再次进行溅射,重复位置调整及离子源溅射的工作直至每个的四个角均被使用为止,该装置不但能大幅度提高的利用率,降低生产成本,而且能保证材料沉积速率的稳定性,保证制造的薄膜不受污染。
  • 一种利用率离子源溅射装置
  • [发明专利]溅射装置-CN201610859100.9在审
  • 李楚 - 深圳市华星光电技术有限公司
  • 2016-09-28 - 2017-02-01 - C23C14/35
  • 本发明公开了一种溅射装置,其包括镀膜腔体,包括平行面对的顶壁和底壁;第一安装座,设置于镀膜腔体内的上半部分且其安装面朝向顶壁;第一基板安装座,设置于第一安装座与顶壁之间且其基板放置面朝向第一安装座的安装面;第二安装座,设置于镀膜腔体内的下半部分且其安装面朝向底壁;第二基板安装座,设置于第二安装座与底壁之间且其基板放置面朝向第二安装座的安装面。本发明的溅射装置具有背向排列设置的孪生安装座,每个安装座上安装的单独控制和形成一块被镀膜基板的等离子体(Plasma)区域,极大提高成膜均匀性及可控性,此外两块被镀膜同时成膜,大大提高溅射装置的镀膜效率
  • 溅射装置
  • [发明专利]喷砂设备-CN202110865613.1在审
  • 林东东;黎品英;韦晗 - 柳州呈奥科技有限公司
  • 2021-07-29 - 2021-10-22 - B24C3/18
  • 本发明公开了一种喷砂设备,包括:一对支撑轴,一对支撑轴同轴设置于的两端,用于支撑;机座,一对支撑轴可旋转地设置于机座上;旋转驱动机构,旋转驱动机构连接至其中一个支撑轴,以驱动其中一个支撑轴相对于其中一个支撑轴的轴线旋转,进而带动自转;喷砂机构,其包括喷砂枪,喷砂枪设置于机座上,喷砂枪具有内侧端面,内侧端面均匀布置有多个喷砂孔,内侧端面为圆弧形面,且圆弧形面的圆心位于其中一个支撑轴的轴线上,一对喷砂枪分别位于其中一个支撑轴的轴线的两侧本发明可以提高对于的喷砂处理的效率,避免出现漏喷的情况,可以降低喷砂面的粗糙度偏差,改善喷砂质量。
  • 喷砂设备
  • [发明专利]加工装置以及加工方法-CN201410369827.X有效
  • 姚力军;潘杰;相原俊夫;大岩一彦;王学泽;周建军 - 合肥江丰电子材料有限公司
  • 2014-07-30 - 2018-04-13 - C23C14/34
  • 本发明提供一种加工装置以及加工方法,加工装置包括包括加工面、背面、定位孔,加工装置包括夹具、压板,压板包括与的背面相配合的第一面,以及与第一面相对的第二面,第二面开设有贯穿压板的固定孔,固定孔与至少一部分定位孔的位置相对应;压板的第二面用于安置固定件,以与相固定。加工方法包括提供装配于夹具中的压板,压板与相配合的面为第一面,与第一面相对的一面为第二面;在压板的第二面开设固定孔,使固定孔的位置与的至少一部分孔的位置相对应;通过固定件将固定装配于压板上;对固定于压板上的进行加工。本发明的有益效果在于,提升的对的加工精度。
  • 加工装置以及方法
  • [实用新型]一种可自动翻面的金属表面抛光装置-CN202121208483.6有效
  • 孔伟华;吴雪松;高延红 - 江苏迪纳科精细材料股份有限公司
  • 2021-06-01 - 2021-11-30 - B24B29/02
  • 本实用新型公开了一种可自动翻面的金属表面抛光装置,涉及到抛光装置领域,包括机体和固定板座,机体的顶部为工作台面,工作台面的上表面中部开设有翻面槽口,翻面槽口的两侧均设有轴承座,呈板状体的固定板座的两侧设有转轴与两个轴承座相转接本实用新型通过启动翻面驱动电机对固定板座进行传动,达到对固定板座上所固定的金属进行翻面,控制第二电磁液压缸的伸缩杆伸长,直至顶压头与固定板座的下表面相抵触,对固定板座的支撑,保证固定板座上所固定金属的打磨精度,控制第一电磁液压缸的伸缩杆伸长,使辅助支撑盘与金属底部抵触支撑,对金属底部辅助支撑。
  • 一种自动金属表面抛光装置

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