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[发明专利]微蚀溶液促进剂、制备方法、终端设备及计算机存储介质-CN202310749801.7在审
发明人：陈兴权;蔡良胜;曾剑珍;陈阳;蔡绪开;陈健 -专利权人：深圳市虹喜科技发展有限公司
申请日： 2023-06-21 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本申请公开了一种微蚀溶液促进剂、制备方法、终端设备及计算机存储介质，涉及微蚀溶液技术领域，本申请微蚀溶液促进剂由下述组份组成：硫酸镍5份～20份，硫酸羟胺1份～10份，水70份～94份。本申请中的微蚀溶液促进剂能够令铜微蚀溶液在保持内部过硫酸盐含量不变的情况，大幅提高对覆铜板的微蚀速率，同时，减少在对覆铜板的微蚀过程中产生的铜离子带出损耗。从而令技术人员可以在铜微蚀溶液内的铜离子含量达到50g/l之后再更换铜微蚀溶液，达到了减少对铜微蚀溶液进行更换而产生的损耗和成本的技术效果，进而节约过硫酸盐。
溶液促进剂制备方法终端设备计算机存储介质

[发明专利]一种高铜含量的有机酸超粗化微蚀液及其应用-CN202210580531.7在审
发明人：陈修宁;王立中;李晨庆;黄志齐;王淑萍 -专利权人：深圳市板明科技股份有限公司
申请日： 2022-05-26 - 公布日： 2022-06-28 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种高铜含量的有机酸超粗化微蚀液及其应用，涉及印制线路板处理技术领域。该有机酸超粗化微蚀液包括以下质量浓度成分：来自铜离子源的二价铜离子10～70g/L，有机酸10～180g/L，来自氯离子源的氯离子5～80g/L，络合剂5～90g/L，多羟基化合物0.0005～2g/L本发明通过铜络合剂、多羟基化合物的创新，使有机酸超粗化微蚀液的铜含量可达到50g/L以上,并且高铜含量下铜表面粗化形貌均匀、板面颜色均匀，不会产生铜盐的结晶析出。
一种含量有机酸超粗化微蚀液及其应用

[发明专利]一种低损黑孔微蚀液及其制备方法和应用-CN202210235760.5在审
发明人：夏金良;饶猛 -专利权人：上海富柏化工有限公司;深圳市松柏实业发展有限公司;珠海松柏科技有限公司
申请日： 2022-03-10 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本申请涉及印制电路板加工技术领域，尤其涉及一种低损黑孔微蚀液及其制备方法和应用。所述的低损黑孔微蚀液，由如下重量千分比的组分组成：硫酸30‑50‰、H2O2 8‑10‰、护铜组分0.8‑1.2‰、分散剂本申请通过上述配比的低损黑孔微蚀液，有效剥除了铜面黑孔导电材料的同时，减少了铜面的损耗，且所剥落的黑孔导电材料不易反粘在铜面上，从而保障了PCB板的表面性能和良品率。
一种低损黑孔微蚀液及其制备方法应用

[发明专利]具有密封结构的微蚀液处理沉淀槽-CN201210304523.6无效
发明人：韦建敏;赵兴文;张晓蓓;张小波 -专利权人：成都虹华环保科技有限公司
申请日： 2012-08-24 - 公布日： 2014-03-12 - 主分类号： B01D21/02 文献下载
摘要：发明公开了一种具有密封结构的微蚀液处理沉淀槽，包括内部开有空腔的方形槽体（2），方形槽体（2）任意平面外壁底部还设有与方形槽体（2）内部连通的微蚀液进口管（1）和排污管（10），具有密封结构的微蚀液处理沉淀槽还包括槽盖
具有密封结构微蚀液处理沉淀

[实用新型]具有密封结构的微蚀液处理沉淀槽-CN201220423802.X有效
发明人：韦建敏;赵兴文;张晓蓓;张小波 -专利权人：成都虹华环保科技有限公司
申请日： 2012-08-24 - 公布日： 2013-01-23 - 主分类号： B01D21/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种具有密封结构的微蚀液处理沉淀槽，包括内部开有空腔的方形槽体（2），方形槽体（2）任意平面外壁底部还设有与方形槽体（2）内部连通的微蚀液进口管（1）和排污管（10），具有密封结构的微蚀液处理沉淀槽还包括槽盖
具有密封结构微蚀液处理沉淀

[实用新型]一种硫酸铜铜离子回收装置-CN202021188959.X有效
发明人：张宏伟 -专利权人：浙江富浦线缆有限公司
申请日： 2020-06-24 - 公布日： 2021-01-29 - 主分类号： C25C7/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种硫酸铜铜离子回收装置，包括自动添加槽和管路：其特征是所述自动添加槽包含双氧水槽和硫酸槽，所述自动添加槽通过管路连接有微蚀槽，所述微蚀槽通过管路连接有溢流槽，所述溢流槽通过管路连接有用后液槽，所述用后液槽通过管路并联有调整槽，所述用后液槽还通过管路连接有处理槽，所述处理槽包含循环槽和电解槽；所述电解槽上安装有提升机构；所述微蚀槽和循环槽中还安装有搅拌机构。
一种硫酸铜离子回收装置

[发明专利]一种pcb板生产用银浆贯孔前清洗装置及其清洗工艺-CN202111510942.0在审
发明人：王黎辉;陈伟;徐克平 -专利权人：杭州宝临印刷电路有限公司
申请日： 2021-12-11 - 公布日： 2022-03-29 - 主分类号： H05K3/26 文献下载
摘要：本发明提供了一种pcb板生产用银浆贯孔前清洗装置，包括工作台，所述工作台上设置有箱体，所述箱体内侧设置有磨板组件，所述磨板组件用于印刷银浆的铜表面进行磨刷，所述磨板组件的一侧设置有微蚀组件，所述微蚀组件用于印刷银浆的铜表面进行粗化，所述微蚀组件的一侧设置有超声波清洗组件，所述超声波清洗组件的一侧设置有水洗组件，所述水洗组件的一侧设置有风干组件；通过对需印刷银浆的铜表面进行磨刷清除铜面氧化层，使用腐蚀液对铜表面进行腐蚀，从而在铜的表面形成蜂窝状的小凹坑
一种 pcb 生产用银浆贯孔前清洗装置及其工艺

[发明专利]使用了两层型防反射膜的光致抗蚀剂图形的形成方法-CN200580040348.2有效
发明人：畑中真 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2005-11-01 - 公布日： 2007-10-31 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种在半导体器件制造的光刻工序中、使用能用光致抗蚀剂用显影液进行显影的防反射膜、形成光致抗蚀剂和防反射膜都为矩形形状的图形的方法。本发明通过提供下述光致抗蚀剂图形的形成方法解决了上述课题，即，一种光致抗蚀剂图形的形成方法，其包括形成可溶于光致抗蚀剂用显影液的第1防反射膜的工序；在上述第1防反射膜上形成可溶于光致抗蚀剂用显影液并且对光致抗蚀剂用显影液的溶解速度比上述第1防反射膜小的第2防反射膜的工序；在上述第2防反射膜上形成光致抗蚀剂的工序；对由上述第1防反射膜、上述第2防反射膜和上述光致抗蚀剂被覆的半导体基板进行曝光的工序；和利用光致抗蚀剂用显影液进行显影的工序。
使用两层型防反射光致抗蚀剂图形形成方法

[发明专利]纯铜及铜合金的表面CEO处理液、CEO处理工艺及其工艺应用-CN202011101412.6有效
发明人：严风光;吴玉星 -专利权人：深圳市优智航科技有限公司
申请日： 2020-10-14 - 公布日： 2023-03-03 - 主分类号： C23F1/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种纯铜及铜合金的表面CEO处理液、CEO处理工艺及其工艺应用，所述工艺包括以下步骤：铜基材前处理、CEO微蚀氧化及后处理；所述CEO微蚀氧化具体为：将铜基材浸泡在所述的CEO处理液中，温度控制在55～60℃，铜基材的活性表面进行微蚀和氧化，最终表面形成具有特殊微观结构、棕色至黑色的转化膜。经过CEO处理形成的转化膜使铜金属外部的微表面积显著增加，极大地提高了铜金属的表面粘合性能，既能作为胶水或涂料进行表面涂覆的粘接层，又可用于与工程塑料一体化成型的表面结合层。
铜合金表面 ceo 处理工艺及其应用

[发明专利]微蚀处理系统及相关设备-CN201410050962.8有效
发明人：幸锐敏;崔怀磊;苏怀昌;姜海星;张喜龙 -专利权人：深南电路有限公司
申请日： 2014-02-13 - 公布日： 2017-12-01 - 主分类号： C23F1/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种微蚀处理系统及相关设备，以解决现有的微蚀处理厚度均匀性较差的技术问题。本发明实施例微蚀处理系统用于电路板垂直生产线，包括主槽和副槽以及循环装置；其中，副槽内的微蚀药剂在泵浦的作用下，经底部循环管道进入喷射管，经喷射管上的喷射孔喷射进入主槽内，用于对主槽内的板件进行微蚀；主槽内的微蚀药剂经顶部循环管道向副槽回流本发明技术方案可大大提高微蚀处理后板件的厚度均匀性，实践表明，对于各种厚度的板件，采用本发明微蚀处理系统微蚀处理后，有利于将其表面厚度的极差控制在3微米以内。
处理系统相关设备

[实用新型]一种带有摇摆式喷淋结构的化学前处理装置-CN201821902643.5有效
发明人：周强村;刘海峰;晏放雄 -专利权人：龙宇电子（梅州）有限公司
申请日： 2018-11-19 - 公布日： 2019-07-19 - 主分类号： B05B13/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种带有摇摆式喷淋结构的化学前处理装置；属于化学前处理设备技术领域；其技术要点包括微蚀室和设置在微蚀室内的胶轮输送线，沿胶轮输送线前进方向的微蚀室内间隔均布有若干隔板；在相邻两块隔板之间的胶轮输送线上方和下方分别设有摇摆架，在摇摆架上设有喷淋板，在喷淋板内成形有中空的储液腔，在喷啉板与胶轮输送线相对的板面上分布有若干与储液腔相导通的喷嘴；各摇摆架与隔板相对的端面上均设有滑轮，在隔板上设有与滑轮相配合的导轨；各摇摆架连接有水平摆动机构，水平摆动机构连接有控制单元；本实用新型旨在提供一种结构紧凑、使用方便且效果良好的带有摇摆式喷淋结构的化学前处理装置；用于覆铜板的微蚀。
隔板输送线摇摆架胶轮微蚀前处理装置喷淋结构摇摆式水平摆动机构本实用新型储液腔喷淋板滑轮前处理设备技术要点室内间隔喷嘴覆铜板中空的成形导轨导通均布室内配合

[发明专利]一种基于微通道器件的等离子体制备装置及制备方法-CN202211286243.7在审
发明人：邓志刚;周维民;袁宗强;单连强 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2022-10-20 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于微通道器件的等离子体制备装置及制备方法，涉及等离子体制备领域。所述制备装置包括烧蚀激光发射器和微通道器件，其中，烧蚀激光发射器用于发射烧蚀激光，微通道器件用于引导烧蚀激光传输；微通道器件上设有设定尺寸的中心孔；烧蚀激光的焦点与微通道器件的中心孔对准，且烧蚀激光与微通道器件同轴；烧蚀激光用于烧蚀微通道器件的管壁，产生等离子体。本发明通过烧蚀激光烧蚀微通道器件的管壁制备等离子体，利用微通道器件约束激光发散，引导激光长距离传输，从而诱发等离子体在通道管内横向填充，同时抑制等离子体纵向膨胀，能够获得状态均匀、具有陡峭上升沿的小尺寸近临界密度等离子体
一种基于通道器件等离子体制备装置方法

[发明专利]一种高耐腐蚀性的铝型材的加工工艺-CN202111667135.X在审
发明人：索有喜;周兵锋 -专利权人：广东润华轻合金有限公司
申请日： 2021-12-31 - 公布日： 2022-04-01 - 主分类号： C25D11/08 文献下载
摘要：本发明涉及铝型材的加工技术，具体涉及一种高耐腐蚀性的铝型材的加工工艺，本发明调整微蚀液的成分，对铝型材进行微蚀，在铝型材表面形成微孔结构便于后续的喷涂时提高基地与喷涂层的结合力，本发明通过微蚀去除天然生成的氧化膜
一种腐蚀性铝型材加工工艺

[发明专利]抗蚀图案的形成方法及显影液-CN201080019592.1有效
发明人：东野诚司;近重幸 -专利权人：株式会社德山
申请日： 2010-05-20 - 公布日： 2012-04-11 - 主分类号： G03F7/32 文献下载
摘要：本发明提供一种抗蚀图案的形成方法及抗蚀剂用显影液，所述抗蚀图案的形成方法包括如下工序：抗蚀膜形成工序：在基板上形成含有特定的杯芳烃衍生物的抗蚀膜；潜像形成工序：使所述抗蚀膜选择性地曝光于高能射线、形成图案的潜像；及显影工序：用含有选自由含氟烷基醚以及含氟醇组成的组中的至少一种的含氟溶剂的显影液将没有曝光于高能射线的抗蚀膜的部分除去，由此对所述潜像进行显影；以上述含氟溶剂作为抗蚀剂用显影液。
图案形成方法显影液

[发明专利]液浸曝光工艺用抗蚀剂材料以及使用该抗蚀剂材料的抗蚀剂图案形成方法-CN200480005913.7无效
发明人：岩下淳;平山拓;立川俊和 -专利权人：东京応化工业株式会社
申请日： 2004-03-04 - 公布日： 2006-04-05 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：本发明提供含有树脂成分和该树脂成分的交联剂成分，且上述交联剂成分对液浸介质难溶的液浸曝光工艺用负性抗蚀剂材料，以及使用该材料的抗蚀剂图案形成方法。由此在液浸曝光工艺中，即使在平板印刷曝光的光达到抗蚀剂膜的路径的至少上述抗蚀剂膜上，介在折射率比空气高且折射率比上述抗蚀剂膜低的规定厚度的液体的状态下进行曝光，来提高抗蚀剂图案的分辨率的液浸曝光工艺中，可以同时防止液浸曝光中的抗蚀剂膜变质和使用液体的变质，可以形成用液浸曝光的高分辨率抗蚀剂图案。
曝光工艺用抗蚀剂材料以及使用抗蚀剂图案形成方法