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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]高频信号传输覆铜板用粗化微蚀液及其应用-CN202311197947.1在审
发明人：王立中;黄志齐;李晨庆 -专利权人：昆山市板明电子科技有限公司
申请日： 2023-09-18 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种高频信号传输覆铜板用粗化微蚀液及其应用，属于铜制印刷线路板用微蚀剂技术领域。该粗化微蚀液包括具有特定浓度的下列组分：能够提供二价铜离子的铜离子源、能够提供氯离子的氯离子源、能够提供酸性环境的无机酸、多元醇、席夫碱和水，其通过多元醇与具有特定结构的席夫碱配合使用，能促进铜表面形成一种凸出低、微孔粗化均匀的独特的微观形貌，其中铜表面凸出低，有利于高频电子信号传送，信号损失小，提高信号传输完整性；通过均匀的微孔的锚嵌作用，可以确保铜表面与阻焊油墨之间具有较高的附着力，从而能够保障加工过程的品质与良率。
高频信号传输铜板用粗化微蚀液及其应用

[发明专利]一种铜铁碳合金金相浸蚀剂及其使用方法-CN202210132238.4有效
发明人：郭炜 -专利权人：江西省科学院应用物理研究所;郭炜
申请日： 2022-02-15 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种铜铁碳合金金相浸蚀剂及其使用方法，所述浸蚀剂组分及重量百分比为：乙酸：5～30％，氯化钠：1～3％，硫酸钠：0.5～2％，余量为水；其使用方法为：对铜铁碳合金试样采用粗粒、中粒、细粒水砂纸进行打磨后，采用研磨膏抛光，清洗并吹干后浸入上述浸蚀剂中，浸蚀剂温度保持在15～35℃，浸入深度为1～3mm，浸入时间为20～50s，试样取出后依次用去离子水、无水乙醇清洗并吹干，用金相显微镜对微观组织进行观察记录。本发明采用弱酸和盐类配制浸蚀剂，金相组织的晶界和第二相显示效果良好，腐蚀均匀，相对于强酸和强氧化性铁盐配制的浸蚀剂，氧化性和腐蚀性低，不会造成环境污染和健康危害。
一种铜铁碳合金金相浸蚀及其使用方法

[发明专利]一种铜蚀刻液及制备方法和应用-CN202211073590.1有效
发明人：赵方方;李泰亨;王丹宇;白晓鹏;王泽;陈红波;董童威 -专利权人：易安爱富（武汉）科技有限公司
申请日： 2022-09-02 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明提出了一种铜蚀刻液及其制备方法和应用，所述铜蚀刻液包括磷酸、强氧化性酸、抑制剂、表面活性剂、分散剂和去离子水；所述分散剂为奈系磺酸盐、木质素磺酸盐、腐殖酸钠和聚羧酸盐中的一种或多种组合。本发明的铜蚀刻液性能稳定，可有效分散颗粒物，抑制有机物和铜离子团聚，使基板表面干净无污染，且能够保证具有较小的蚀刻锥角、较少的CDloss变化量。
一种蚀刻制备方法应用

[发明专利]一种HDI板用减铜添加剂和减铜工艺-CN202310929305.X在审
发明人：周煜;黄建东;章晓冬 -专利权人：上海天承化学有限公司
申请日： 2023-07-27 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种HDI板用减铜添加剂和减铜工艺，所述减铜添加剂包括：硫酸、双氧水稳定剂、针孔抑制剂、加速剂、抗氧化剂和水；所述针孔抑制剂包括卤化盐；所述加速剂包括胺类化合物和/或醇类化合物。所述减铜工艺包括采用减铜添加剂配制得到蚀刻液，然后采用所述蚀刻液对填孔板进行喷淋蚀刻，得到减铜后的填孔板。本发明提供的减铜添加剂能够在较宽氯离子浓度范围和较高铜离子浓度上限下维持蚀刻速率的稳定，并且抑制减铜后盲孔处以及铜面处针孔的产生。
一种 hdi 板用减铜添加剂工艺

[发明专利]一种剥挂架剥离液及制备方法和应用-CN202310965918.9在审
发明人：孙宇曦;宋慧琳;曾庆明 -专利权人：广东硕成科技股份有限公司
申请日： 2023-08-02 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种剥挂架剥离液，制备原料包括：50‑500g/L的硫酸，10‑150g/L的双氧水，0.1‑100g/L的剥挂架添加剂，溶剂为水；所述剥挂架添加剂选自络合剂、表面活性剂中至少包含络合剂的组合。本发明硫酸‑双氧水体系中通过加入本申请的络合剂，可以避免传统双氧水分解速率过快，性能不稳定的问题，并且剥铜和剥锡速率均可以控制在10‑20μm/min以上，可以提高生产效率，降低生产成本和废液处理成本。并且只需要调整剥挂架液的比例，可以获得不同的剥铜和剥锡速率，满足多工艺的需求，并且不含有硝酸等原料，不产生有害气体，符合环保要求。
一种挂架剥离制备方法应用

[发明专利]一种蚀刻液组合物及其制备方法-CN202111584490.0有效
发明人：卢燕燕;张丽燕 -专利权人：惠州达诚微电子材料有限公司
申请日： 2021-12-22 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明提供一种蚀刻液组合物及其制备方法，属于蚀刻液组合物领域。所述组合物包括：过氧化氢、络合剂、有机酸、盐酸、硝酸、无机盐、铜缓蚀剂、过氧化氢稳定剂和水。所述蚀刻液组合物具有蚀刻后的形貌良好，无存在残留，且对ITO无伤害，蚀刻速率的稳定性好，安全性好，过氧化氢稳定性好等优点。
一种蚀刻组合及其制备方法

[实用新型]一种刻蚀机的反应腔体结构-CN202321137139.1有效
发明人：高松;陈红霞;陈东 -专利权人：靖江新恒和半导体科技有限公司
申请日： 2023-05-12 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种刻蚀机的反应腔体结构，包括箱体，所述箱体顶端固定插设有注液管，所述箱体内顶部固定连接有过滤盒，所述过滤盒的一侧滑动插设有过滤板，所述过滤板上设有安装口，所述安装口内固定连接有过滤网，所述过滤板的一端贯穿箱体并向外延伸，所述过滤盒的底部固定插设有导液管，所述导液管的下方设有横杆，所述横杆上转动连接有转杆，所述转杆的外侧壁上固定连接有搅拌杆，所述箱体位于搅拌杆的正表面设有操作口，所述操作口的一侧铰接有密封门，本实用新型采用除杂组件能够对杂质进行剔除，且提升刻蚀工件与化学溶液的接触速率，降低反应的时间。
一种刻蚀反应结构

[发明专利]一种精密线路的酸性刻蚀液添加剂和酸性刻蚀液及其应用-CN202310771136.1在审
发明人：石宗武;周健;许航 -专利权人：深圳市点石源水处理技术有限公司
申请日： 2023-06-28 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种精密线路的酸性刻蚀液添加剂和酸性刻蚀液及其应用，涉及刻蚀技术领域。添加剂包括以下质量分数的组分：高分子成膜剂：1wt％‑10wt％；润湿分散剂：5wt％‑15wt％；水：余量。本发明添加剂在酸性刻蚀液中利用高分子成膜，与铜离子形成络合物附着在铜表面，联合性更强，线路间的底铜受流体扰动大容易破裂进而使得底铜被蚀刻液溶解，而吸附在线路侧壁上的膜由于受流体扰动较小，可以保护侧壁的铜，避免侵蚀，降低线路侧壁破膜被不规则蚀刻的风险，并且减少侧蚀提高蚀刻因子。
一种精密线路酸性刻蚀添加剂及其应用

[发明专利]蚀刻剂-CN202310183331.2在审
发明人：梁伸赫;金范洙;赵现洙;金有珍;金志训;尹暎晋;李恩远;姜东汉 -专利权人：三星显示有限公司;东友精细化工有限公司
申请日： 2023-03-01 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本申请提供了蚀刻剂。该蚀刻剂包括：过硫酸盐；含氟化合物；含氯化合物；环胺化合物；无机酸；硫酸盐；和水，其中蚀刻剂的尖端控制指数(Y)为至少约45.0且不大于约70.0的值，尖端控制指数(Y)是通过方程式1计算的值：方程式1Y＝1.0×10‑3×M(X1)+1.0×10‑1×M(X2)+5.0×10‑2×M(X3)+1.5×M(X1)×M(X2)+2.0×10‑1×M(X1)×M(X3)+2.0×10‑1×M(X2)×M(X3)，方程式1的描述如本说明书中所述。
蚀刻

[发明专利]蚀刻剂组合物以及使用蚀刻剂组合物制造金属图案和阵列衬底的方法-CN201911217843.6有效
发明人：金俸均;金镇奭;沈承辅;崔新革;金承熙;李栋熙;金奎佈;申贤哲;李大雨;李秉雄;李相赫 -专利权人：三星显示有限公司;株式会社东进世美肯
申请日： 2019-12-03 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本申请涉及蚀刻剂组合物，其包含过硫酸盐、四氮环化合物、二氯化合物、氟化合物和水，并且所述蚀刻剂组合物具有约1:0.5至约1:4的所述四氮环化合物与所述二氯化合物的重量比。所述蚀刻剂组合物可以蚀刻钛/铜的多层并且可以用于制造具有优异的蚀刻图案的性质的金属图案和阵列衬底。
蚀刻组合以及使用制造金属图案阵列衬底方法

[发明专利]微蚀溶液促进剂、制备方法、终端设备及计算机存储介质-CN202310749801.7在审
发明人：陈兴权;蔡良胜;曾剑珍;陈阳;蔡绪开;陈健 -专利权人：深圳市虹喜科技发展有限公司
申请日： 2023-06-21 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本申请公开了一种微蚀溶液促进剂、制备方法、终端设备及计算机存储介质，涉及微蚀溶液技术领域，本申请微蚀溶液促进剂由下述组份组成：硫酸镍5份～20份，硫酸羟胺1份～10份，水70份～94份。本申请中的微蚀溶液促进剂能够令铜微蚀溶液在保持内部过硫酸盐含量不变的情况，大幅提高对覆铜板的微蚀速率，同时，减少在对覆铜板的微蚀过程中产生的铜离子带出损耗。从而令技术人员可以在铜微蚀溶液内的铜离子含量达到50g/l之后再更换铜微蚀溶液，达到了减少对铜微蚀溶液进行更换而产生的损耗和成本的技术效果，进而节约过硫酸盐。
溶液促进剂制备方法终端设备计算机存储介质

[发明专利]蚀刻剂组合物和使用其的显示装置的制造方法-CN202310262294.4在审
发明人：金荣绿;朴圭淳;郑钟铉;曹雨辰;金奎佈;金成玟;金在明;申贤哲;金晙东;黄俊荣 -专利权人：三星显示有限公司;株式会社东进世美肯
申请日： 2023-03-17 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本申请提供了蚀刻剂组合物和使用其的显示装置的制造方法。蚀刻剂组合物包括约5.0wt％至约20.0wt％的过硫酸盐、约0.01wt％至约15.0wt％的磺酸、约0.01wt％至约2.0wt％的氟化合物、约0.01wt％至约5.0wt％的4‑氮环状化合物、约0.01wt％至约1.0wt％的包括具有至少两个碳原子的疏水基团的氨基酸和水。氨基酸与4‑氮环状化合物的重量比在约1:16至约1:60的范围内。
蚀刻组合使用显示装置制造方法

[发明专利]一种用于载板的快速蚀刻添加剂及其应用-CN202310775653.6在审
发明人：李初荣;陈洪;郝意;韦金宇 -专利权人：珠海市板明科技有限公司
申请日： 2023-06-28 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于载板的快速蚀刻添加剂及其应用，涉及印刷线路板生产技术领域。本发明的用于载板的快速蚀刻添加剂，由以下质量浓度的组分组成：稳定剂20‑60ppm，护岸剂50‑200ppm，加速剂5‑20ppm，铜面防氧化剂10‑30ppm，线路修复剂50‑120ppm，余量为去离子水。本发明的用于载板的快速蚀刻添加剂应用在载板或类载板上蚀刻时能保持蚀刻速率的稳定，快速地去除底铜并减少线路侧蚀量，最终达到线宽均匀和线路边缘平整的效果。
一种用于快速蚀刻添加剂及其应用

[发明专利]一种IC载板的铜面微蚀粗化液及其制备方法与应用-CN202310876781.X有效
发明人：郝意;李晨庆;王扩军 -专利权人：深圳市板明科技股份有限公司
申请日： 2023-07-18 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明公开一种IC载板的铜面微蚀粗化液及其制备方法与应用，涉及IC载板线路制作技术领域。该铜面粗化液由以下质量浓度组分组成：硫酸30‑150g/L，双氧水20‑60g/L，双氧水稳定剂2‑15g/L，有机醇1‑20 g/L，光亮剂1‑10g/L，表面活性剂1‑10g/L，余量为去离子水；双氧水稳定剂与有机醇的质量比为1：（0.5‑3）；光亮剂与表面活性剂的质量比为1：（0.5‑2.5）。本发明通过将双氧水稳定剂与有机醇进行复配从而达到稳定的蚀刻速率和均匀的粗化程度，将光亮剂与表面活性剂进行复配，保证铜面光亮洁净。本发明提供的微蚀粗化液蚀刻速率稳定、粗化程度均匀。
一种 ic 铜面微蚀粗化液及其制备方法应用

[发明专利]酸性蚀刻液用长效抑制侧蚀添加剂、制备方法及应用-CN202311013920.2在审
发明人：罗坤;李晨庆;赵玉兰;王立中;黄志齐 -专利权人：昆山市板明电子科技有限公司
申请日： 2023-08-14 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种酸性蚀刻液用长效抑制侧蚀添加剂、制备方法及应用，适用于氯酸盐酸性蚀刻液，属于蚀刻液用添加剂技术领域。该添加剂包括0.2‑2.0g/L润湿剂、2‑20g/L有机配位剂、4‑26g/L金属络合剂、15‑80g/L无机配位剂，并以水作为溶剂；其中润湿剂为丙二醇嵌段聚醚，有机配位剂为吡啶甲酰胺及其衍生物中的至少一种，金属络合剂为氧原子数为4‑6的冠醚，无机配位剂为水溶性钼酸盐。该添加剂用于氯酸盐酸性蚀刻液中，能够有效的抑制侧蚀，并且不降低原始蚀刻速度，保证生产产能；此外，该添加剂在蚀刻液中的性能长期有效且不易衰减。
酸性蚀刻长效抑制添加剂制备方法应用

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