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- [发明专利]抗蚀剂图案被覆用涂布液及图案的形成方法-CN201680018377.7有效
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西田登喜雄;坂本力丸
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日产化学工业株式会社
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2016-03-18
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2023-07-14
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G03F7/40
- 本申请的课题在于提供一种新的抗蚀剂图案被覆用涂布液。作为解决本发明课题的手段为一种抗蚀剂图案被覆用涂布液，其包含：具有下述式(1)所示的结构单元的聚合物，下述式(2)所示的伯胺、仲胺或叔胺，以及能够溶解上述聚合物和胺的下述式(3)所示的酯。[(式(1)中，R1表示氢原子或甲基，L表示可以具有至少1个取代基的二价的芳香族基团、‑C(＝O)‑O‑基或‑C(＝O)‑NH‑基，X表示氢原子、或者碳原子数1～10的直链状或支链状的烷基或烷氧基，该烷基中的至少1个氢原子可以被卤原子或羟基取代。)(式(2)中，R2、R3和R4各自独立地表示氢原子、羟基、或者碳原子数1～16的直链状、支链状或环状的有机基团。)(式(3)中，R5和R6各自独立地表示碳原子数1～16的直链状或支链状的有机基团。)]。
- 抗蚀剂图案被覆用涂布液形成方法
- [发明专利]含硅抗蚀剂下层膜形成用组合物-CN202210831769.2在审
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柴山亘;志垣修平;中岛诚;武田谕;若山浩之;坂本力丸
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日产化学工业株式会社
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2015-07-10
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2022-09-06
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G03F7/16
- 本发明的课题是提供在将上层抗蚀剂曝光并利用碱性显影液、有机溶剂进行显影时形成优异的抗蚀剂图案形状的抗蚀剂下层膜及其形成用组合物。本发明的解决方法是一种含有脂肪族多环结构的光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含作为硅烷的水解性硅烷、其水解物、其水解缩合物、或它们的组合，脂肪族多环结构是式(1)(式(1)中，R1是含有脂肪族多环结构且通过Si‑C键与Si原子结合的有机基团。R3表示乙氧基。a表示1，b表示0～2的整数，a+b表示1～3的整数。)所示的水解性硅烷具有的结构、或者以可具有双键、羟基、或环氧基的脂肪族多环化合物、脂肪族多环式二羧酸、或脂肪族多环式二羧酸酐的形式添加的化合物中包含的结构。R1aR2bSi(R3)4‑(a+b) 式(1)。
- 含硅抗蚀剂下层形成组合
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