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[发明专利]抗蚀剂图案的形成方法-CN200580046147.3有效
发明人：岩井武;岩下淳 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2005-11-08 - 公布日： 2008-01-02 - 主分类号： G03F7/26 文献下载
摘要：本发明的抗蚀剂图案的形成方法，是包括下述工序(i)～(ii)的抗蚀剂图案的形成方法：(i)使用正型抗蚀剂组合物在基板上形成第1抗蚀剂层，选择性地进行曝光，在该第1抗蚀剂层上形成密图案的潜像部的工序；(ii)使用负型抗蚀剂组合物在该第1抗蚀剂层上形成第2抗蚀剂层，选择性地进行曝光后，同时使第1抗蚀剂层和第2抗蚀剂层显像，使所述密图案的潜像部的一部分露出的工序；该抗蚀剂图案的形成方法的特征在于：作为所述负型抗蚀剂组合物，使用在不溶解第1抗蚀剂层的有机溶剂中溶解的负型抗蚀剂组合物。
抗蚀剂图案形成方法

[发明专利]采用浸渍溶剂的抗蚀剂组合物评价方法-CN200510137592.2有效
发明人：平山拓;羽田英夫;藤村悟史;岩井武;佐藤充;高须亮一;立川俊和;岩下淳;石塚启太;山田知孝;高山寿一;吉田正昭 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2004-01-27 - 公布日： 2006-07-12 - 主分类号： G01N33/00 文献下载
摘要：一种在包括浸渍曝光的抗蚀剂图案形成方法中使用的抗蚀剂组合物的评价方法，该方法包括：由抗蚀剂组合物形成抗蚀剂膜，将该膜选择性曝光，其后使在浸渍曝光中使用的浸渍溶剂与膜接触，将如此得到的膜曝光后烘焙，接着将膜显影，以及评价得到的抗蚀剂图案。
采用浸渍溶剂抗蚀剂组合评价方法

[发明专利]基于灵敏度的抗蚀剂组合物评价方法-CN200510137593.7有效
发明人：平山拓;羽田英夫;藤村悟史;岩井武;佐藤充;高须亮一;立川俊和;岩下淳;石塚启太;山田知孝;高山寿一;吉田正昭 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2004-01-27 - 公布日： 2006-07-12 - 主分类号： G01N33/00 文献下载
摘要：一种用于包括浸渍曝光步骤的抗蚀剂图案形成方法中的正性抗蚀剂组合物的适用性评价方法，如果当使用波长为193nm的光源通过通常的曝光光刻法形成130nm的1∶1线和间隔抗蚀剂图案时，其灵敏度称为X1，并且当使用波长为193nm的光源通过模拟浸渍光刻法形成相同的130nm的1∶1线和间隔抗蚀剂图案时，其灵敏度称为X2，并且如果[(X2/X1)－1]×100的绝对值不超过8.0，那么该抗蚀剂组合物被断定为是适用的，在所述模拟浸渍光刻法中，在常规曝光光刻法的选择性曝光步骤和曝光后烘焙(PEB)步骤之间插入有使用于所述浸渍光刻的溶剂与所述抗蚀剂膜接触的步骤。还提供了负性抗蚀剂组合物的适用性评价方法。
基于灵敏度抗蚀剂组合评价方法

[发明专利]液浸曝光工艺用浸渍液及使用该浸渍液的抗蚀剂图案形成方法-CN200480005910.3无效
发明人：平山拓;佐藤充;胁屋和正;岩下淳;吉田正昭 -专利权人：东京応化工业株式会社
申请日： 2004-03-04 - 公布日： 2006-04-05 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种浸渍液，是通过液体将抗蚀剂膜曝光的液浸曝光工艺用浸渍液，由对曝光工艺中使用的曝光光透明、其沸点为70－270℃的含氟类液体构成；以及一种抗蚀剂图案形成方法，包括将上述浸渍液直接配置在抗蚀剂膜或保护膜上的工序。可同时防止液浸曝光中的抗蚀剂膜等膜的变质及使用液体的变质，形成采用液浸曝光的高分辨力抗蚀剂图案。
曝光工艺浸渍使用抗蚀剂图案形成方法

[发明专利]液浸曝光工艺用抗蚀剂材料以及使用该抗蚀剂材料的抗蚀剂图案形成方法-CN200480005913.7无效
发明人： 岩下淳;平山拓;立川俊和 -专利权人：东京応化工业株式会社
申请日： 2004-03-04 - 公布日： 2006-04-05 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：本发明提供含有树脂成分和该树脂成分的交联剂成分，且上述交联剂成分对液浸介质难溶的液浸曝光工艺用负性抗蚀剂材料，以及使用该材料的抗蚀剂图案形成方法。由此在液浸曝光工艺中，即使在平板印刷曝光的光达到抗蚀剂膜的路径的至少上述抗蚀剂膜上，介在折射率比空气高且折射率比上述抗蚀剂膜低的规定厚度的液体的状态下进行曝光，来提高抗蚀剂图案的分辨率的液浸曝光工艺中，可以同时防止液浸曝光中的抗蚀剂膜变质和使用液体的变质，可以形成用液浸曝光的高分辨率抗蚀剂图案。
曝光工艺用抗蚀剂材料以及使用抗蚀剂图案形成方法

[发明专利]抗蚀剂组合物-CN200480002955.5有效
发明人：平山拓;羽田英夫;藤村悟史;岩井武;佐藤充;高须亮一;立川俊和;岩下淳;石塚启太;山田知孝;高山寿一;吉田正昭 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2004-01-27 - 公布日： 2006-03-01 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：提供抗蚀剂组合物和使用该抗蚀剂组合物形成抗蚀剂图案的方法，所述抗蚀剂组合物对于在浸渍光刻法中使用的溶剂是稳定的，并表现出优异的灵敏度和抗蚀剂图案轮廓。该抗蚀剂组合物符合预定的参数，或者是正性抗蚀剂组合物，所述正性抗蚀剂组合物包括含有可酸解溶解抑制基团并表现出在酸作用下碱溶解性增加的树脂组分(A)、酸生成剂组分(B)和有机溶剂(C)，其中所述组分(A)包含衍生自含可酸解溶解抑制基团的(甲基)丙烯酸酯的结构单元(a1)，但所述组分(A)不包含结构单元(a0)，而所述结构单元(a0)又包括含二羧酸酐的结构单元(a0－1)和含酚羟基的结构单元(a0－2)。
抗蚀剂组合

[发明专利]正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法-CN02821757.8有效
发明人：羽田英夫;藤村悟史;岩下淳 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2002-11-29 - 公布日： 2005-02-09 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供一种正型光刻胶组合物，其是通过在一种有机溶剂(C)中溶解(A)一种在主链中具有衍生自(甲基)丙烯酸酯的单元的树脂组分，对于该树脂，其在碱中的溶解度在酸的作用下增大，和(B)一种通过曝光生成酸的酸生成剂组分而形成的，其中树脂组分(A)是一种共聚物，其包含(a1)衍生自包含含有可酸离解的、溶解抑制基团的多环基团的(甲基)丙烯酸酯的单元，(a2)衍生自包含含有内酯的单环基团或多环基团的(甲基)丙烯酸酯的单元，(a3)衍生自包含含有羟基的多环基团的(甲基)丙烯酸酯的单元，和(a4)衍生自包含不同于单元(a1)，单元(a2)和单元(a3)的多环基团的(甲基)丙烯酸酯的单元。此组合物提供一种化学放大正型光刻胶组合物，其显示优异的分辨率，并且可以提高隔离光刻胶图像的聚焦范围的深度和可以抑制邻近效应。
光刻组合图案形成方法