专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种金属格栅的制备方法-CN201811011979.7有效
  • 韩强;王峰;何凯;李晶 - 金堆城钼业股份有限公司
  • 2018-08-31 - 2021-11-05 - B22F9/14
  • 本发明公开了一种金属格栅的制备方法,该方法包括:一、将粉末依次经冷等静压、高温烧结、热精锻和矫直处理得到棒;二、采用等离子旋转电极制粉设备将棒加工球形粉;三、以球形粉为原料,采用粉末床电子束3D打印机制备金属格栅成型件,然后依次经退火、热等静压处理和碱洗得到金属格栅。本发明将粉末制备球形粉,然后采用粉末床电子束3D打印机制备得到金属格栅,利用球形粉流动性好,颗粒致密均匀,快速熔融后紧密结合且电子束的热量较高的特点,克服了金属强度高、塑性低、极易氧化、成型性能差、难以加工复杂结构件和功能件的缺点,提高了金属格栅的规格和使用性能,节约了制备成本。
  • 一种金属格栅制备方法
  • [发明专利]膜装置、膜基板制造方法及膜基板-CN201110358373.2无效
  • 岩田宽 - 住友重机械工业株式会社
  • 2011-11-11 - 2012-06-06 - C23C14/34
  • 本发明的目的在于提供一种可膜当利用激光划线法来进行图案形成时能够适当地被去除的层的膜装置、膜基板制造方法及膜基板。本发明的膜装置在膜室(11B)内,从基板输送方向(D)的上游侧遍及下游侧产生惰性气体的压力梯度。该压力梯度以上游侧的惰性气体的压力增大且下游侧的惰性气体的压力减小的方式形成。通过在产生这种压力梯度的膜室(11B)内实施层的膜,从而能够膜从基板侧遍及表面侧形成有金属密度梯度的层。就该金属密度梯度而言,在层的膜厚方向上,以密度随着从表面侧接近基板侧而减小的方式形成密度梯度。若对具有这种密度梯度的层应用激光划线法,则能够适当地去除层。
  • 装置成膜基板制造方法
  • [发明专利]一种高纯高活性球及制备方法-CN201310166089.4有效
  • 盛小刚;盛国大;陈卫文;殷小东 - 常州市茂盛特合金制品有限公司
  • 2013-05-07 - 2013-09-04 - C22C29/12
  • 本发明公开了一种制备所述高纯高活性球的方法,包括a)选择500-600℃下焙烧的活性氧化为原料,经磨料至5mm以下,进行分级配料,筛选出0-3mm的活性氧化,以及3-5mm的活性氧化,然后将两者混匀,作为原料;b)向步骤a)所得的混匀原料加水调湿,配水量占原料的2-12%,选择中性的糖浆作粘结剂,加入量占原料的0-5%,通过常温高压球,球温度为10-40℃,球压力120-180t。本发明制得的球具有不易粉化的特点,用于含钼钢种冶炼过程中进行直接合金化,替代铁合金,提高金属的收得率并大幅度降低合金化成本,克服现有技术合金化存在的成本高、收得率低等问题。
  • 一种高纯活性制备方法
  • [发明专利]电光源用窄带的制备方法-CN201010250451.2无效
  • 吴彦 - 吴彦
  • 2010-08-11 - 2012-03-14 - B21B1/22
  • 本发明公开了一种电光源用窄带的制备方法,包括采用丝经冷轧窄带的生产过程,其特征是在丝经冷轧窄带的生产过程中,其参数控制如下:a、丝的预处理:轧制过程中进行再结晶退火;b、温轧开坯:开坯温度在950℃至1000℃;c、冷轧:窄带的冷加工率分为:成品冷轧总加工率和中间冷轧总加工率,中间冷轧总加工率控制在60%;d、消除应力退火:窄带的退火温度在850~1100℃内。本发明提供的电光源用窄带的制备方法,劳动生产率高、成品率高,窄带不仅内部质量好、没有分层、裂纹等缺陷,而且表面光洁。
  • 光源窄带制备方法
  • [发明专利]一种低钾大粒度粉的制造方法-CN202210776412.9有效
  • 肖俊虎;韩珍珍;杨伟;熊峰 - 成都虹波实业股份有限公司
  • 2022-07-04 - 2023-01-31 - B22F9/22
  • 本发明公开了一种低钾大粒度粉的制造方法,步骤包括准备原料低钾三氧化;将S1步骤中的低钾三氧化还原二氧化;在S2步骤中的二氧化中含有挥发性物质的溶液,然后进行烘干处理得到粉末;将S3步骤中的粉末还原粉本发明以低钾的低钾三氧化(K≤30ppm)为原料,通过在二氧化中添加一种可挥发性物质,达到生产低钾大粒度粉的目的。最终使得粉中的K含量小于10ppm,粉粒度可以根据产品需求控制在2.0~7.0um之间,粉颗粒均匀分散,粉过筛率达到90%以上,成品率高。
  • 一种低钾大粒度制造方法
  • [发明专利]精矿短流程制备高纯度含硫产物的方法-CN202110392785.1有效
  • 车玉思;孙院军;张石明;宋建勋;张超;何季麟 - 郑州大学
  • 2021-04-13 - 2022-08-02 - C01B17/04
  • 精矿短流程制备高纯度含硫产物的方法,具体包括:精矿原料与三氧化原料按比例混合,在第一温度下反应,生成高浓度二氧化硫和二氧化;生成的高浓度二氧化硫进一步生产为含硫产物;其中,第一温度设定为550~精矿短流程制备高纯度含硫产物的方法能够直接生成高浓度的二氧化硫,理论浓度值可到100%,进一步通过碳质还原剂将高浓度二氧化硫还原硫磺,利用方便,提高了二氧化硫的应用价值,高浓度二氧化硫还可以进一步制备硫酸,有效降低了硫酸生产成本;高浓度二氧化硫还可以进一步制备液态二氧化硫;二氧化还可以进一步氧化为三氧化,生成的三氧化可以作为精矿短流程制备高纯度含硫产物的原料,实现其循环利用。
  • 精矿流程制备纯度产物方法

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