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- [发明专利]成膜装置以及成膜方法-CN202210690104.4在审
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佐藤功康
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佳能特机株式会社
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2018-12-20
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2022-09-02
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C23C14/24
- 本发明涉及成膜装置和成膜方法。成膜装置具备掩模储备装置和输送机器人，进行将蒸镀材料蒸镀到基板上的蒸镀处理，掩模储备装置在其内部具备第一盒、第二盒以及升降机构，在将在蒸镀处理中使用前的掩模从第一盒送出时，利用升降机构使第一盒和第二盒升降，以使从第一盒送出的掩模的支承部来到掩模输送口的高度，使由设置于第一盒的多个支承部中的配置在下方的支承部支承的掩模在先地按照从下方到上方的顺序送出掩模，在将在蒸镀处理中使用后的掩模送入第二盒时，利用升降机构使第一盒和第二盒升降
- 装置以及方法
- [发明专利]成膜方法及成膜装置-CN202080076110.X在审
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佐藤英儿;坂本仁志
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新烯科技有限公司
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2020-11-02
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2022-06-21
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C23C16/455
- 一种成膜方法，其是在成膜对象(1)上进行CVD膜(4)和ALD膜(5)的成膜的成膜方法。在进行ALD膜的成膜的ALD处理中，重复实施2次以上ALD循环，所述ALD循环包括：第一工序，其使配置有成膜对象的反应容器(20)充满经由第一供给管(100)导入的原料气体；第二工序，其在第一工序后将原料气体从反应容器排出在进行CVD膜的成膜的CVD处理中，至少实施1次ALD循环，且第二工序在使原料气体残留于反应容器的气相中的状态下结束。
- 方法装置
- [发明专利]成膜装置以及成膜方法-CN202111412037.1在审
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小畑雄治;冈部庸之
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东京毅力科创株式会社
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2021-11-25
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2022-06-10
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C23C16/455
- 本发明提供一种能够以高精度检测基板附近的压力的成膜装置以及成膜方法。根据本发明的一个方式的成膜装置具有:处理容器,其能够对内部进行减压；喷头,其用于向上述处理容器内供给气体,该喷头包括形成有多个气体孔的下部件、以及在与该下部件之间形成用于使上述气体扩散的扩散空间的上部件；载置台,其与上述喷头相对配置,并且在与上述喷头之间形成处理空间；升降机构,其用于使上述载置台进行升降；筒状部,其贯通上述喷头而与上述处理空间连通；以及压力传感器,其以气密的方式设于上述筒状部的内部,用于对上述处理空间的压力进行测定
- 装置以及方法
- [发明专利]成膜装置及成膜方法-CN202180027330.8在审
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坂爪崇宽
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信越化学工业株式会社
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2021-03-22
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2022-12-02
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H01L21/365
- 本发明是一种成膜装置，其至少具备：雾化部，其雾化原料溶液而产生雾；连接于所述雾化部、并输送含有所述雾的载气的配管；输送向含有所述雾的载气中混合、并以1种以上的气体为主成分的添加用流体的至少一根以上的配管；与成膜部连接、并输送将含有所述雾的载气和所述添加用流体混合后的混合雾流体的配管；连接部件，其连接输送含有所述雾的载气的配管、输送所述添加用流体的配管、以及输送所述混合雾流体的配管；以及成膜部，其对所述雾进行热处理而在基体上进行成膜，通过所述连接部件连接的、输送所述添加用流体的配管与输送所述混合雾流体的配管所成的角是120度以上。由此，提供一种能够应用成膜速度优异的雾化CVD法的成膜装置。
- 装置方法
- [发明专利]成膜装置和成膜方法-CN202210681604.1在审
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佐佐木和男;町山弥;齐藤均;佐佐木芳彦
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东京毅力科创株式会社
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2022-06-15
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2022-12-27
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C23C16/455
- 本发明提供提高生产率的成膜装置和成膜方法。成膜装置对基板进行ALD成膜，具备处理腔室，其具有：旋转滚筒，将基板保持于与旋转轴线平行的保持侧面；主体部，收纳旋转滚筒，具有：多个处理室，与保持侧面相对，具有与旋转轴线平行的方向成为长度方向的长条状的处理空间；排气部，配置到多个处理室的各个之间，多个处理室至少包括：原料气体吸附室，使原料气体吸附于基板；等离子体反应室，从反应气体生成与原料气体反应的等离子体，具备：框体；长条状的金属窗，由与保持侧面相对且在等离子体反应室的长度方向以第1间隔配置成直线状的多个分割窗构成，配置为在沿着长度方向延伸的边上以与框体之间具有比第1间隔宽的第2间隔；矩形线圈天线。
- 装置方法
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